（Re-10359・10360）次世代放射光施設のビームライン用軟Ｘ線反射鏡の製作【掲載期間：2021年09月21日～2021年11月14日】

（Re-10359・10360） 次世代放射光施設のビームライン用軟Ｘ線反射鏡の製作【掲載期間：2021年09月21日～2021年11月14日】 - 1 -入 札 公 告次のとおり一般競争入札に付します。 令和3年9月21日国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構財務部長 和泉 圭紀◎調達機関番号 804 ◎所在地番号 12○第23号１ 調達内容(1) 品目分類番号 24(2) 購入等件名及び数量①次世代放射光施設の蓄積リング用セラミック真空チェンバの製作 一式②次世代放射光施設のビームライン用軟X線反射鏡の製作 一式③次世代放射光施設のビームライン用軟X線ラミナー型回折格子の製作 一式(3) 調達件名の特質等 入札説明書による。 (4) 納入期限 入札説明書による。 (5) 納入場所 入札説明書による。 (6) 入札方法 落札決定に当たっては、入札書に記載された金額に当該金額の10パーセントに相当する額を加算した金額(当該金額に１円未満の端数があるときは、その端数金額を切り捨てる- 2 -ものとする。 )をもって落札価格とするので、入札者は、消費税及び地方消費税に係る課税事業者であるか免税事業者であるかを問わず、見積もった契約金額の110分の100に相当する金額を入札書に記載すること。 ２ 競争参加資格(1) 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構契約事務取扱細則第１０条の規定に該当しない者であること。 ただし、未成年者、被保佐人又は被補助人であって、契約締結のために必要な同意を得ている者については、この限りでない。 (2) 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構契約事務取扱細則第１１条第１項の規定に該当しない者であること。 (3) 令和3年度に国の競争参加資格(全省庁統一資格)を有している者であること。 なお、当該競争参加資格については、令和3年3月31日付け号外政府調達第60号の官報の競争参加者の資格に関する公示の別表に掲げる申請受付窓口において随時受け付けている。 (4) 調達物品に関する迅速なアフターサービス・メンテナンスの体制が整備されていることを証明した者であること。 - 3 -(5) 当機構から取引停止の措置を受けている期間中の者でないこと。 ３ 入札書の提出場所等(1) 入札書の提出場所、契約条項を示す場所、入札説明書の交付場所及び問い合わせ先〒263-8555 千葉市稲毛区穴川４－９－１国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 財務部 契約課 電話 043-206-3014E-mail:nyuusatsu_qst@qst.go.jp(2) 入札説明書の交付方法 本公告の日から入札書受領期限の前日17：00までの間において上記3(1)の交付場所にて交付する。 また、電子メールでの交付を希望する者は必要事項(調達番号、件名、住所、社名、担当者所属及び氏名、電話番号)を記入し3(1)のアドレスに申し込むこと。 ただし、交付は土曜,日曜,祝日及び年末年始(12月29日～1月3日)を除く平日に行う。 (3) 入札説明会の日時及び場所 開催しない。 (4) 入札書の受領期限令和3年11月15日17時00分(5) 開札の日時及び場所令和3年11月29日 ①13時30分②14時30分③15時30分 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 本部(千葉地区) 会議室- 4 -４ その他(1) 契約手続において使用する言語及び通貨日本語及び日本国通貨。 (2) 入札保証金及び契約保証金 免除。 (3) 入札者に要求される事項 この一般競争に参加を希望する者は、封印した入札書に本公告に示した物品を納入できることを証明する書類を添付して入札書の受領期限までに提出しなければならない。 入札者は開札日の前日までの間において、当機構から当該書類に関し説明を求められた場合は、それに応じなければならない。 (4) 入札の無効 本公告に示した競争参加資格のない者の提出した入札書、入札者に求められる義務を履行しなかった者の提出した入札書、その他入札説明書による。 (5) 契約書作成の要否 要。 (6) 落札者の決定方法 本公告に示した物品を納入できると契約責任者が判断した入札者であって、国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構が作成した予定価格の制限の範囲内で最低価格をもって有効な入札を行った入札者を落札者とする。 (7) 手続における交渉の有無 無。 - 5 -(8) その他 詳細は入札説明書による。 なお、入札説明書等で当該調達に関する環境上の条件が定められている場合は、十分理解した上で応札すること。 ５ Summary(1) Official in charge of disbursement of the pro-curing entity : IZUMI Yoshinori, Director ofDepartment of Financial Affairs, National Insti-tutes for Quantum and Radiological Science andTechnology. (2) Classification of the products to be procured :24(3) Nature and quantity of the products to be pur-chased :①Manufacture of ceramic vacuum chamber f-or Advanced Synchrotron Light Source Stor-age Ring 1set②Manufacturing of soft X-ray mirrors for Ad-vanced Synchrotron Light Source Beamlines1set③Manufacturing of soft X-ray laminar-typegratings for Advanced Synchrotron Light SourceBeamlines 1set(4) Delivery period : As shown in the tender- 6 -Documentation(5) Delivery place : As shown in the tender Doc-umentation(6) Qualifications for participating in the tenderingprocedures : Suppliers eligible for participatingin the proposed tender are those who shall :A not come under Article 10 of the Regulationconcerning the Contract for National Insti-tutes for Quantum and Radiological Scienceand Technology, Furthermore, minors, Per-son under Conservatorship or Person underAssistance that obtained the consent neces-sary for concluding a contract may be appli-cable under cases of special reasons withinthe said clause,B not come under Article 11(1) of the Regula-tion concerning the Contract for National In-stitutes for Quantum and Radiological Sci-ence and Technology,C have qualification for participating in ten-ders by Single qualification for every ministryand agency during fiscal 2021D prove to have prepared a system to providerapid after-sale service and maintenance for- 7 -the procured products,E not be currently under a suspension of busi-ness order as instructed by National Insti-tutes for Quantum and Radiological Scienceand Technology. (7) Time limit of tender :5:00 PM, 15, November, 2021(8) Contact point for the notice : Contract Section,National Institutes for Quantum and RadiologicalScience and Technology, 4-9-1 Anagawa, Inage-ku, Chiba-shi 263-8555 JAPAN(TEL.043-206-6262, E-mail: nyuusatsu_qst@qst.go.jp)(9) Please be noted that if it is indicated that en-vironmental conditions relating to the procure-ment are laid down in its tender documents. 1 / 12次世代放射光施設のビームライン⽤軟X線反射鏡の製作仕様書国⽴研究開発法⼈量⼦科学技術研究開発機構2 / 123 / 12軟X線超⾼分解能共鳴⾮弾性散乱(RIXS)ビームライン(02U)⽤反射鏡で、円筒鏡(M02M0)、ベント⽤円筒鏡(M02M1)、偏⾓可変平⾯鏡(M02M2)で構成される。 使⽤するエネルギー範囲は250〜2000 eVである。 ① 円筒鏡(M02M0)、1個② ベント⽤円筒鏡(M02M1)、1個③ 偏⾓可変平⾯鏡(M02M2)、1個① 円筒鏡(M02M0)概要M02M0は、サジタル集光円筒鏡で、蓄積リングを上から⾒た時、⽔平⾯内時計回り(CW)⽅向へ偏向させる。 反射鏡側⾯を⽔冷する。 仕様1. 表 1に仕様の詳細を⽰す。 2. ⽔冷するため⻑⼿⽅向側⾯部を研磨すること。 3. クランプするため⻑⼿⽅向側⾯部を溝加⼯すること。 ② ベント⽤円筒鏡(M02M1)概要M02M1は、タンジェンシャル集光円筒鏡で、⽔平⾯内反時計周り(CCW)⽅向へ偏向させる。 ベントにより曲率を変化させて利⽤する。 反射鏡側⾯を⽔冷する。 M02M1はM02M0と＋−配置となる。 仕様1. 表 1に仕様の詳細を⽰す。 2. ⽔冷するため⻑⼿⽅向側⾯部を研磨すること。 3. クランプするため⻑⼿⽅向側⾯部を溝加⼯すること。 4. ベントによる均⼀な曲率を実現するため、±50μｍの精度の厚さにすること。 また、表 1中の有効領域①の外側の300 mm×50 mmの領域(表 1中の領域②)は形状誤差10μｍPV以下の精度で円筒形状とすること。 5. コーティングを⾦(Au)とシリコン(Si)で塗り分ける。 なお、Siは基板の研磨⾯⾃体(コーティングなしの場合)とする。 ③ 偏⾓可変⽤平⾯鏡(M02M2)概要M02M2は、回折格⼦の偏⾓を適宜設定するための偏⾓可変⽤平⾯鏡で、光の進⾏⽅向上向きに偏向させる。 反射鏡側⾯を⽔冷する。 仕様1. 表 1に仕様の詳細を⽰す。 2. ⽔冷するため⻑⼿⽅向側⾯部を研磨すること。 3. クランプするため⻑⼿⽅向側⾯部を溝加⼯すること。 4 / 12軟X線ナノ光電⼦分光ビームライン(ARPES)ビームライン(06U)⽤反射鏡で、円筒鏡(M06M0)、円筒鏡(M06M1)、偏⾓可変⽤平⾯鏡(M06M2)、円筒鏡(M06M3)で構成される。 使⽤するエネルギー範囲は50〜1000 eVである。 ① 円筒鏡(M06M0)、1個② 円筒鏡(M06M1)、1個③ 偏⾓可変⽤平⾯鏡(M06M2)、1個④ 円筒鏡(M06M3)、2個① 円筒鏡(M06M0)概要M06M0は、タンジェンシャル集光円筒鏡で、⽔平⾯内CCW⽅向へ偏向させるとともに、⽔平⽅向に集光させる。 反射鏡側⾯を液体窒素冷却する。 熱負荷による影響を軽減するためにコーティングを3種類の物質で塗り分ける。 仕様1. 表 2に仕様の詳細を⽰す。 2. コーティングを、⾦(Au)、チタン(Ti)、シリコン(Si)で塗り分ける。 なお、Siは基板の研磨⾯⾃体(コーティングなしの場合)とする。 3. 液体窒素冷却するため⻑⼿⽅向側⾯部を研磨すること。 4. クランプするため⻑⼿⽅向側⾯部を溝加⼯すること。 ② 円筒鏡(M06M1)概要M06M1 は、サジタル⽅向に平⾏光を⽣成する円筒鏡で、⽔平⾯内 CCW ⽅向へ偏向させる。 反射鏡側⾯を⽔冷する。 M06M1はM06M0と＋＋配置となる。 仕様1. 表 2に仕様の詳細を⽰す。 2. ⽔冷するため⻑⼿⽅向側⾯部を研磨すること。 3. クランプするため⻑⼿⽅向側⾯部を溝加⼯すること。 ③ 偏⾓可変⽤平⾯鏡(M06M2)概要M06M2は、回折格⼦の偏⾓を適宜設定するための偏⾓可変⽤平⾯鏡で、光の進⾏⽅向上向きに偏向させる。 反射鏡側⾯を⽔冷する。 仕様1. 表 2に仕様の詳細を⽰す。 2. ⽔冷するため⻑⼿⽅向側⾯部を研磨すること。 3. クランプするため⻑⼿⽅向側⾯部を溝加⼯すること。 ④ 円筒鏡(M06M3)概要M06M3 は、M06M0 で⽣成した平⾏光を鉛直⽅向に対して集光するサジタル集光円筒鏡で、同⼀仕様のM06M3を互いに向かい合わせて配置し、分散光を⽔平⾯内CCW⽅向(Aブラン5 / 12チ)及びCW⽅向(Bブランチ)に振り分ける。 仕様表 2に仕様の詳細を⽰す。 軟X線ナノ吸収分光(XMCD)ビームライン(13U)⽤反射鏡で、円筒鏡(M13M0)、円筒鏡(M13M1)、偏⾓可変⽤平⾯鏡(M13M2)で構成される。 使⽤するエネルギー範囲は180〜3000 eVである。 ① 円筒鏡(M13M0)、1個② 円筒鏡(M13M1)、1個③ 偏⾓可変⽤平⾯鏡(M13M2)、1個① 円筒鏡(M13M0)概要M13M0はサジタル集光円筒鏡で、⽔平⾯内CCW⽅向へ偏向させる。 反射鏡側⾯を⽔冷する。 仕様1. 表 3に仕様の詳細を⽰す。 2. ⽔冷するため⻑⼿⽅向側⾯部を研磨すること。 3. クランプするため⻑⼿⽅向側⾯部を溝加⼯すること。 ② 円筒鏡(M13M1)概要M13M1はタンジェンシャル集光円筒鏡で、⽔平⾯内CCW⽅向へ偏向させる。 反射鏡側⾯を⽔冷する。 熱負荷による影響の軽減及び反射率向上に資するためにコーティングを 3 種類の物質で塗り分ける。 M13M1はM13M0と＋＋配置となる。 仕様1. 表 3に仕様の詳細を⽰す。 2. コーティングを、⾦(Au)、パラジウム(Pd)、シリコン(Si)で塗り分ける。 なお、Siは基板の研磨⾯⾃体(コーティングなしの場合)とする。 3. ⽔冷するため⻑⼿⽅向側⾯部を研磨すること。 4. クランプするため⻑⼿⽅向側⾯部を溝加⼯すること。 ③ 偏⾓可変⽤平⾯鏡(M13M2)概要M13M2は、回折格⼦の偏⾓を適宜設定するための偏⾓可変⽤平⾯鏡で、光の進⾏⽅向上向きに偏向させる。 反射鏡側⾯を⽔冷する。 反射率向上に資するためにコーティングを3種類の物質で塗り分ける。 仕様1. 表 3に仕様の詳細を⽰す。 2. コーティングをAu、Pd、Siで塗り分ける。 なお、Siは基板の研磨⾯⾃体(コーティングなしの場合)とする。 3. ⽔冷するため⻑⼿⽅向側⾯部を研磨すること。 6 / 124. クランプするため⻑⼿⽅向側⾯部を溝加⼯すること。 下記のとおり2回に分けて納品すること。 ① 02U⽤反射鏡偏⾓可変平⾯鏡(M02M2)、1個② 06U⽤反射鏡円筒鏡(M06M0)、1個偏⾓可変⽤平⾯鏡(M06M2)、1個③ 13U⽤反射鏡円筒鏡(M13M1)、1個偏⾓可変⽤平⾯鏡(M13M2)、1個④ 02U⽤反射鏡円筒鏡(M02M0)、1個ベント⽤円筒鏡(M02M1)、1個⑤ 06U⽤反射鏡円筒鏡(M06M1)、1個円筒鏡(M06M3)、2個⑥ 13U⽤反射鏡円筒鏡(M13M0)、1個① 員数試験員数が本仕様書に記載されているとおりであることを確認する。 ② 外観試験外観に機能を害するような傷、⽋落、打こん、変形等がないことを⽬視により確認する。 ③ ⼨法試験試験検査要領書に記載された指定の箇所の⼨法をノギス、直尺等で計測し、公差内であることを確認する。 ④ 表⾯試験光学素⼦仕様表に⽰されている空間周波数で表⾯試験を⾏い、試験結果を電⼦ファイルで提出すること。 7 / 12計測⼿法、温度、湿度環境、計測順序、平均化処理、帯域制限処理等の詳細については別途協議の上決定する。 ① CAD図⾯：Autodesk AutoCAD LT(dwg、dxf)及びAdobe Acrobat(pdf)② CAD図⾯以外：Microsoft Office(docx、xlsx、pptx)⼜はAdobe Acrobat(pdf)① CD-RまたはDVD-Rとする。 ② 数量は1枚とする。 ③ 提出前に最新定義ファイルに更新されたウィルス検知ソフトでウィルスチェックを⾏うこと。 ④ 記録メディアのレーベル⾯には、次の内容を直接印刷⼜は不滅インクによる⼿書きで明記すること(順不同)。 件名受注者名データ書き込み⽇ウィルス検知ソフト名(バージョンを含む)ウィルスチェック⽇8 / 129 / 12表 1 02U⽤反射鏡の仕様(参考値)単位 M02M0 M02M1 M02M2形状 円筒 ベント⽤円筒鏡 平⾯物点から光学素⼦までの距離 mm 20,000 22,000 ―光学素⼦から像点までの距離 mm 6,000 9,100 ―⼊射⾓ ° 88.8 88.8 85.1 ‒ 88.9曲率半径Tan m >50,000 690 >140,000Sag m 0.19331±1% >1,500 >1,500基板物質 Si(100) Si(100) Si(100)表⾯粗さ(rms)(空間周波数1〜100μm)nm <0.15 <0.15 <0.15形状誤差(rms)(空間周波数0.1 mm〜有効⻑)Tan nm <5 <2 <0.5スロープエラー(rms)(空間周波数1 mm〜有効⻑)Tan μrad <0.2 <0.2 <0.05Sag μrad <5.0 <1.0 180>180(領域①)※1>300(領域②)>380幅 mm >10 >22 >20外形⼨法⻑さ mm 230 400 400幅 mm 50 50 50厚さ mm 50 30 50員数 1 1 1反射⾯の向き ⽔平 ⽔平 鉛直上向き冷却 ⽔冷 ⽔冷 ⽔冷側⾯研磨 あり あり あり側⾯の溝加⼯ なし なし あり※1 M02M1の有効領域は2種類に区分けされ、表中の形状誤差、スロープエラー、表⾯粗さは領域①の仕様を記載している。 領域②の形状誤差は10μmPV以下とする。 10 / 12表 2 06U⽤反射鏡の仕様(参考値)名称(記号) 単位 M06M0 M06M1 M06M2 M06M3形状 円筒鏡 円筒鏡 平⾯鏡 円筒鏡物点から光学素⼦までの距離mm 20,000 22,000 - inf光学素⼦から像点までの距離mm 25,741 inf - 18740.8⼊射⾓※1 °88 88.5G1:KR = 81.145〜88.02KF = 79〜87.535G2:KR = 83.125〜88.095KF = 77.005〜87.08588.5曲率半径 Tan mm 644,999(±1%) 6E+07以上 1E+08以上 6E+07以上Sag mm 6E+07以上 1151.79(±1%)1E+08以上 981.15(±1%)表⾯粗さ(rms)(空間周波数1〜100μm)nm 0.2以下 0.2以下 0.1以下 0.2以下形状誤差(rms)(空間周波数0.1 mm〜有効⻑)Tan nm 5以下 10以下 1以下 10以下スロープエラー(rms)(空間周波数1 mm〜有効⻑)Tan μrad 0.5以下 0.5以下 0.1以下 0.5以下Sag μrad 5以下 5以下 5以下 5以下基板物質 Si(100) Si(100) Si(100) Si(100)コーティング(厚さ)nm ①Si②Au(50±10)③Ti(20〜30)Au(50±10) Au(50±10) Au(50±10)バインダー(厚さ) nm Cr(5〜10) Cr(5〜10) Cr(5〜10) Cr(5〜10)有効領域 ⻑さ mm 140以上 170以上 270以上 140以上幅 mm 25以上7×3ラインマージン各28以上 20以上 24以上外形⼨法 ⻑さ mm 350(±0.1) 230(±0.1) 290(±0.1) 160(±0.1)幅 mm 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1)厚さ mm 80(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1)員数 1 1 1 2反射⾯の向き ⽔平 ⽔平 鉛直上向き ⽔平冷却 液体窒素冷却 ⽔冷 ⽔冷 ‒側⾯研磨 あり あり あり なし側⾯の溝加⼯ なし なし あり あり※1 添え字Rは⾼分解能モードの場合の、Fは⾼フラックスモードの場合の偏⾓K11 / 12表 3 13U⽤光学素⼦の仕様(参考値)M13M0 M13M1 M13M2形状 円筒鏡 円筒鏡 平⾯鏡物点から光学素⼦までの距離 mm 20,000 22,000 -光学素⼦から像点までの距離 mm 17,200 15,200 -⼊射⾓ ° 89 89 K=85.865〜88.98曲率半径 Tan mm 5E+07以上 1,030,160(±1%)1E+08以上Sag mm 322.8(±1%) 5E+07以上 1E+08以上基板物質 Si(100) Si(100) Si(100)表⾯粗さ(rms)(空間周波数1〜100μm)nm 0.2以下 0.2以下 0.1以下形状誤差(rms)(空間周波数0.1 mm〜有効⻑)Tan nm 10以下 5以下 1以下スロープエラー(rms)(空間周波数1 mm〜有効⻑)Tan μrad 0.5以下 0.5以下 0.1以下Sag μrad 5以下 5以下 5以下コーティング(厚さ) nm Au(50±10) Si(コート無し)Au(50±10)Pd(50±10)Si(コート無し)Au(50±10)Pd(50±10)バインダー(厚さ) nm Cr(5〜10) Cr(5〜10) Cr(5〜10)有効領域 ⻑さ mm 190以上 210以上 340以上幅 mm 6以上 28以上8×3ラインマージン各228以上8×3ラインマージン各2外形⼨法 ⻑さ mm 230(±0.1) 230(±0.1) 360(±0.1)幅 mm 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1)厚さ mm 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1)員数 1 1 1反射⾯の向き ⽔平 ⽔平 鉛直上向き冷却 ⽔冷 ⽔冷 ⽔冷側⾯研磨 あり あり あり側⾯の溝加⼯ なし なし あり12 / 12表4 提出図書⼀覧図書名 提出時期 部数 確認(ア) ⼯程表 契約後速やかに 1 要(イ) 確認図 製作着⼿前 1 要(ウ) 試験検査要領書 試験検査着⼿前 1 要(エ) 打合せ議事録 実施の都度 1 要(オ) 試験検査成績書 納⼊時 1 不要(カ) 完成図書 納⼊時 1 不要(要求者)部課(室)名： 量⼦ビーム科学部⾨ 次世代放射光施設整備開発センター⾼輝度放射光研究開発部 ビームライングループ⽒ 名： 今園 孝志