（RE-10357,10358）次世代放射光施設のビームライン用軟X線回折格子分析器の製作【掲載期間：2021年10月12日～2021年12月1日】

（RE-10357,10358） 次世代放射光施設のビームライン用軟X線回折格子分析器の製作【掲載期間：2021年10月12日～2021年12月1日】 - 1 -入 札 公 告次のとおり一般競争入札に付します。 令和3年10月12日国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構財務部長 和泉 圭紀◎調達機関番号 804 ◎所在地番号 12○第26号１ 調達内容(1) 品目分類番号 24(2) 購入等件名及び数量次世代放射光施設のビームライン用軟X線回折格子分光器の製作 一式(3) 調達件名の特質等 入札説明書による。 (4) 納入期限 入札説明書による。 (5) 納入場所 入札説明書による。 (6) 入札方法 落札決定に当たっては、入札書に記載された金額に当該金額の10パーセントに相当する額を加算した金額(当該金額に１円未満の端数があるときは、その端数金額を切り捨てるものとする。 )をもって落札価格とするので、入札者は、消費税及び地方消費税に係る課税事業者であるか免税事業者であるかを問わず、見積もった契約金額の110分の100に相当する金額を- 2 -入札書に記載すること。 ２ 競争参加資格(1) 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構契約事務取扱細則第１０条の規定に該当しない者であること。 ただし、未成年者、被保佐人又は被補助人であって、契約締結のために必要な同意を得ている者については、この限りでない。 (2) 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構契約事務取扱細則第１１条第１項の規定に該当しない者であること。 (3) 令和3年度に国の競争参加資格(全省庁統一資格)を有している者であること。 なお、当該競争参加資格については、令和3年3月31日付け号外政府調達第60号の官報の競争参加者の資格に関する公示の別表に掲げる申請受付窓口において随時受け付けている。 (4) 調達物品に関する迅速なアフターサービス・メンテナンスの体制が整備されていることを証明した者であること。 (5) 当機構から取引停止の措置を受けている期間中の者でないこと。 ３ 入札書の提出場所等(1) 入札書の提出場所、契約条項を示す場所、入- 3 -札説明書の交付場所及び問い合わせ先〒263-8555 千葉市稲毛区穴川４－９－１国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 財務部 契約課 電話 043-206-6262E-mail:nyuusatsu_qst@qst.go.jp(2) 入札説明書の交付方法 本公告の日から入札書受領期限の前日17：00までの間において上記3(1)の交付場所にて交付する。 また、電子メールでの交付を希望する者は必要事項(調達番号、件名、住所、社名、担当者所属及び氏名、電話番号)を記入し3(1)のアドレスに申し込むこと。 ただし、交付は土曜,日曜,祝日及び年末年始(12月29日～1月3日)を除く平日に行う。 (3) 入札説明会の日時及び場所 開催しない。 (4) 入札書の受領期限令和3年12月2日17時00分(5) 開札の日時及び場所 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 本部(千葉地区)会議室令和3年12月22日14時00分４ その他(1) 契約手続において使用する言語及び通貨日本語及び日本国通貨。 (2) 入札保証金及び契約保証金 免除。 - 4 -(3) 入札者に要求される事項 この一般競争に参加を希望する者は、封印した入札書に本公告に示した物品を納入できることを証明する書類を添付して入札書の受領期限までに提出しなければならない。 入札者は開札日の前日までの間において、当機構から当該書類に関し説明を求められた場合は、それに応じなければならない。 (4) 入札の無効 本公告に示した競争参加資格のない者の提出した入札書、入札者に求められる義務を履行しなかった者の提出した入札書、その他入札説明書による。 (5) 契約書作成の要否 要。 (6) 落札者の決定方法 本公告に示した物品を納入できると契約責任者が判断した入札者であって、国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構が作成した予定価格の制限の範囲内で最低価格をもって有効な入札を行った入札者を落札者とする。 (7) 手続における交渉の有無 無。 (8) その他 詳細は入札説明書による。 なお、入札説明書等で当該調達に関する環境上の条件が定められている場合は、十分理解した上で応札すること。 ５ Summary- 5 -(1) Official in charge of disbursement of the pro-curing entity : IZUMI Yoshinori, Director ofDepartment of Financial Affairs, National Insti-tutes for Quantum Science and Technology. (2) Classification of the products to be procured :24(3) Nature and quantity of the products to be pur-chased :Manufacturing of Soft X-ray diffractiongrating monochromators for AdvancedSynchrotron Light Source Beamlines 1set(4) Delivery period : As shown in the tender Doc-umentation(5) Delivery place : As shown in the tender Doc-umentation(6) Qualifications for participating in the tenderingprocedures : Suppliers eligible for participatingin the proposed tender are those who shall :A not come under Article 10 of the Regulationconcerning the Contract for National Insti-tutes for Quantum Science and Technology,Furthermore, minors, Person under Conser-vatorship or Person under Assistance thatobtained the consent necessary for conclud-ing a contract may be applicable under cases- 6 -of special reasons within the said clause,B not come under Article 11(1) of the Regula-tion concerning the Contract for National In-stitutes for Quantum Science and Technol-ogy,C have qualification for participating in ten-ders by Single qualification for every ministryand agency during fiscal 2021D prove to have prepared a system to providerapid after-sale service and maintenance forthe procured products,E not be currently under a suspension of busi-ness order as instructed by National Insti-tutes for Quantum Science and Technology. (7) Time limit of tender :5:00 PM, 2, December , 2021(8) Contact point for the notice : Contract Section,National Institutes for Quantum Science andTechnology, 4-9-1 Anagawa, Inage-ku, Chiba-shi 263-8555 JAPAN(TEL.043-206-6262, E-mail: nyuusatsu_qst@qst.go.jp)(9) Please be noted that if it is indicated that en-- 7 -vironmental conditions relating to the procure-ment are laid down in its tender documents. i次世代放射光施設のビームライン用軟X線回折格子分光器の製作仕様書国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構ii次世代放射光施設のビームライン用 軟X線回折格子分光器の製作 仕様書.. i第I部 一般仕様.. 11. 件名.. 12. 概要.. 13. 納入品構成と仕様範囲.. 13.1. 納入品構成.. 13.2. 仕様範囲.. 14. 納期.. 15. 納入場所.. 16. 検査条件.. 27. 保管条件.. 28. 提出図書.. 29. 品質管理.. 310. 適用法規・規格基準.. 311. 産業財産権等.. 312. 機密保持.. 413. 安全管理.. 414. 物品識別タグ.. 415. 権利の帰属.. 416. 契約不適合責任.. 417. グリーン購入法の推進.. 418. 協議事項.. 4第II部 技術仕様.. 61. 件名.. 62. 技術仕様の構成.. 63. 特記事項.. 64. 技術仕様における共通事項.. 64.1. 座標系.. 64.2. 調整機構.. 74.2.1. 原点.. 74.2.2. 計測点.. 74.2.3. 可動幅.. 74.2.4. 繰返精度(再現性).. 74.2.5. 最小可変量.. 74.2.6. 最小読取量.. 74.2.7. 調整軸.. 84.2.8. 切替機構.. 84.3. 駆動制御.. 8iii4.4. 超高真空仕様.. 84.4.1. フランジシール.. 84.4.2. リーク量.. 84.4.3. 真空度計測.. 94.4.4. 材料・処理.. 94.4.5. 冷却.. 94.4.6. 架台.. 94.4.7. ベーキング.. 104.4.8. 支給及び貸与真空部品に関する一般規定.. 104.4.9. 軟X線用光学素子容器仕様(UHV-OP級).. 104.4.10. 軟X線用輸送チャンネル真空仕様(UHV-TC級).. 104.4.11. 粗排気.. 104.5. ユーティリティー.. 114.6. 真空内温度計測.. 114.7. ビームラン分光光学系の光学配置.. 124.8. モニター類取付フランジ標準規定.. 124.1. ベーク用機材.. 135. 軟X線超高分解能共鳴非弾性散乱ビームライン(02U)用軟X線回折格子分光器の技術仕様.. 145.1. 概要.. 145.2. 構成.. 145.2.1. 全体構成.. 145.2.2. 構成要素.. 145.2.3. 支給及び貸与物品.. 165.3. 各構成要素の仕様.. 165.3.1. 光学素子ホルダー.. 165.3.2. 駆動機構.. 185.3.3. 光学素子真空容器.. 215.3.4. 光学素子真空容器用架台.. 255.3.5. 遮蔽関連部品.. 265.3.6. 入射スリット.. 275.3.7. モニター類.. 285.3.8. アブソーバー類.. 305.3.9. 四象限スリット・アパーチャー類.. 315.3.10. 真空機器締結要素類.. 315.3.11. ユーティリティー配管・配線.. 355.3.12. 据付.. 385.4. 試験検査.. 426. 軟X線ナノ光電子分光ビームライン(06U)用軟X線回折格子分光器の技術仕様.. 536.1. 概要.. 53iv6.2. 構成.. 536.2.1. 全体構成.. 536.2.2. 構成要素.. 536.2.3. 支給及び貸与物品.. 556.3. 各構成要素の仕様.. 556.3.1. 光学素子ホルダー.. 556.3.2. 駆動機構.. 586.3.3. 光学素子真空容器.. 616.3.4. 光学素子真空容器用架台.. 656.3.5. 遮蔽関連部品.. 676.3.6. 出口スリット.. 676.3.7. モニター類.. 686.3.8. アブソーバー類.. 716.3.9. 四象限スリット・アパーチャー類.. 726.3.10. 真空機器締結要素類.. 726.3.11. ユーティリティー配管・配線.. 766.3.12. 据付.. 806.4. 試験検査.. 847. 軟X線ナノ吸収分光ビームライン(13U)用軟X線回折格子分光器の技術仕様.. 1017.1. 概要.. 1017.2. 構成.. 1017.2.1. 全体構成.. 1017.2.2. 構成要素.. 1017.2.3. 支給及び貸与物品.. 1037.3. 各構成要素の仕様.. 1037.3.1. 光学素子ホルダー.. 1037.3.2. 駆動機構.. 1057.3.3. 光学素子真空容器.. 1087.3.4. 光学素子真空容器用架台.. 1127.3.5. 遮蔽関連部品.. 1137.3.6. 出口スリット.. 1137.3.7. モニター類.. 1157.3.8. アブソーバー類.. 1177.3.9. 四象限スリット・アパーチャー類.. 1177.3.10. 真空機器締結要素類.. 1187.3.11. ユーティリティー配管・配線.. 1227.3.12. 据付.. 1257.4. 試験検査.. 129v図 1 座標系の定義.. 6図 2 偏角可変平面鏡と回折格子の配置とそれぞれの回転中心位置の模式図.. 12図3 02Uの分光器上面概略図(参考図).. 46図4 02Uの光学素子配置図(参考図).. 47図5 02UにおけるM2及びGrの回転機構(参考図).. 47図 6 ビームライン06Uの全景の概略図(参考図).. 88図 7 06Uの光源から出口スリットまでの光学素子の配置図(参考図).. 89図 8 06Uの回折格子G(1200本/mm)を用いた高分解能モード(cff = 4.309)における偏角可変平面鏡(M2)との配置関係(参考図).. 90図 9 06Uの回折格子G(600本/mm)を用いた高フラックスモード(cff = 1.335)における偏角可変平面鏡(M2)との配置関係(参考図).. 90図 10 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)に設置するポート(一部)の概略図(参考図).. 91図 11 ビームライン13Uの全景の概略図(参考図).. 133図 12 13Uの光源から出口スリットまでの光学素子の配置図(参考図).. 134図 13 13Uの回折格子G(600本/mm)と偏角可変平面鏡(M2)の配置関係(参考図).. 135図 14 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)に設置するポート(一部)の概略図(参考図).. 135vi表 1 提出図書一覧.. 2表 2 モニター類取付フランジ標準規定.. 13表3 02Uにおける真空セクション一覧(参考).. 48表4 02Uで使用する光学素子(反射鏡、回折格子)の仕様一覧(参考).. 49表5 目標とする安定性.. 49表6 02UにおけるM0の動作と移動量及び精度.. 49表7 02UにおけるM1の動作と移動量及び精度.. 50表8 02UにおけるM2とGrの角度とエネルギー範囲.. 50表9 02UにおけるM2の動作と移動量及び精度.. 50表10 02UにおけるGrの動作と移動量及び精度.. 51表11 02Uにおける入射スリットS1VとS1Hの動作と移動量及び精度.. 51表12 02Uにおける水冷式四象限スリット4DS01の動作と移動量及び精度.. 52表 13 02Uにおける水冷式アパーチャーAPH01とAPV01の動作と移動量及び精度.. 52表 14 02UにおけるスクリーンモニターtSCM01とtSCM02の動作と移動量及び精度.. 52表 15 06Uで使用する光学素子(反射鏡)の仕様一覧(参考).. 92表 16 06Uで使用する光学素子(回折格子)の仕様一覧(参考).. 93表 17 06Uにおける真空セクション一覧(上流側取り合い点から再集光鏡(M3)まで)(参考).. 94表 18 06Uにおける真空セクション一覧(再集光鏡(M3)からAブランチの出口スリット(S2A)まで)(参考).. 95表 19 06Uにおける真空セクション一覧(再集光鏡(M3)からBブランチの試料位置まで)(参考).. 95表 20 06Uにおける水冷式偏角可変平面鏡調整ホルダー(HM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 96表 21 06Uにおける水冷式回折格子調整ホルダー(HG1、HG2、HG3)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 96表 22 06Uにおける第一光学素子多軸調整機構(TRM0)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 96表 23 06Uにおける第二光学素子多軸調整機構(TRM1)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 97表 24 06Uにおける偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 97表 25 06Uにおける偏角可変平面鏡並進機構(TM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 97表 26 06Uにおける回折格子回転走査機構(RG)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 98表 27 06Uにおける回折格子切替機構(TG)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 98表 28 06Uにおける再集光鏡多軸調整機構(TRM3)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 98表 29 06Uにおけるスリットブレードの開口幅の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 99表 30 スリット開口中心位置の位置調整機構の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 99表 31 四象限スリットブレードの可動幅、 最小可変量及び繰返精度.. 99表 32 アパーチャーブレードの可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 100表 33 13Uで使用する光学素子(反射鏡)の仕様一覧(参考).. 136表 34 13Uで使用する光学素子(回折格子)の仕様一覧(参考).. 137vii表 35 13Uにおける真空セクション一覧(参考).. 138表 36 13Uにおける水冷式偏角可変平面鏡調整ホルダー(HM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 139表 37 13Uにおける水冷式回折格子調整ホルダー(HG1、HG2、HG3)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 139表 38 13Uにおける第一光学素子多軸調整機構(TRM0)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 139表 39 13Uにおける第二光学素子多軸調整機構(TRM1)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 140表 40 13Uにおける偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 140表 41 13Uにおける偏角可変平面鏡並進機構(TM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 140表 42 13Uにおける13Uにおける回折格子回転走査機構(RG)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 141表 43 13Uにおける回折格子切替機構(TG)の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 141表 44 13Uにおけるスリットブレードの開口幅の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 141表 45 スリット開口中心位置の位置調整機構の可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 142表 46 四象限スリットブレードの可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 142表 47 アパーチャーブレードの可動幅、最小可変量及び繰返精度.. 1421 / 142次世代放射光施設のビームライン用軟X線回折格子分光器の製作本仕様書は、国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構(以下「量研」という。 )が官民地域パートナーシップにより整備する次世代放射光施設(以下「施設」という。 )の蓄積リングに設置された挿入光源装置から放出される放射光軟 X 線の利用に供するビームライン用軟 X 線回折格子分光器の製作に関するもので、軟X線超高分解能共鳴非弾性散乱ビームライン(02U)用軟X線回折格子分光器、軟 X 線ナノ光電子分光ビームライン(06U)用軟 X 線回折格子分光器、軟X 線ナノ吸収分光ビームライン(13U)用軟X線回折格子分光器で構成される。 本仕様書の範囲には、3つの軟X線回折格子分光器の光学機器、真空機器等の設計、製作、組立、組付け、精密位置決め据付調整、超高真空立上げ、ユーティリティー配線・配管、試験等に加え、本施設における放射線安全及び機器保護のための次世代放射光施設標準インターロックシステム(仕様範囲外)に組み込むために必要な結線等が含まれる。 a) 軟X線超高分解能共鳴非弾性散乱ビームライン(02U)用軟X線回折格子分光器、1式b) 軟X線ナノ光電子分光ビームライン(06U)用軟X線回折格子分光器、1式c) 軟X線ナノ吸収分光ビームライン(13U)用軟X線回折格子分光器、1式a) 上記構成機器の設計、製作、試験の全てに加え、以下が含まれる。 現地における精密位置決め、据付、超高真空排気に掛かる作業真空容器、駆動機構及び各種機器類(支給品及び貸与品を含む)の組付け信号線の配線機器内、機器間の配線、圧縮空気、冷却水等の配管真空機器、駆動機器等の動作確認レーザーアライメント(光軸原点出し)量研担当者が行う光学素子の取付作業の支援令和5年9月29日宮城県仙台市青葉区荒巻青葉468-1国立大学法人東北大学青葉山新キャンパス内の指定する場所2 / 142a) 第8項に記載の提出図書を完備していること。 b) 第II部 技術仕様に記載の仕様を満足していること。 室温5℃から40℃の室内で結露しない保管条件下で梱包を施すこと。 a) 印刷物表 1に示す図書を印刷物として提出すること。 使用する言語は日本語とする。 ただし、海外機器等の取扱説明書等はこの限りでない。 印刷物は、原則 A4 サイズ用紙で提出すること。 ただし、確認図、図表等はこの限りでない。 印刷物は、原則ファイルに綴じること。 「完成図書」とは、(ア)～(ク)を印刷して表紙と目次を付してファイルに綴じた物に加え、これらの電子ファイルも併せた物である。 完成図書の大型図面は折りたたんで収納すること。 文字が判読できない縮小図は不可とする。 表 1 提出図書一覧図書名 提出時期 部数 確認(ア) 確認図 製作開始前 3 要(イ) 試験検査要領書 試験検査の前 3 要(ウ) 打合せ議事録 実施の都度 3 要(エ) 試験検査成績書 試験検査の都度 3 –(オ) 取扱説明書 納入時 3 –(カ) 完成図 納入時 3 –(キ) 納入品目表 納入時 3 –(ク) 完成図書 納入時 3 –b) 電子ファイル表 1に示す提出図書は、特記なき限り、次の電子可読形式ファイルで提出すること。 (1) CADファイル：1) 2D-CAD：Autodesk AutoCAD LT(dwg、dxf)及びAdobe Acrobat(pdf)2) 3D-CAD：SOLIDWORKS(step、parasolid)及びAdobe Acrobat(pdf)(2) CADファイル以外：Microsoft Office(docx、xlsx、pptx)又はAdobe Acrobat(pdf)提出図書の作成に使用するソフトウェアは最新バージョンを用いることが望ましい。 記録メディア(1) CD-R又はDVD-Rとする。 3 / 142(2) 数量は1枚とする。 (3) 提出前に最新定義ファイルに更新されたウィルス検知ソフトでウィルスチェックを行うこと。 (4) 記録メディアのレーベル面には、次の内容を直接印刷又は不滅インクによる手書きで明記すること。 1) 件名2) 受注者名3) ウィルス検知ソフト名(バージョンを含む)4) データ書き込み日5) ウィルスチェック日特記事項(1) CAD ファイルは周辺機器との干渉や取り合い等の確認に供するためにその使用を制限した上で他社と共有する場合がある。 この点を考慮しCADファイルを提出すること。 本仕様書における設計・製作・設置等は、全ての工程において以下の事項等について十分な品質管理を行うこととする。 管理体制設計管理外注管理現地作業管理材料管理工程管理試験・検査管理不適合管理記録の保管重要度分類監査本仕様書における設計・製作・試験検査にあたっては、以下の法令、規格、基準等を適用又は準用して行うこと。 労働安全衛生法日本産業規格(JIS)その他受注業務に関し、適用又は準用すべき全ての法令・規格・基準等産業財産権等の取扱いについては、別紙－1「産業財産権について」に定めるとおりとする。 4 / 142受注者は、本品の製作にあたり、発注者から知り得た情報を厳重に管理し、本業務遂行以外の目的で、受注者及び下請会社等の作業員を除く第三者への開示、提供してはならない。 ただし、あらかじめ量研担当者の了承を得た場合にはこの限りでない。 a) 本品の製作・設置作業に際し綿密かつ無理のない工程を組み、材料、労働安全対策等の準備を行い、作業の安全確保を最優先としつつ、迅速な進捗を図るものとする。 また、作業遂行上既設物の保護及び第三者への損害防止にも留意し、必要な措置を講ずるとともに、火災その他の事故防止に努めるものとする。 b) 作業現場の安全衛生管理は、法令に従い受注者の責任において自主的に行うこと。 c) 受注者は、作業着手に先立ち量研担当者と安全について十分に打合せを行った後着手すること。 d) 受注者は、作業現場の見やすい位置に、作業責任者名及び連絡先等を表示すること。 e) 作業中は、常に整理整頓を心掛ける等、安全及び衛生面に十分留意すること。 f) 受注者は、本作業に使用する機器、装置の中で地震等により安全を損なう恐れのあるものについては、転倒防止策等を施すこと。 a) 物品識別タグは、提出された納入品目表をもとに量研担当者が作成し支給する。 b) 受注者は、量研担当者が指定する全物品に物品識別タグを貼り付けた後に納入すること。 c) 物品識別タグの貼付場所については別途協議の上決定する。 本仕様書によって製作されたハードウエア等の図面を含む著作物の著作権は、量研に帰属するものとする。 資料等から波及する特許権は、発注者に帰属する。 契約不適合責任については契約条項のとおりとする。 a) 本契約において、グリーン購入法(国等による環境物品等の調達の推進等に関する法律)に適用する環境物品(事務用品、ＯＡ機器等)が発生する場合は、これを採用するものとする。 b) 本仕様に定める提出図書(納入印刷物)については、グリーン購入法の基本方針に定める「紙類」の基準を満たしたものであること。 5 / 142a) 受注者は、本仕様書について疑義が生じた場合、量研担当者と協議の上、その決定に従うものとする。 b) 協議内容は文書によるやり取りを原則とし、その内容について受注者と量研担当者の双方が確認する。 6 / 142次世代放射光施設のビームライン用軟X線回折格子分光器の製作a) 軟X線超高分解能共鳴非弾性散乱ビームライン(02U)用軟X線回折格子分光器、1式b) 軟X線ナノ光電子分光ビームライン(06U)用軟X線回折格子分光器、1式c) 軟X線ナノ吸収分光ビームライン(13U)用軟X線回折格子分光器、1式a) 受注者は、本仕様書に関する前提として別添資料「次世代放射光施設ビームライン機器共通事項」を原則遵守すること。 ただし、別途指示等が本仕様書に明記されている場合にはそれに従うこと。 b) 受注者は、本仕様書について疑義等が生じた場合は、量研担当者とその取扱いについて協議すること。 協議内容は文書によるやり取りを原則とする。 a) 座標系は右手系で、光の進行方向を z 軸にとる。 y 軸は常に鉛直上向きを正とする(図 1 参照)。 b) x、y、z軸の右回りを正として回転角Rx、Ry、Rzを定義する。 光学素子が縦振りの場合、Rx、Ry、Rzはそれぞれピッチ、ヨー、ロールに対応する。 光学素子が横振りの場合、Rx、Ry、Rzはそれぞれヨー、ピッチ、ロールに対応する。 図 1 座標系の定義7 / 142a) 光学原点光学素子における光学原点は、特記なき限り放射光照射使用時の位置、角度とする。 b) 機械原点機械原点は、組立て、設置の正確性を期するために設けられる原点である。 機械原点位置は、光学原点に対して所定の物理量によって結び付けられていること。 a) x、y、z 軸の移動量、繰返し精度、最小可変量の計測点は、原則として、光学素子の中心位置の変位量とする。 b) Rx、Ry、Rzの回転軸の計測点は、原則として、光学素子端面又は駆動端点とする。 c) x、y、z 軸と Rx、Ry、Rz の相互の干渉が問題となる場合には、x、y、z の移動において光学素子端面と中心の双方を計測点として指定する。 d) 上記 a)～c)のいずれの場合においても、光学設計から各軸の精度や干渉程度に優先度がつけられ、必要とされる精度を順に確保するよう計測手法や計測点を定めること。 可動幅は、光学原点を基準として前後求められる範囲として定義する。 a) 可動範囲の起点から終点までの走査を 3 回繰返した場合、次の領域において所定の精度内で位置決めを再現できることを言う。 各測定点での最大幅及び最小幅可動範囲内での最大幅及び最小幅b) 位置決めの計測においては、計測点と駆動軸との距離を図面に明示すること。 c) 測定点数は、最小読取量の 10 倍又は可動範囲の 20 分割のより細かい方を原則とする。 ただし、計測実績が存在し、典型データにおいて滑らかな変化が担保される場合は、可動範囲の指定分割数を協議の上、より粗く調整できるものとする。 d) 繰返精度の計測の際、計測時の誤差が問題になる場合には計測回数や平均化処理を認める場合がある。 e) 双方向繰返精度と明記されない限り、指定された一方向の繰り返しとし、バックラッシュを考慮しなくて良いとする。 f) 計測時の温度は0.5℃以下の確度とする。 a) 電動駆動軸の場合、次世代放射光施設ビームライン機器共通事項のとおり。 b) 手動駆動軸の内、目視読取(目盛など)がない駆動軸の場合には、操作軸の 1/4 回転を、目視読取がある場合には最小目盛りの半値をそれぞれ最小制御単位として与えたときに得られる可変量を最小可変量と呼ぶ。 a) 電子読取(エンコーダ付き又は電動)の場合、それぞれの最小目盛に対応する当該軸の変位量をいう。 8 / 142b) 目視読取(目盛など)の場合、それぞれの最小目盛の1/2に対応する当該軸の変位量をいう。 a) 動作雰囲気に応じて、次の 3 種類の調整軸を規定する。 その調整範囲を確認図に明記すること。 真空動作軸：超高真空を維持したまま操作できる調整軸大気動作軸：通常開閉可能なフランジの開放のみによって操作できる調整軸ユーザー組立調整軸：組立時にユーザーが容易に操作できる調整軸b) 上記の調整軸の他、次の調整軸を規定する。 工場調整軸(1) 製造出荷段階や現地精密位置決め調整段階における使用のみを前提としたボルト等の締結部品を含む調整軸(2) 主要な調整軸については、確認図に明記すること。 特に、現地で不用意に操作すると機器性能を担保できなくなる調整軸についてはその旨注釈を入れること。 a) 切替機構は、光学素子等を光軸から退避させ、複数の同一種類の光学素子を相互に入れ換えするための機構である。 b) 切替機構は、特記なき限り、真空を保持したまま動作できること。 c) 切替操作によって光学素子調整機構の性能を損なわないような構造とする。 d) 切替機構の可動幅は、少なくとも両端の光学素子の照射有効領域(端)に定常的に放射光を導くことができる範囲とする。 a) 次世代放射光施設標準ステッピングモーター次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に従うこと。 b) 次世代放射光施設標準モーターコントローラーツジ電子 PM16C-16HW2 相当品とし、これ以外の機器を使用する場合には、量研担当者と別途協議の上決定する。 c) 次世代放射光施設標準ステッピングモータードライバーメレック H750v1 相当品とし、これ以外の機器を使用する場合には、量研担当者と別途協議の上決定する。 a) ポートのシールには、銅ガスケットシールのコンフラットフランジ(以下 ICF規格と記す。 )を原則として用いること。 b) 鏡及び駆動機構取付用フランジは ICF 規格フランジと同等以上のメタルシールであれば採用を認める。 なお、ICF規格以外のメタルシールを用いる場合は、製造社名、連絡先、型番、形状、材質等を明示し、入手方法を明らかにするとともに、量研担当者の確認を得ること。 9 / 142a) リーク量は、5E-11 Pa・m3/s以下とする。 a) 真空度は次の機器を用いて計測する。 ホット型真空計(1) ヌードイオンゲージNIG-2F(キヤノンアネルバ)相当品(2) コントローラーM923HG(キヤノンアネルバ)相当品コールド型真空計(1) フルレンジゲージPKR361(PFEIFFER)相当品(2) コントローラーTPG361(PFEIFFER)相当品b) 真空度は鏡表面相当箇所での値とする。 ポンプ内部など意図的に好条件における計測は認めない。 a) 真空容器及び駆動機構、冷却機構を含む真空内機器は、真空仕様を満足する素材を用い、脱脂、電解研磨、純水洗浄などの処理を施すこと。 b) 真空雰囲気には炭化水素系の汚染履歴が残らない素材・処理方法を用いること。 c) 素材及び処理方法については内容・工程を報告すること。 a) 水による真空外への熱の輸送を原則とする。 その他の冷媒を認める場合があるが、別途協議の上決定する。 a) 真空機器の冷却にあたっては、水冷方式の場合、原則として一筆書きによる接続部なき冷却配管とする。 なお、一筆書き困難な箇所の場合、液体窒素冷却方式等の水冷方式以外の場合、別途協議の上決定する。 b) 真空機器の冷却にあたっては、真空耐性、経年変化において信頼性が確立された継ぎ手やフレキシプルチューブによる冷却配管を認める場合がある。 c) いずれの場合においても、冷却配管が保守可能な構造とすること。 d) 冷却配管については、組立て時、搬入時にゴミ等が混入しないように、ビニルキャップで簡易封止を行うこと。 これらの手続きなく納品されたものについては、フラッシング作業を求める。 a) 真空容器及び排気装置、駆動機構を設置する架台である。 以下の機能を有するために必要な構造であること。 各軸所定の精度、再現性を十分満たす剛性をもった構造とすること。 ベーキングによって位置変位、変形しない構造であること。 粗調整可能な位置調整機構を有すること。 調整終了後は、粗調機構並びに微調機構は十分な剛性・強度で固定できるものとする。 架台は床面に十分な強度でアンカー固定できる構造であること。 架台は床面縁切りを跨がないようにすること。 10 / 142架台には焼き付け塗装を行うこと。 ただし、塗装色及び塗装箇所は別途協議の上決定する。 排気装置本体及び鏡調整機構などのメンテナンスが必要な重量物を容易に取り外し可能な構造とし、必要ならばそのための冶具を有すること。 ビームライン上に設置する際の干渉を考慮すること。 実験ホールの床高さは必ずしも平坦ではない。 一方ビーム高さは規定されている。 このため、必要に応じて現地測量し、十分な高さ調整しろを設けること。 a) ベーキングの詳細については、次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に付属する「ビームライン・ベーキング要領」に従うこと。 a) 受注者は、予め外傷を目視確認した後、駆動部分やフランジ等の取付作業に取り掛かること。 記載数値は設計最適化の過程で都合により変更する場合がある。 ただし、光学素子自体の製作は本仕様の範囲外である。 コーティングの有効領域全部を使える構造とすること。 光学素子ホルダーは、光学素子を不用意に歪ませずに保持でき、かつ、光学素子表面の有効領域に触れない構造であること。 光学素子ホルダーは、次の要件を満足する冷却に対応した構造であること。 (1) 冷却方式は水冷とし、光学素子の長手方向両側面に密着させた金属板等を介した間接冷却できる構造とし、これに必要な配管を行うこと。 (2) 光学素子や金属板に InGaを塗布する場合は、反応しない材料又は無電解ニッケルメッキと金メッキ処理など所定の処理を施すこと。 (3) 冷却水配管については、次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に従うこと。 逸脱する場合には、量研担当者と別途協議の上決定する。 (4) 真空中の冷却水配管は、ステンレス又は焼きなまし銅とする。 これら以外の材料を使用する場合には、量研担当者と別途協議の上決定する。 (5) 真空容器への冷却水導入フランジを取り外す際に、パイプ切断不要とすること。 必要に応じて食い込み継ぎ手にテフロン製のフロント・バックフェルールセットを用いること。 (6) 配管からの振動が光学素子や他の調整機構の精度に影響を与えにくいように工夫すること。 各光学素子に求められる安定性の目標値を表 5 に示す。 光学素子の安定性は、分光器の性能を左右するので、本分光器の動作原理と求められる分光性能を十分に理解した上で設計しなければならない。 b) 水冷式第一光学素子ホルダー(HM0)仕様(1) HM0 はM0 を水平反射できるよう保持できる構造であり、M0 の上流側端面には、水冷された銅ブロックによるマスクを設け、不必要な放射パワーを鏡に入射させない構造とする。 この場合、ビューポートで観測する端面は、この銅ブロック端面位置とする。 c) 水冷式第二光学素子ホルダー(HM1)仕様(1) HM1はM1水平反射できるよう保持できる構造であること。 d) 水冷式偏角可変平面鏡調整ホルダー(HM2)18 / 142仕様(1) HM2 は、M2 を縦振り上向きで使用できる構造とし、M2 に対して重力の影響によるたわみが軽減されるように保持すること。 (2) HM2 における調整軸は独立に制御できる構造であること。 HM2 の可動幅、最小可変量、繰返精度を表9示す。 (3) 調整軸を駆動する際に他の調整軸に意図しない変位が生じることがないような構造であること。 (4) 調整軸は、真空排気前後でたわみによる変位が極力生じないような構造であること。 又は、変位を避けられない場合には、変位量を計測した上で位置決めを再現できるような構造とすること。 (5) 指定の軸に対して稼動状態(水冷機構を取り付けた上で全てのホルダーがセットされた状態)で位置に影響を与えることなく、調整可能な構造であること。 e) 水冷式回折格子調整ホルダー(HG1、HG2、HG3)仕様(1) 回折格子は鉛直方向下面が反射面であるため重力の影響によるたわみが軽減される位置で保持すること。 (2) HG1、HG2、HG3 の調整軸は独立に制御できるようにすること。 HG1、HG2、HG3 の可動幅、最小可変量、繰返精度を表10に示す。 (3) 調整軸を駆動する際に他の調整軸に意図しない変位が生じることがないような構造であること。 (4) 調整軸は、真空排気前後でたわみによる変位が極力生じないような構造であること。 又は、変位を避けられない場合には、変位量を計測した上で位置決めを再現できるような構造とすること。 (5) 指定の軸に対して大気及び真空環境において、稼動状態(水冷機構を取り付けた上で全てのホルダーがセットされた状態)で位置に影響を与えることなく、調整可能な構造であること。 (6) アライメント用として本ホルダーに取り付け可能な回折格子のダミーを製作すること。 ダミーはアルミニウム製ブロックで、外形は表 4 に示す回折格子に準じ、中心線にはケガキを入れること。 数量は1個とする。 (7) HG2にはG2を、HG3にはG3を、HG1にはダミーを取り付けること。 駆動機構は、第一光学素子(M0)、第二光学素子(M1)、偏角可変平面鏡(M2)、回折格子(G1、G2、G3)の位置、入射角等を超高真空下で電動駆動により高精度に設定、調整し、波長掃引、回折格子等の切り替え等を行うための駆動制御機構で、第一光学素子多軸調整機構(TRM0)、第二光学素子多軸調整機構(TRM1)、偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)、偏角可変平面鏡並進機構(TM2)、回折格子回転走査機構(RG)、回折格子切替機構(TG)から構成される。 第一光学素子多軸調整機構(TRM0)、1式19 / 142第二光学素子多軸調整機構(TRM1)、1式偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)、1式偏角可変平面鏡並進機構(TM2)、1式回折格子回転走査機構(RG)、1式回折格子切替機構(TG)、1式a) 真空度：UHV-OP級b) 温度：室温a) 共通事項超高真空対応仕様であること。 駆動軸の可動幅は、特記なき限り光学原点から測った値として定義される。 駆動軸は、原則５相ペンタゴン結線によるステッピングモーター駆動方式とし、次世代放射光施設標準パルスモータードライバーで駆動できること。 駆動軸は自己保持能力を有すること。 ステッピングモーターの励磁等の駆動保持力を与えない場合でも、容易に変位しない構造であること。 駆動軸は、真空排気に伴う圧力負荷によって規定された調整軸の精度が確保できなくなるような倒れ、伸縮などが発生しないように工夫すること。 駆動軸の大気側に基準位置を設け、レーザートラッカーを使って駆動機構のベース位置を捕捉できるようにすること。 位置の詳細については別途協議の上決定する。 各光学素子に求められる安定性の目標値を表 5 に示す。 光学素子の安定性は、分光器の性能を左右するので、本分光器の動作原理と求められる分光性能を十分に理解した上で設計しなければならない。 b) 第一光学素子多軸調整機構(TRM0)概要第一光学素子多軸調整機構(TRM0)は、第一光学素子(M0)を独立に並進及び回転駆動させ、所定の位置及び入射角に設定するための多軸調整機構である。 また、M0 を放射光の光路から退避させることができる。 仕様(1) TRM0 は、M0 が取り付けられた水冷式第一光学素子ホルダー(HM0)を横振り配置で設置できる構造であること。 (2) TRM0は、可動軸を独立に駆動できるようにすること。 (3) TRM0の可動幅、最小可変量及び繰返精度を表6に示す。 c) 第二光学素子多軸調整機構(TRM1)概要第二光学素子多軸調整機構(TRM1)は、第二光学素子(M1)を独立に並進、回転及びベント駆動させ、所定の位置、入射角及び曲率に設定するための多軸調整機構である。 また、M1を放射光の光路から退避させることができる。 仕様20 / 142(1) TRM1 は、M1 が取り付けられた水冷式第二光学素子ホルダー(HM1)を横振り配置で設置できる構造であること。 (2) TRM1は可動軸を独立に駆動できるようにすること。 (3) TRM1の可動幅、最小可変量及び繰返精度を表7に示す。 d) 偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)概要偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)は、偏角可変平面鏡(M2)の偏角を設定するための回転走査機構である。 回転中心はM2の反射面上にはなく回折格子(G)近傍にある。 仕様(1) RM2 は、M2 が取り付けられた水冷式偏角可変平面鏡調整ホルダー(HM2)を縦振り上向き配置で設置できる構造であること。 (2) M2 及び G の配置とそれぞれの回転中心位置の模式図を図 5 に示す。 図中の回転角θはRxに対応する。 (3) M2とGの配置関係を表8に示す。 (4) M2回転軸はx軸方向に平行であること。 (5) RM2の可動幅、最小可変量及び繰返精度を表9に示す。 (6) RM2は、Rx回転によってM2表面を水平にした際に真空容器やその他の機器等と干渉しない構造であること。 (7) 回転走査の安定性の評価が可能なエンコーダーを真空容器内に設置こと。 エンコーダーシステム(本体、ケーブル、PCと通信可能な表示機等)を一式含むこと。 e) 偏角可変平面鏡並進機構(TM2)概要偏角可変平面鏡並進機構(TM2)は、偏角可変平面鏡(M2)を超高真空中で並進移動させる一軸駆動機構である。 仕様(1) TM2の可動幅、最小可変量及び繰返精度を表9に示す。 (2) 並進駆動軸はx軸と平行であること。 (3) M2を所定の位置にマウントできるような調整しろを設けること。 f) 回折格子回転走査機構(RG)概要回折格子回転走査機構(RG)は、回折格子(G1、G2、G3)の偏角を設定するための一軸回転走査機構である。 回転軸は回折格子中心の表面内のx軸で、格子溝に平行である。 仕様(1) RG は、回折格子が取り付けられた水冷式回折格子調整ホルダー(HG1、HG2、HG3)を縦振り下向き配置で設置できる構造であること。 (2) 回折格子とM2との配置関係は図5に示すとおりである。 (3) 回折格子の回転中心軸はM2のそれと同様にx軸と平行とする。 21 / 142(4) RGの可動幅、最小可変量及び繰返精度を表10に示す。 偏角可変のためGの光学原点を一意に決めることができないことから、回折格子の法線が鉛直下向き(表面が水平面内)の時を基準位置としてRxの可動幅を定義する。 (5) RG は、その可動幅の全域で後述の回折格子切替機構(TG)の位置によらず真空容器やその他の機器等と干渉しない構造であること。 特に、M2 と干渉する配置が存在する場合、先述の偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)と RG の駆動順序を工夫して干渉しないようにすること。 (6) 他の軸の可動量によって可動幅に制限が加わる恐れがある場合は、あらかじめどの軸を優先するか、何が干渉するのか、原点・リミット設定位置などを量研担当者と協議の上確定し、確認図に明示すること。 (7) 走査回転軸を支持するベアリングの回転中心を直接的に真空容器の外から見込むことができる構造であること。 真空排気によって軸ぶれの影響がない構造であることを前提に、真空状態で確認できる必要はない。 (8) 回転走査の安定性の評価が可能なエンコーダーを真空容器内に設置こと。 エンコーダーシステム(本体、ケーブル、PCと通信可能な表示機等)を一式含むこと。 g) 回折格子切替機構(TG)概要回折格子切替機構(TG)は、最大3枚の回折格子を超高真空下で切り替えるための一軸並進駆動機構である。 仕様(1) TGは、超高真空中で3枚の回折格子(G1、G2、G3)を一軸並進駆動で切り替えることができる構造であること。 (2) TG の可動幅、最小可変量、繰返し精度を表 10 に示す。 ただし、可動幅は、全ての回折格子の照射有効領域に定常的に放射光を導くことができること。 (3) TGはx軸と平行であること。 (4) TG は、その可動幅の全域で回折格子回転走査機構(RG)の角度によらず真空容器やその他の機器等と干渉しない構造であること。 特に、M2 と干渉する配置が存在する場合、偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)と TG の駆動順序を工夫して干渉しないようにすること。 (5) 切替操作でRGの性能が損なわれないように工夫すること。 特記事項(1) 可動幅は回折格子ホルダーのサイズに依存するため別途協議の上決定する。 光学素子真空容器は、光学素子及び駆動機構等を設置するための超高真空仕様の真空容器である。 なお、このポートは、光路の出射軸フランジ径を大きくすることで兼用しても良い。 4) 両ポートには、特記なき限り支給するゲートバルブを設けること。 (3) ビューポート1) 放射光が照射されている光学素子の表面及び上流側の端面を目視観察するための超高真空対応ビューポートを設けること。 2) 直接端面が見込めないか見込みにくい場合は、簡易の鏡を挿入するなどの方法で視野の代用や視野の確保を認める場合がある。 (4) 機器用ポート1) 真空計測定子、質量分析計、メタルバルブ等を設置するための機器用ポートを設けること。 2) フランジサイズは原則ICF70とする。 3) 機器用ポートの内少なくとも１か所は、メタルバルブ、バイトンバルブ、リークバルブを設けること。 (5) 測温抵抗体用ポート23 / 1421) 温度計測のための測温抵抗体用ポートを設けること。 2) 電流導入端子付フランジサイズはICF70とする。 (6) 主排気用ポート1) 主排気ポンプのための排気用ポートを設けること。 この取付け位置は光学素子表面を見込まないこと。 2) 光学素子交換時に取り外し不要である位置に設置すること。 3) 主排気ポンプの保守・交換作業によって機器のアライメントを崩さないこと。 4) 主排気ポンプの取り外しにあたっては、ハッチ内天井チェーンプロックやクレーンを使用できる場合はこれを使っても良い。 (7) 粗引き用ポート1) 貸与する粗引き排気ポンプを設置するための粗引き用ポートを設けること。 2) 粗引き用ポートには、特記なき限り支給するゲートバルブを設けること。 3) ゲートバルブに取り付けるためのバイトンバルブ付変換ニップルを設けること。 (8) 冷却水循環用ポート1) 光学素子を冷却するための冷却水循環用ポートを設けること。 2) 仕様の詳細は次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に従うこと。 必要とされるブランクフランジ、ガスケット及び締結部品の全てを含むこと。 ベーキング処理に必要なシースヒーターを具備すること。 リボンヒーターを用いても良い。 光学素子や調整機構は精密位置決めされているため、真空容器はベーキング処理の影響を受けて位置変動しないような構造であること。 光学素子の設置に際し、真空容器外からトランシット等を用いて調整を行えるよう光学素子表面が観察できる構造であること。 光学ハッチ内においては天井チェーンプロックを使用できるが、実験ホール内のクレーンの可動範囲外であるため、真空容器等の重量物を移動することができる機器を用意すること。 各光学素子に求められる安定性の目標値を表 5 に示す。 光学素子の安定性は、分光器の性能を左右するので、本分光器の動作原理と求められる分光性能を十分に理解した上で設計しなければならない。 特記事項(1) ポートの取付け位置、数量、サイズ等の詳細については別途協議の上決定する。 b) 第一光学素子真空容器(VM0)概要第一光学素子真空容器(VM0)は第一光学素子(M0)等を搭載するための真空容器で、光学ハッチ内に設置される。 仕様(1) VM0 は第一光学素子多軸調整機構(TRM0)を取り付けることができる構造であること。 (2) VM0 は光学ハッチ内に設置される。 その周辺スペースは狭いことから、光学素子交換用ポートの位置、サイズ等が遮蔽壁や他の機器と干渉しないようにすること。 24 / 142(3) M0には高強度の放射光が照射されるため、M0で散乱されたX線やM0から放出された光電子などが真空容器に照射されると高温になる恐れがある。 これらの照射を避けるため真空容器内に水冷された銅板(以後「コンプトンシールド(CS)」という。 )を設置すること。 特記事項(1) 光学ハッチは本仕様の範囲外とする。 c) 第二光学素子真空容器(VM1)概要第二光学素子真空容器(VM1)は第二光学素子(M1)等を搭載するための真空容器で、光学ハッチ内に設置される。 仕様(1) VM1 は第二光学素子多軸調整機構(TRM1)を取り付けることができる構造であること。 (2) VM1 は光学ハッチ内に設置される。 その周辺スペースは狭いことから、光学素子交換用ポートの位置、サイズ等が遮蔽壁や他の機器と干渉しないようにすること。 特記事項(1) 光学ハッチは本仕様の範囲外とする。 d) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)概要偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)は、偏角可変平面鏡(M2)、回折格子(G)等を搭載するための真空容器で、光学ハッチ外に設置される。 仕様(1) VM2Gは次の駆動機構を取り付けることができる構造であること。 1) 偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)2) 偏角可変平面鏡並進機構(TM2)3) 回折格子回転走査機構(RG)4) 回折格子切替機構(TG)(2) VM2Gの出射軸ポートの鉛直方向に 1 次回折光以外の高次回折光及び 0 次光を受光するためのシリコンウエハを取り付けること。 なお、シリコンウエハは支給する。 (3) 共通事項で掲げたポートに加え、以下のポートを設けること。 1) 高次光アライメントポートi. 入射光軸へ可視光レーザーを導入し、鉛直方向下向きに発出される回折格子からの回折光を観測するポートである。 ii. 共通事項に示した出射軸ポートと開口を共有するが、回折格子の０次光、1 次光だけでなく高次回折光を取り出せる開口径であること。 2) 入射軸・出射軸アライメントポートi. M2 が取り除かれた状態でM2 より上流側に設置したレーザートランシットからのレーザー光を回折格子に照射するための入射軸アライメントポートを設けること。 ii. M2 を光軸から退避させた時のダイレクト光を下流へ取り出すための出射軸アライメントポートを設けること。 25 / 142iii. Gを光軸から退避させた時、M2からの反射光を下流へ取り出すための出射軸アライメントポートを設け、真空側窓に蛍光剤を塗布したビューポートを取り付けること。 iv. 入射軸・出射軸アライメントは、共通事項に記載した入射軸ポート及び出射軸ポートのフランジ開口径を大きくすることで代用することができる。 3) ガス導入ポートi. 鏡表面の洗浄のためのガス導入ポートを設けること。 特記事項(1) 次の詳細については別途協議の上決定する。 1) ポートのフランジ径、設置位置等2) レーザー光の波長3) スクリーン光学素子真空容器用架台は、光学素子真空容器を設置し、位置調整、固定するための支持架台である。 第一光学素子真空容器用架台(STM0)、第二光学素子真空容器用架台(STM1)、偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)から構成される。 a) 第一光学素子真空容器用架台(STM0)、1式b) 第二光学素子真空容器用架台(STM1)、1式c) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)、1式a) 共通事項光学素子真空容器用架台(本節内では以下「架台」という。 )は、真空容器を支える部位と、調整機構を支える部位を分離でき、ベーキングによって真空容器に伸縮があった場合でも、調整機構が変形しない構造であること。 光学素子の調整機構、切替機構及び走査機構の相互の位置が±0.05 mm 以下の精度で決められること。 各光学素子に求められる安定性の目標値を表 5 に示す。 光学素子の安定性は、分光器の性能を左右するので、本分光器の動作原理と求められる分光性能を十分に理解した上で設計しなければならない。 b) 第一光学素子真空容器用架台(STM0)概要第一光学素子真空容器用架台(STM0)は、第一光学素子多軸調整機構(TRM0)と第一光学素子真空容器(VM0)を分離して支持し、位置調整するための架台である。 仕様(1) STM0は、TRM0とVM0を分離して支持できる構造であること。 (2) STM0は、VM0内のM0の中心位置が光源(ID中心)から20,000 mm下流となるように配置できる構造であること。 図4に設置位置の概略図を示す。 26 / 142c) 第二光学素子真空容器用架台(STM1)概要第二光学素子真空容器用架台(STM1)は、第二光学素子多軸調整機構(TRM1)と第二光学素子真空容器(VM1)を分離して支持し、位置調整するための架台である。 仕様(1) STM1は、TRM1とVM1を分離して支持できる構造であること。 (2) STM1は、VM1内のM1の中心位置がM0の中心位置から2,000 mm下流となるように配置できる構造である。 図4に設置位置の概略図を示す。 d) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)概要偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)は、駆動機構(偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)、偏角可変平面鏡並進機構(TM2)、回折格子回転走査機構(RG)、回折格子切替機構(TG))と偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)を分離して支持し、位置調整するための架台である。 仕様(1) STM2Gは、駆動機構のTRM2、TM2、RG、TG、TM2と真空容器のVM1 をそれぞれ分離して支持できる構造であること。 (2) STM2Gは、VM2G内のGの中心位置がM1の中心位置から23,400 mm下流となるように配置できる構造であること。 図4に設置位置の概略図を示す。 遮蔽関連部品は、鉛ブロック等で放射線遮蔽するための光学ハッチ、ガンマストッパー(GS)、ギロチン(GU)等の構造物である。 本仕様書では、光学ハッチ及びGUは本仕様の範囲外である。 a) ガンマストッパー(GS)、1式a) ガンマストッパー(GS)概要ガンマストッパー(GS)は、散乱体である第一光学素子(M0)で発生する制動放射線を遮蔽するため機器で、遮蔽体、輸送ダクト、架台で構成される。 仕様(1) GS の遮蔽体の材質は鉛とする。 その化学成分及び見掛⽐重は JIS H4301:2009 標準品に準拠し、それらを保証する化学分析結果等の書類を確認図の使用部品の性能表として添付すること。 (2) 遮蔽体の寸法(x×y×z)は、幅400 mm×高さ400 mm×長さ(厚さ)300 mmとする。 熱負荷の高い位置で使用するモニターは水冷方式の冷却機能を有する。 モニターは、再現性良く光軸に挿入することができ、また光軸から退避できる。 a) 水冷式デュアルビームモニター(DM01、DM02)、各1式b) 水冷式光量モニター(FM01、FM02、FM03)、各1式c) スクリーンモニター(tSCM01、tSCM02)、1式a) 共通事項使用する材料、加工品の仕上げ、ソケット、ケーブル等は超高真空仕様であること。 モニターの光軸への挿入及び光軸からの退避のための駆動機構は、特記なき限り DC24Vの電磁弁操作による圧縮空気を用いること。 駆動電力は次世代放射光施設標準インターロックシステムより供給する。 モニターに関連する信号線は、表 3 に示されているように、別途指示する端子台に結線すること。 29 / 142モニターを取付けるポートのフランジ面と光軸間の距離は、特記なき限り表 2 に示すとおり全て共通とするモニターの挿入時における位置再現性は±0.1 mm以下であること。 モニターの設置位置、受光面サイズ等の詳細は別途協議の上決定する。 b) 水冷式デュアルビームモニター(DM01、DM02)スクリーンモニター部(1) DM01は、M0の反射光とM0を退避した際のダイレクト光が照射した位置を大気側から目視観察できる構造であること。 (2) DM02は、M1の反射光とM1を退避した際のダイレクト光が照射した位置を大気側から目視観察できる構造であること。 (3) 受光部の視野は鉛直(y)方向で 25 mm以上、少なくとも光軸基準から±10 mm以上とする。 水平(x)方向はモニターの設置距離に応じて決めるが、M0、M1 の入射角に応じてストレート軸からの変位が 50 mm以上にわたって連続的に計測できなければならない。 (4) 受光面中心に十字状のケガキ線を1 mmピッチで入れること。 十字中心が、光軸に対して水平方向は±0.5 mm以内、鉛直方向は±0.1 mm以内に設置すること。 なお、これらは、大気中でトランシット又はオートレベルによって据付調整する際に、モニターに搭載する十字をモニター用ホルダー上にこれらの精度でマウントすることで調整すれば良い。 光量モニター部(1) DM01は、M0の反射光とM0を退避した際のダイレクト光が照射したときのドレイン電流を計測できる構造であること。 (2) DM02は、M1の反射光とM1を退避した際のダイレクト光が照射したときのドレイン電流を計測できる構造であること。 (3) ドレイン電流はBNC端子を介して計測できるようにすること。 その際、信号線が光路上にかからないように取り回しを工夫すること。 (4) 受光面の材料は金、サイズは25 mm角、0.1 mm厚以上とする。 (5) 受光面中心が、光軸に対して±1 mm以内に設置すること。 切替機構(1) スクリーンモニターと光量モニターは、2つのドライブ信号で適宜切り替えることができるようにすること。 (2) モニターの挿入、退避ステータスを無電位接点によって与えること。 (3) 切替機構には圧縮空気を用いること。 (4) モニターは、光路を遮る位置と退避する位置に切り替える必要がある。 ビームサイズを考慮した上で退避位置や可動幅を確定すること。 冷却方法(1) モニターの受光面は水冷すること。 (2) 冷却水配管については、次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に従うこと。 c) 水冷式光量モニター(FM01、FM02、FM03)FM01、FM02、FM03 は、放射光が受光面に照射したときのドレイン電流を計測できる構造である。 30 / 142ドレイン電流は BNC 端子を介して計測できるようにすること。 その際、信号線が光路上にかからないように取り回しを工夫すること。 受光面の材料は金、サイズは25 mm角、0.1 mm厚以上とする。 受光面中心が、光軸に対して±1 mm以内に設置すること。 切替機構(1) 光量モニターは、ドライブ信号で挿入及び退避ができること。 (2) モニターの挿入、退避ステータスを無電位接点によって与えること。 (3) 切替機構には圧縮空気を用いること。 (4) モニターは、光路を遮る位置と退避する位置に切り替える必要がある。 ビームサイズを考慮した上で退避位置や可動幅を確定すること。 冷却方法(1) モニターの受光面は水冷すること。 d) スクリーンモニター(tSCM01、tSCM02)スクリーンモニターは、光が照射した位置を大気側から目視観察できる構造であること。 tSCM01とtSCM02の動作と移動量及び精度を表 14に示す。 受光面中心に十字状のケガキ線を 1 mm ピッチで入れること。 十字中心が、光軸に対して水平方向は±0.5 mm以内、鉛直方向は±0.1 mm以内に設置すること。 なお、これらは、大気中でトランシット又はオートレベルによって据付調整する際に、モニターに搭載する十字をモニター用ホルダー上にこれらの精度でマウントすることで調整すれば良い。 アブソーバー類は、放射光を受け止める光学機器である。 熱負荷の高い位置で使用するため水冷方式の冷却機能を有する水冷式アブソーバー(tABS01)で構成される。 a) 水冷式アブソーバー(tABS01)、1式a) 共通事項使用する材料、加工品の仕上げ、ソケット、ケーブル等は超高真空仕様であること。 アブソーバー類の光軸への挿入及び光軸からの退避のための駆動機構は、特記なき限りDC24Vの電磁弁操作による圧縮空気を用いること。 駆動電力は次世代放射光施設標準インターロックシステムより供給する。 アブソーバー類はドライブ信号で挿入及び退避ができること。 挿入、退避ステータスを無電位接点によって与えること。 アブソーバー類に関連する信号線は、表 3 に示されているように、別途指示する端子台に結線すること。 アブソーバー類を取付けるポートのフランジ面と光軸間の距離は、特記なき限り表 2 のとおり全て共通とする。 ビームサイズを考慮した上で退避位置や可動幅を確定すること。 アブソーバー類の挿入時における位置再現性は±0.1 mm以下であること。 31 / 142アブソーバー類の設置位置、受光面サイズ等の詳細は別途協議の上決定する。 b) 水冷式アブソーバー(tABS01)tABS01は、水冷式銅ブロックで放射光を受け止められる構造であること。 tABS01 の受光面を水冷すること。 冷却水配管については、次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に従うこと。 四象限スリット・アパーチャー類は、ビームの鉛直方向及び水平方向を積極的に制限することによって、アライメント調整、焦点探し、光学素子に照射されないビームの制限、迷光除去等に用いられる。 a) 水冷式四象限スリット(4DS01)、1式b) 水冷式アパーチャー水平方向(APH01)、1式鉛直方向(APV01)、1式a) 共通事項四象限スリット・アパーチャー類に関連する信号線は、表 3 に示されているように、別途指示する端子台に結線すること。 ブレードの材料はステンレスとする。 ブレードは水冷すること。 冷却水配管については、次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に従うこと。 b) 水冷式四象限スリット(4DS01)四象限スリットのブレードは水平方向(x 方向)及び鉛直方向(y 方向)の計 4 枚からなり、各ブレードは独立に駆動できること。 四象限スリットブレードの可動幅、繰返し精度、最小可変量を表12に示す。 c) 水冷式アパーチャー(APH01、APV01)アパーチャーのブレードは水平方向(x方向)及び鉛直方向(y方向)で独立に電動で可動できること。 アパーチャーブレードの可動幅、繰返し精度、最小可変量を表 13に示す。 アパーチャーを取付けるポートのフランジ面と光軸間の距離は、特記なき限り表 2 のとおり全て共通とする。 a) 四象限スリット及びアパーチャーのサイズ等の詳細については別途協議の上決定する。 a) 真空接続要素類は、真空機器取り合い点間を超高真空排気して放射光を下流に導くために必要な機器・部品で、真空ダクト・ベローズ類、真空容器、架台、真空ゲージ、真空排気ポンプ等で構成される。 また、構成機器・部品に使用されるメタルガスケット、ボルト、ナット32 / 142等も含む。 取り合い点間は複数の真空セクションに区分される。 真空セクションの一部は、ダクトとベローズ以外の真空接続要素類を取り外すことなく光学素子等のアライメント調整に必要なトランシット、鉛直器などの測量機器を設置できる構造である。 a) 真空ダクト・ベローズ類b) ゲートバルブc) 真空排気容器d) モニター用真空容器e) 架台f) 真空計g) 主排気ポンプh) 粗引き排気ポンプa) 共通事項真空セクション(1) 真空セクションは、表 3 に示すように、超高真空排気された真空機器取り合い点間をゲートバルブで適宜真空仕切りすることで定義する。 真空機器取り合い点(1) 真空機器取り合い点上流1) 真空機器取り合い点上流は、遮蔽壁ラチェット面から下流約 0.6 m地点に設置されるフロントエンド終端ゲートバルブ(GV4)のフランジ面とする。 2) GV4は本仕様の範囲外とする。 (2) 真空機器取り合い点下流1) ゲートバルブ(tGV09)のフランジ面とする。 b) 真空ダクト・ベローズ類概要真空ダクト・ベローズ類は、真空セクション間を接続し下流へビーム輸送するための真空機器である。 仕様(1) 真空ダクト・ベローズは、特記なき限り超高真空仕様であること。 (2) 真空ダクトは、特記なき限り ICF70とし、ダクト内径はφ30 mm以上であること。 ただし、ガンマストッパー(GS)に使用する真空ダクトは、この限りではないが、GS の遮蔽物の貰通部を最大限利用できる内径の真空ダクトを用いること。 (3) 各真空セクション間には原則ICF70の真空ベローズを設けること。 (4) 接続部に過度な荷重負荷がかかる場合には、適宜支持架台を設けること。 特記事項(1) 真空ダクト・ベローズの長さ、設置位置等の詳細については別途協議の上決定する。 c) ゲートバルブ概要33 / 142ゲートバルブは、圧縮空気駆動方式ゲートバルブ及び手動方式ゲートバルブの 2 種類で構成される。 圧縮空気駆動方式ゲートバルブは、真空機器間に適宜設置し真空仕切りすることで真空セクションを定義し、その開閉状態はインターロックシステムに組み込まれる。 一方、手動方式ゲートバルブは、粗引き排気ポンプ等に接続するために用いられ、その開閉状態はインターロックシステムに原則組み込まれない。 なお、ゲートバルブは支給する。 構成(1) 圧縮空気駆動式ゲートバルブ(2) 手動方式ゲートバルブ仕様(1) 表 3 に示すように、真空セクション間には圧縮空気駆動式ゲートバルブを設置し、真空仕切りすること。 (2) 圧縮空気駆動式ゲートバルブは支給する。 必要な配線・配管作業は本仕様に含まれる。 (3) 手動式ゲートバルブは、光学素子真空容器の粗引き排気用ポートに設置すること。 d) 真空排気容器概要真空排気容器は、輸送ダクト内の超高真空を維持するために主排気ポンプ等を取付けた真空容器である。 仕様(1) 次のポートを設けること。 1) 入射軸ポート2) 出射軸ポート3) 主排気ポンプ用ポート4) 粗引き排気ポンプ用ポート5) 真空計測定子用ポート6) 別途協議の上指示するポート(2) 入射軸ポート及び出射軸ポートには、特記なき限り支給する圧縮空気駆動式ゲートバルブを設置すること。 (3) 粗引き排気ポンプ用ポートには、オールメタルバルブ、バイトンバルブ、リークバルブを設けること。 e) モニター用真空容器概要モニター用真空容器は、モニター、四象限スリット、アパーチャー等の光学素子以外の真空機器を取り付けるための超高真空容器である。 仕様(1) モニター用真空容器には、次の機器を取り付けることが可能な構造であること。 1) 水冷式デュアルビームモニター(DM01、DM02)、各1式2) 水冷式光量モニター(FM01、FM02)、1式3) 光量モニター(FM03)、1式4) スクリーンモニター(tSCM01、tSCM02)、各1式34 / 1425) 水冷式アブソーバー(tABS01)、1式6) 水冷式四象限スリット(4DS01)、１式7) 水冷式アパーチャー(APH01、APV01)、各1式(2) モニター用真空容器には、次のポートを設けること。 1) モニター用ポート2) 入射軸ポート3) 出射軸ポート4) 主排気ポンプ用ポート5) 粗引き排気ポンプ用ポート6) 真空計測定子用ポート7) 別途協議の上指示するポート(3) モニター用ポートのフランジ面から光軸までの距離が表 2 を満足すること。 ただし、四象限スリットを取り付ける場合を除く。 (4) 入射軸ポート及び出射軸ポートには、特記なき限り支給する圧縮空気駆動式ゲートバルブを設置すること。 (5) 粗引き排気ポンプ用ポートには、オールメタルバルブ、バイトンバルブ、リークバルブを設けること。 特記事項(1) モニター用真空容器は、他の真空容器と一体型とすることが合理的である場合には、別途協議した上で一体型とすることを妨げない。 (2) 真空容器のサイズ等、各ポートの設置場所、サイズ等の詳細については別途協議の上決定する。 f) 架台概要架台は真空排気容器、モニター用真空容器を設置し固定するための機器である。 仕様(1) 共通事項のとおり。 特記事項(1) ハッチ後面パネル貫通部ダクトを支える支持架台の固定方法等は協議の上決定すること。 g) 真空計概要真空計は、ホット型真空計とコールド型真空計の 2 種類とする。 次世代放射光施設標準インターロックシステムに組み込まれる機器である。 なお、真空計は支給する。 仕様(1) 真空セクションごとにいずれかのタイプの真空計を1台以上設置すること。 (2) 第一光学素子真空容器(VM0)、第二光学素子真空容器(VM1)にはホット型真空計を 2台以上設置すること。 (3) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)には、ホット型真空計を 2 台以上、コールド型真空計を1台以上設置すること。 35 / 142(4) コントローラーの設置場所1) コントローラーは原則制御ラックに収納すること。 2) VM2Gに設置するコールド型真空計用コントローラーはこの限りでない。 3) コントローラーとラック内のPLC中継端子台間の配線を行うこと。 h) 主排気ポンプ概要主排気ポンプは、真空セクションにおける光学素子真空容器、真空排気容器、モニター用真空容器、真空ダクト等を超高真空に保つためのゲッター(NEG)ポンプ、及び NEG とイオンポンプ(IP)の複合機である。 構成(1) NEG、NEGとIPの複合機仕様(1) 表 3 において複合機が主排気ポンプとして指定されている真空セクションについては、ポンプ本体、ケーブル及び制御電源を含む。 (2) 容量等、所定の到達圧力の達成・維持が可能なサイズとする。 (3) ポンプのメンテナンスを考慮し、取り外し容易な位置に設置し、それが困難な場合には必要に応じて冶具を具備すること。 (4) 主排気ポンプのコントローラーは制御ラックに収納すること。 なお、ポンプとコントローラー間の配線までを含む。 i) 粗引き排気ポンプ概要粗引き排気ポンプは、光学素子真空容器、真空排気容器及びモニター用真空容器等に接続され粗排気に用いられる。 なお、粗引き排気ポンプは貸与する。 仕様(1) 共通事項のとおり。 j) 計装機器内配線、制御ラック内配線及び制御ラックヘの配線の全てを本仕様の範囲とする。 次世代放射光施設標準インターロックシステムヘの結線は別途指示する端子台とする。 ユーティリティー配管・配線は、ビームラインが動作するために必要な電力、圧縮空気、冷却水等のユーティリティーの配管及び配線に関するもので、駆動機器等の制御系に関わる次世代放射光施設標準モータードライバー及びコントローラーの配線に加え、次世代放射光施設標準インターロックシステムへの配線等が本仕様に含まれる。 a) 制御ラック、1式b) 次世代放射光施設標準モータードライバー、1式c) 次世代放射光施設標準モーターコントローラー、1式d) 電力、1式36 / 142e) 圧縮空気、1式f) 冷却水、1式g) 次世代放射光施設標準インターロック(PLC)用ケーブル、1式h) モーター駆動ケーブル、1式i) 測温抵抗体用ケーブル、1式a) 共通事項全てのユーティリティー配管・配線は、ラダーの各所に設けられたユーティリティーステーションを供給点とすること。 ラダーは本仕様の範囲外である。 b) 制御ラック概要制御ラックは、真空計、排気ポンプ等のコントローラー、モータードライバー、モーターコントローラー等の機器を設置するための19インチラックで構成される。 仕様(1) 次世代放射光施設ビームライン共通事項のとおり。 (2) 制御用ラックは、図 3 に示すように、指定の場所に設置すること。 なお、上流側からBL#1、BL#2、BL#3と呼ぶ。 (3) 制御ラック内に設置する全てのコントローラー機器は個別のコネクターで電力供給ラインに接続すること。 (4) 制御ラック内の電力供給ラインごとに受電ブレーカー、ランプを設けること。 なお、コンセント盤が最寄りにあり、かつ、コンセント盤との取り合いが明示的な場合はこの限りではない。 (5) 受電ブレーカーが不用意に操作されないようにカバーを設けること。 c) 次世代放射光施設標準モータードライバー概要次世代放射光施設標準モータードライバーは、駆動機構のステッピングモーターにパルス数に応じた電力を供給し駆動させるためのステッピングモータードライバーで、各駆動軸に１台のモータードライバーが対応する。 次世代放射光施設標準モーターコントローラーとリミットスイッチ信号を送受信することができる。 ステッピングモーター及びモーターコントローラーへの接続ケーブルの製作、結線までを本仕様に含む。 仕様(1) ステッピングモーターを駆動させるために必要な員数の次世代放射光施設標準ステッピングモータードライバーを用いること。 設置場所は図3のとおりとする。 d) 次世代放射光施設標準モーターコントローラー概要次世代放射光施設標準モーターコントローラーは、駆動機構のステッピングモーターを駆動させるために必要なパルス信号を発生し最大16台の次世代放射光施設標準モータードライバーを同時に制御する機器で、Ethernetを介してリモート制御することができる。 37 / 142仕様(1) ステッピングモーターを駆動させるために必要な員数の次世代放射光施設標準モーターコントローラーを用いること。 設置場所は図3のとおりとする。 e) 電力概要電力は、所定の分電盤から本仕様における全ての機器(支給及び貸与物品を含む)へ電源を供給する。 適宜、制御盤、端子盤を設け電気工事配線作業を行う。 仕様(1) 電力は、図3の分電盤を主たる取り合い点とする。 (2) ケーブルは、ケーブルラックの最寄点までをまとめ、ラダー、カッティングダクト等を用いて保護すること。 (3) 設置予定のラダーを使用して良い。 (4) 真空ダクトは取り外してアライメント調整を行う場合があるためケーブル経路はダクトを渡すことを避けること。 (5) ベーキングヒーター類の結線を含む。 軟 X 線用輸送チャンネル真空仕様(UHV-TC 級)に従うこと。 なお、この結線は機器別に端子台で受け、ビームライン・ベーキング要領に記載の次世代放射光施設標準型コネクター取り合いとすること。 f) 圧縮空気概要圧縮空気は、建屋施設から供給され、ゲートバルブの開閉、モニター類の挿入及び退避駆動の動力源として用いる。 圧縮空気駆動機器へ圧縮空気の配管作業を行う。 仕様(1) 圧搾空気で動作する機器への配管を行い、機器が正常に動作すること。 (2) 配管等は次世代放射光施設ビームライン共通事項に従うこと。 g) 冷却水概要冷却水は、建屋施設からチラー装置へ供給される 1 次冷却水、チラー装置から光学素子及びモニター類へ供給される 2 次冷却水として用い、冷却水配管に掛かる全ての配管作業及び次世代放射光施設インターロックシステムへの接続を行う。 仕様(1) 水冷配管について、所定の冷却水供給・排水部からの配管工事を含む。 (2) チラー装置1) チラー装置は支給する。 2) 次の光学素子を冷却できるようにすること。 i. 第一光学素子(M0)ii. 第二光学素子(M1)iii. 偏角可変平面鏡(M2)iv. 回折格子(G)(3) 流量計38 / 1421) 流量計は支給する。 2) 流量計は本仕様書で必要な機器の復路に設けること(表3参照)。 3) 次世代放射光施設インターロックシステムへの配線を含む。 4) 電源が必要な場合にはこれの配線を含む。 (4) 圧力計1) M2 とGへの冷却水配管には、偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)の入口と出口のそれぞれに圧力計を設置すること。 特記事項(1) インターロック信号は直列配管による場合は、端子台上にて渡しが必要になる場合がある。 h) 次世代放射光施設標準インターロック(PLC)用ケーブル概要次世代放射光施設標準インターロックシステムへの接続に必要な各制御機器からのケーブルを所定の信号取り合い点まで接続する配線作業を行う。 仕様(1) 次世代放射光施設標準インターロックシステムにつなぎ込む機器及び信号の一覧を表3に示す。 (2) インターロック(PLC)信号取り合い点は、図 3 に示すようにハッチ外に設けるラック内及び架台脚部のPLC中継端子台とする。 (3) 制御機器と、ラック内及び架台脚部のPLC中継端子台間の配線を行うこと。 特記事項(1) PLC中継端子台での端子台番号は量研担当者の指示に従うこと。 i) 測温抵抗体用ケーブル概要光学素子の温度計測のために測温抵抗体用ケーブルを光学素子真空容器近辺に設置した多点計測モジュールまでの配線作業を行う。 仕様(1) 配線に必要なケーブル、コネクター等を含むこと。 (2) 多点計測モジュールは支給する。 製作した真空容器等を現地の指定場所へ搬入し据付調整、真空排気、光学素子の設置、アライメント調整、駆動機構の動作確認等を行う。 所望のビームライン性能を得るために機器を指定の位置に高精度に設置する。 a) 基準マーク、1式b) 真空容器の設置、1式c) 調整機構の精密設置、1式d) 機械原点、駆動範囲確認、1式39 / 142e) 光学素子の取付け、1式f) レーザーアライメント、1式g) 真空立ち上げ、1式a) 共通事項据付調整に関する手順書を作成すること。 手順書は図面を用いて簡潔かつ具体的に記すこと。 支給及び貸与物品においても、現地での据付、結線、真空排気を行うこと。 b) 基準マーク概要据付調整等に必要な基準点を示す基準マークを貼付する。 仕様(1) 光軸上(床面及ぴ水平レベル)には基準マークを5 mよりも細かい間隔で打つこと。 (2) 基準マークは、0.2 mm以下の線幅で十字が切られたシールとする。 マークには個別の識別番号を付し、マークを貼った箇所を図面で記すこと。 (3) マークを貼る際には、本施設側から渡される基準点を親とし、何次転写であるかを現場マーク及び図面上で明示すること。 (4) シールが容易に剥がれないように保護カバーをつけること。 (5) 光学素子調整機構、出口スリット、四象限スリット、アパーチャー及びモニター類については、光軸上及び光軸直角方向に対して 2 点以上のマークを貼ること。 機器設置後にも機器中心点が光軸上及び光軸直角方向から望むことにより、機器中心位置を確認できること。 c) 真空容器の設置概要真空容器をビームライン上の指定する位置に高精度に設置する。 仕様(1) 真空容器用架台は光軸に沿って所定位置に±2 mmの精度で設置し、アンカーボルトで固定すること。 (2) 真空容器の入射出射フランジ中心は±0.2 mmの精度で設置し、固定すること。 (3) 真空容器のフランジセンターを示す冶具については、ICF70、114、152 サイズについてこれを含むこと。 その他特殊サイズについても、使用する場合はこれを含むこと。 (4) NEG ポンプ等を含む真空容器においては、ポンプの性能を劣化させないために真空による封じ切りが速やかに行えるような荷姿とする。 このために、ポンプの組み付けをあえて避けるように指示する場合がある。 このとき、ポンプ単体封じ切り状態での動作試験によってポンプのリークチェックの代替とする場合がある。 (5) ガンマストッパー、真空ダクトについてはこれに準拠すること。 特記事項(1) 精密機器を設置する床面にコールドジョイント対策を施す場合があるが、これは本仕様の範囲外とする。 40 / 142d) 光学素子ホルダー及び駆動機構の精密設置概要光学素子ホルダー及び駆動機構(以下「調整機構」という。 )を所定の精度で各光学素子真空容器に精密に設置する。 仕様(1) 調整機構は±0.1 mmの精度で設置すること。 (2) 調整機構は所定の偏角、高さへ調整し設置すること。 この位置を機械原点と定める。 (3) 据付調整は、ダミーの鏡(アルミニウム製ブロック、中心線にケガキあり)を用いること。 (4) スリット、アパーチャー、モニター等の精密設置も調整機構のそれに準ずること。 その場合、機器の中心位置(高さ、方向)のケガキ線を基準として機械原点を定めるものとする。 (5) 真空排気、フランジ締結による変動を考慮し、これが極力低減されるように工夫すること。 なお、真空排気、フランジ締結に掛かる作業を進める中で協議の上、手順を確定させる。 e) 機械原点、駆動範囲確認概要光学素子を取り付けた状態でレーザーアライメントを行う際の目安とすることを目的に、手動・電動の全ての軸の機械原点及び駆動範囲限界を与える位置等を記録した一覧表及び図面を作成する。 仕様(1) 機械原点を与える位置を記録し、一覧表及び図面に付与して提出すること。 なお、この数値は、後に光学素子を取り付けた状態でレーザーアライメントを行う際の目安とするものである。 1) 手動の全ての軸について、機械原点を与えた寸法等を表に軸名とともに明記し、提出すること。 2) 電動の全ての軸について、機械原点を与えたパルス数に加え、メカのおおよその位置をノギス、マイクロメーター等で計測した数値を表に軸名とともに明記し、提出すること。 3) 当該調整機構の確認図に、寸法を計測した位置を明示すること。 (2) 範囲限界を与える位置を記録し、一覧表及び図面に付与して提出すること。 1) 手動の全ての軸について、範囲限界を与えた寸法等を表に軸名とともに明記し、提出すること。 2) 電動の全ての軸について、範囲限界を与えたパルス数に加え、メカのおおよその位置をノギス、マイクロメーター等で計測した数値を表に軸名とともに明記し、提出すること。 3) 当該調整機構の確認図に、寸法を計測した位置を明示すること。 (3) 作成した一覧表及び図面は試験検査成績書の別添として提出すること。 f) 光学素子の取付け概要41 / 142調整機構の精密設置に準じ、光学素子を光学素子ホルダーに取り付けた後、駆動機構に設置する。 仕様(1) 次の光学素子を取付け対象とする。 1) 第一光学素子(M0)2) 第二光学素子(M1)3) 偏角可変平面鏡(M2)4) 回折格子(G1(ダミー)、G2、G3)(2) 光学素子の側面と冷却板に挟み込む金属性シールは必要員数を用意すること。 (3) 光学素子の取付作業は量研担当者が行うが、その支援をすること。 (4) 光学素子の取付作業時には、マスク、帽子、手袋、無塵衣を装着し、光学素子の表面に埃、油分等が極力付着しないように配慮すること。 g) レーザーアライメント概要ダミーミラーや光学素子を光学素子真空容器に設置した状態でレーザー光を用いて精密にアライメントを行う。 仕様(1) レーザーアライメントは光学素子を取り付けた状態で行うこと。 (2) 光学ハッチ内の第一光学素子上流基準点から導入されたレーザー光を下流の光学素子、入射スリット、ビームラインの最下流までを通すこと。 状況によっては、真空セクションごとにレーザー光でのアライメントを行うこと。 また、この時の各機器の位置を光学原点とする。 (3) 光学原点の位置は、機械原点及び駆動範囲限界を与える位置等を記録した一覧表及び図面に明記すること。 その際、計測条件も併せて付記すること。 (4) レーザーの屈折の影響が無視できる範囲でビューポートを介して良いが、極力真空状態での計測が望ましい。 (5) 偏角可変平面鏡(M2)と回折格子の駆動範囲においてアライメントされていることを確認すること。 (6) レーザートランシット、鉛直器等の測長器を固定するレーザーアライメント用固定式台を製作し所定の位置にアンカー止めすること。 (7) 固定式台は、レーザートランシットを固定式台から取り外した際、容易に真空ダクト等を通すことができる構造であること。 なお、真空ダクト用ポストと兼用することを妨げない。 特記事項(1) 固定式台のサイズ、固定方法、設置場所等の詳細については別途協議の上で決定する。 h) 真空立ち上げ概要42 / 142真空立ち上げは、光学素子の設置、真空容器及び真空ダクトの接続、冷却水配管、ベーク機器、排気ポンプ等の取付け、電気配線等が完了した後、真空引きとベーキングの準備行為までを行う。 仕様(1) 光学素子装着前1) ベーキングは駆動機構等へ影響を及ぼすような温度とならないようにすること。 (2) 光学素子装着後1) ベーキングを実施する前に、駆動機構の動作確認を完了すること。 2) ベーキングを実施中、光学素子自体の温度が100℃以下を厳守すること。 3) ベーキング終了後、各真空容器の真空度が次の目標値を達成していることが望ましい。 i. 第一光学素子真空容器(VM0)：5E-8 Pa以下ii. 第二光学素子真空容器(VM1)：5E-8 Pa以下iii. 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)：5E-8 Pa以下iv. 上記以外の真空容器、真空ダクト：5E-7 Pa以下特記事項(1) 残留ガス分析を要求する場合がある。 受注者は、別途定める試験検査要領書に従って以下の試験を行い、その結果について試験検査成績書等にまとめて提出すること。 a) 員数試験b) 外観試験c) 寸法試験d) 調整機構駆動試験第一光学素子多軸調整機構(TRM0)駆動試験第二光学素子多軸調整機構(TRM1)駆動試験偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)駆動試験偏角可変平面鏡並進機構(TM2)駆動試験回折格子回転走査機構(RG)駆動試験回折格子切替機構(TG)駆動試験第二光学素子(M1)湾曲機構部性能試験入射スリット駆動試験e) リークチェック、1式f) ベーキングヒーター通電・絶縁試験、1式g) 据付精度試験、1式h) 安定性試験、1式43 / 142a) 共通事項試験検査成績書には次の項目を明記すること。 (1) 試験内容(2) 試験機材名(3) 試験時の条件等(4) 試験結果(5) 合格基準(6) 合否判定(7) 記録者の氏名(8) 承認者の氏名試験にあたり、出荷前試験、現地試験の場所に関わらず必要に応じて現場写真を求める場合がある。 試験風景をデジタルカメラ等で撮影し提出すること。 b) 員数試験員数が揃っていることを目視により確認すること。 組付調整済み又は真空・窒素封入されている箇所に関しては、調整、封入前の確認で代用する場合がある。 外観試験外観に打こん、損傷等の異常がないことを目視確認すること。 員数試験に準ずる。 寸法試験対象項目については別途協議の上、決定する。 c) 調整機構駆動試験共通項目(1) 次世代放射光施設標準コントローラーと実際に当該機器を運転するために使用するモータードライバーによって動作確認を行うこと。 (2) 全軸の駆動範囲は協議の上詳細を決定する手順に則って試験すること。 (3) 出来る限り現地試験とするが、やむをえず出荷試験とする場合でも、現地においても確認を求める場合がある。 (4) 通電時異常がないこと、動作方向の確認、変位量等、設計どおりの動きが実現されていることは、予め工場にて検査の上、記録に留め、出荷すること。 (5) パルスあたりの送り設計量又はエンコーダー値を予め以下の位置に対する数値として表にまとめ、実際の送りパルス数を確認すること。 1) 実使用状態に近い負荷をかけた状態とする。 2) 3 往復駆動し、方向に規定がある場合には、順方向及び逆方向について分けて記録をとること。 第一光学素子多軸調整機構(TRM0)駆動試験(1) 概要1) 以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 (2) 仕様1) 光学原点位置44 / 1422) ハードウェアリミット位置(両端)第二光学素子多軸調整機構(TRM1)駆動試験(1) 概要1) 以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 (2) 仕様1) 光学原点位置2) ハードウェアリミット位置(両端)偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)駆動試験(1) 概要1) 以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数、エンコーダー値をあわせて記す。 (2) 仕様1) 鏡面水平保持位置2) 最低エネルギー偏角位置3) ハードウェアリミット位置(両端)偏角可変平面鏡並進機構(TM2)駆動試験(1) 概要1) 以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 (2) 仕様1) 光学原点位置2) ハードウェアリミット位置(両端)回折格子回転走査機構(RG)駆動試験(1) 概要1) 以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数、エンコーダー値をあわせて記す。 (2) 仕様1) 鏡面水平保持位置2) 最低エネルギー偏角位置3) ハードウェアリミット位置(両端)回折格子切替機構(TG)駆動試験(1) 概要1) 以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 (2) 仕様1) 退避位置2) 各挿入位置3) ハードウェアリミット位置(両端)第二光学素子(M1)湾曲機構部性能試験(1) ベント機構を適用したダミーミラーに対してレーザー変位計又は 3 次元測定器で 5 点の変位量を計測し、使用する材料のヤング率の⽐からM1の曲率半径を確認すること。 入射スリット駆動試験(1) 概要45 / 1421) 以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 (2) 仕様1) 原点センサー位置2) ハードウェアリミット位置(両端)3) 全閉位置4) 開口幅再現性i. パルスを横軸、縦軸に光量を記し、10往復駆動に対して再現性を確認すること。 d) リークチェック概要指定するリークテスターを用いて真空容器、真空ダクト等の溶接個所、接続箇所が所定のリーク量以下であることを試験する。 仕様(1) プローブ：ヘリウム(支給品)(2) 試験方法：ヘリウム真空吹き付け法(3) 試験機器：次世代放射光施設標準型リークテスター(支給品)(4) リーク量：5×10−11 Pa·m3/s以下e) ベーキングヒーター通電・絶縁試験対象項目については別途協議の上決定する。 f) 据付精度試験環境計測を含めた対象項目については別途協議の上決定する。 g) 安定性試験第一光学素子(M0)、偏角可変平面鏡(M2)、回折格子(Gr)、入射スリット(S1v)について、表 5 に示す安定性を評価すること。 S1v については平行度も計測すること。 また、光学計測機器を含む計測機器を用いて、作製した装置について安定性を評価すること。 計測に用いる光学計測機器は受注者にて準備すること。 測定条件は、恒温室内にて連続６時間で測定し、1 分毎にサンプリングを行うこと。 なお、詳細については別途協議の上決定する。 46 / 142図3 02Uの分光器上面概略図(参考図)47 / 142※ 入射光の実験ホール床面からの高さは約1.4 mである。 ※ 破線で囲った中を光学素子真空容器として、それぞれ一つの真空セクションとする。 図4 02Uの光学素子配置図(参考図)図5 02UにおけるM2及びGrの回転機構(参考図)48 / 142表3 02Uにおける真空セクション一覧(参考)流量計出力 入力接点信号開 閉SetPointGaugeError既設 VG4ゲ バ ブ 既設 GV4前置集 製作 M0 ― ― ―WTR温度計― ― ―M 冷却水(MBS閉)―# モ タ架台脚部 流量計X1, X2,Y1, Y2, Y3コンプ ンシ ド 製作 CS ― ― ― WTR ― ― ―CS冷却水(MBS閉)― 架台脚部 ―真空ゲ ジ 支給 tVG01 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #1 ―ゲ バ ブ 支給 tGV01 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(MBS閉)B 架台脚部 ―デュア モニタ 製作 DM01DRV1DRV2OPUpperLowerWTR温度計― ― ―DM01(MBS閉)D 架台脚部 ―真空ゲ ジ 支給 tVG02 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #1 ―ガンマス パ 製作 GS ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―ゲ バ ブ 支給 tGV02 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(MBS閉)B 架台脚部 ―前置集 製作 M1 ― ― ―WTR温度計― ― ―M 冷却水(MBS閉)―# モ タ架台脚部 流量計X1, X2,Y1, Y2, Y3真空ゲ ジ 支給 tVG03 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #1 ―ゲ バ ブ 支給 tGV03 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(MBS閉)B 架台脚部 ―デュア モニタ 製作 DM02DRV1DRV2OPUpperLowerWTR温度計― ― ―DM2(MBS閉)D 架台脚部 ―アブソ バ 製作 tABS01 DRV OP CLWTR温度計― ― ―tABS 冷却水MBS閉C 架台脚部 ―真空ゲ ジ 支給 tVG04 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #1 ―ギ ン 支給 GU ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―ゲ バ ブ 支給 tGV04 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)B 架台脚部 ―鉛直アパ ャ 製作 APV01 ― ― ― WTR ― ― ―APV01(tABS 閉)―# モ タ架台脚部 流量計Y鉛直入 スリ 製作 S1V ― ― ― WTR ― ― ―S1V(tABS 閉)―# モ タ架台脚部 流量計Width, Y真空ゲ ジ 支給 tVG05 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #1 ―量モニタ 製作 FM01 DRV OP CL WTR ― ― ―FM01(tABS 閉)C 架台脚部 ―ゲ バ ブ 支給 tGV05 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)B 架台脚部 ―水 アパ ャ 製作 APH01 ― ― ― WTR ― ― ―APH01(tABS 閉)―# モ タ架台脚部 流量計X水 入 スリ 製作 S1H ― ― ― WTR ― ― ―S1H(tABS 閉)―# モ タ架台脚部 流量計Width, X真空ゲ ジ 支給 tVG06 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #1 ―量モニタ 製作 FM02 DRV OP CL WTR ― ― ―FM02(tABS 閉)C 架台脚部 ―ゲ バ ブ 支給 tGV06 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)B 架台脚部 ―スクリ ンモニタ 製作 tSCM01 ― ― ― ― ― ― ― ― ― #2 Y真空ゲ ジ 支給 tVG07 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #2 ―ゲ バ ブ 支給 tGV07 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)B 架台脚部 ―真空ゲ ジ 支給 tVG08 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #2 ―ゲ バ ブ 支給 tGV08 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)B 架台脚部 ―四象限スリ 製作 4DS01 ― ― ― WTR ― ― ―4DS01(tABS 閉)―# モ タ架台脚部 流量計Y1, Y2真空ゲ ジ 支給 tVG09 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #2 ―量モニタ 製作 FM03 DRV OP CL WTR ― ― ―FM03(tABS 閉)C 架台脚部 ―ゲ バ ブ 支給 tGV09 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)B 架台脚部 ―製作 M2 ― ― ― WTR ― ― ―M2 Mirror(tABS 閉)―# モ タ架台脚部 流量計X, Pitch製作 G ― ― ― WTR ― ― ―Grating(tABS 閉)―# モ タ架台脚部 流量計X, Pitch真空ゲ ジ 支給 tVG10 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #2 ―ゲ バ ブ 支給 tGV10 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)D 架台脚部 ―スクリ ンモニタ 製作 tSCM01 ― ― ― ― ― ― ― ― ― #2 Y真空ゲ ジ 支給 tVG11 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #2 ―ゲ バ ブ 支給 tGV11 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)D 架台脚部 ―真空ゲ ジ 支給 tVG12 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #2 ―ゲ バ ブ 支給 tGV12 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)D 架台脚部 ―四象限スリ 範囲外 4DS02 ― ― ― ― ― ― ― ― ― #2X1, X2,Y1, Y2アブソ バ兼 量モニタ範囲外 tABS02 ― ― ― ― ― ― ― ― ― #3 ―真空ゲ ジ 範囲外 tVG13 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #3 ―駆動機構 真空ゲ ジ端 盤入力 入力DC24V接点信号 接点信号インタ ク信号パ スモ タ真空度クラス真空ポンプ真空度 主排気 粗引き真空クション機器名称製作または支給区分個別機器記号TC4 仕様外5 OP IP&NEG 常設IP&NEG 搬OP IP&NEG 常設11 TCIP&NEGorIP搬TC IP&NEG 搬9 OPIP&NEGorIP搬OP IP&NEG 常設OPIP&NEGorIP搬TCIP&NEGorIP搬TCIP&NEGorIP搬121314108 6 7負荷保護属性有無有 保護機器駆動接点機器保護タイプ17 OP IP&NEG 搬15 TCIP&NEGorIP搬16 TCIP&NEGorIP搬49 / 142表4 02Uで使用する光学素子(反射鏡、回折格子)の仕様一覧(参考)名称 第一光学素子 第二光学素子 偏角可変平面鏡 回折格子記号 M0 M1 M2 G1, G2, G3形状 円筒鏡 円筒鏡 平面鏡 平面回折格子曲率半径Tan m >50,000 690 >140,000 >140,000Sag m 0.19331±1% >1,500 >1,500 >20,000IDからの距離mm 20,000 22,000 ― 54500入射角° 88.8 88.8 85.1～88.9 87.5 – 89.4基板物質Si(100) Si(100) Si(100) Si(100)有効領域長さ mm >180 >180 >380 >180幅 mm >10 >22 >20 >30外形寸法長さ mm 230(±0.1) 400(±0.1) 400(±0.1) 200(±0.1)幅 mm 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1)厚さ mm 50(±0.1) 30(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1)反射面の向き 水平 水平 鉛直上向き 鉛直下向き冷却 水冷 水冷 水冷 水冷側面研磨 あり あり あり あり側面の溝加工 なし なし あり あり表5 目標とする安定性ΔX ΔY ΔZ ΔRX ΔRY ΔRZM0 ±74 μm ±1.6 μm ― ±175 μrad ±3.3 μrad ±8.7 μradM1 ±85 μm ― ±1 mm ±1 deg ±3.1 μrad ±12.8 μradS1v ― ±5.1 μm ±1 mm ― ― ±1 degreeS1h ±20 μm ― ±1 mm ― ― ±1 degreeM2 ― ±1.0 μm ― ±36 nrad ― ±27 μradGr ― ±0.42 μm ±4.9 μm ±13 nrad ±873 μrad ±27 μrad表6 02UにおけるM0の動作と移動量及び精度動作 可動幅 繰返精度 最小可変量 駆動方法 備考X －3～+7 mm <5 μm <0.5 μm 電動 退避軸Y ±5 mm <5 μm <0.5 μm 電動Pitch (RY) ±0.5° <20 μrad <2.5 μrad 電動Roll (RZ) ±0.5° <50 μrad <20 μrad 電動Yaw (RX) ±0.5° <50 μrad <20 μrad 電動50 / 142表7 02UにおけるM1の動作と移動量及び精度動作 可動幅 繰返精度 最小可変量 駆動方法 備考X －7～+3 mm <5 μm ±10 mm <10 μm <0.5 μm 電動 塗分けの切替軸Pitch (RY) ±0.5° <20 μrad <2.5 μrad 電動Roll (RZ) ±0.5° <50 μrad <20 μrad 電動Yaw (RX) ±0.5° <50 μrad <20 μrad 電動ベントサグ量 10 μm <0.2 μm ※1 電動※1 パルスモーター制御の場合、全可変幅を16万パルス以上で分割すること。 表8 02UにおけるM2とGrの角度とエネルギー範囲回折格子中心刻線密度(lines/mm)Gr入射角(degree)Gr回折角(degree)M2偏角(degree)エネルギー(eV)G1 500 87.59 – 89.16 85.30 – 88.34 86.44 – 88.75 250 – 2000G2 1000 87.98 – 89.30 83.94 – 87.87 85.96 – 88.58 250 – 2000G3 1800 88.16 – 89.37 82.12 – 87.22 85.14 – 88.30 250 – 2000表9 02UにおけるM2の動作と移動量及び精度動作 可動幅 繰返精度 最小可変量 駆動方法 包括する機構X ±15 mm <20 μm <10 μm 電動 TM2Y ±2 mm <0.2 mm <0.07 mm 手動 HM2Z ― ― <0.02 mm ― ※1Pitch (RX) ※2 <5 μrad <0.1 μrad 電動 RM2※3Roll (RZ) ±0.5° <150 μrad <75 μrad 手動 HM2Yaw (RY) ― ― ― ― ―※1 ホルダーへのM2のマウント調整及びM2走査軸、並進軸への組付けによって調整可能とすること。 ※2 Pitch (Rx)は、M2の走査機構に包括される。 記載の繰返精度、最小可変量、目盛は走査機構のものである。 ただし、オフセット調整が必要な場合は、ホルダーに個別の調整軸を設ける場合がある。 ※3 M2の走査機構によって、鏡表面が水平となる配置が可能であること。 51 / 142表10 02UにおけるGrの動作と移動量及び精度動作 可動幅 繰返精度 最小可変量 駆動機構 包括する機構X ※1 <20 μm <10 μm 電動 TGY ±2 mm <0.2 mm <0.07 mm 手動 HGmZ ― ― <0.02 mm ― ※2Pitch (RX) ※2 <2.5 μrad <0.05 μrad 電動 RG※3Roll (RZ) ±0.5° <150 μrad <75 μrad 手動 HGmYaw (RY) ±0.5° <1.5 mrad <300 μrad ― ※4※1 X軸は、回折格子切替機構に包括される。 ※2 ホルダーへの回折格子のマウント調整及びGr走査軸、並進軸への組付けによって調整可能とすること。 ※3 Pitch (Rx)は、回折格子の走査機構に包括される。 記載の繰返精度、最小可変量、目盛は走査機構のものである。 Grの走査機構によって、鏡表面が水平となる配置が可能であること。 ただし、オフセット調整が必要な場合は、ホルダーに個別の調整軸を設ける場合がある。 ※4 Yaw (Rz)は、全てのホルダーをGr走査軸、並進軸に組み付け、冷却機構を装備した状態で調整可能であること。 表11 02Uにおける入射スリットS1VとS1Hの動作と移動量及び精度S1V動作 可動幅 繰返精度 最小可変量 駆動方法 環境 保証範囲下限 備考slit width 0 – 500μm <0.5μm <0.05μm 電動 真空 <2 μmX ― ― ― ― ― ―Y ±1 mm <0.5μm <0.05μm 電動 真空 ―Z ― ― ― ― ― ―RX ― ― ― ― ― ―架台上で予め調整組立RY ― ― ― ― ― ―RZ ― ― ― ― ― ―S1H動作 可動幅 繰返精度 最小可変量 目盛 環境 保証範囲下限 備考slit width 0 – 500μm <0.5μm <0.05μm 電動 真空 <2 μmX ±1 mm <0.5μm <0.05μm 電動 真空 ―Y ― ― ― ― ― ―Z ― ― ― ― ― ―RX ― ― ― ― ― ―架台上で予め調整組立RY ― ― ― ― ― ―RZ ― ― ― ― ― ―※ スリットの2枚の刃間の平行度及びそれぞれの刃先の直線度は、10 mmで1μm以下であること。 52 / 142表12 02Uにおける水冷式四象限スリット4DS01の動作と移動量及び精度動作 可動幅 繰返精度 最小可変量 駆動方法 備考X －5/+10 mm <20 μm <10 μm 手動中心を超えて5 mm、最大開口30mmY －5/+10 mm <10 μm 20 mm <5 μm 20 mm <5 μm 40 mm <0.2 mm <0.05 mm 手動53 / 142本章で記述される技術仕様書は、ナノ集光ビームを用いてスピン分解された固体のバンド構造を高いエネルギー分解能で直接観測する軟 X 線角度分解光電子分光(ARPES)計測に供することを目的とした軟X線ナノ光電子分光ビームライン(06U)における軟X線回折格子分光器の製作に関するものである。 本分光器は、挿入光源から放出される放射光を反射鏡及び回折格子を用いて純度の高い単色軟X線にするとともに、2ブランチに振り分けて出口スリットまで導くための装置である。 ダミーはアルミニウム製ブロックで、外形は表 16 に示す回折格子に準し、中心線にはケガキを入れること。 数量は1個とする。 (8) HG1にはG1を、HG2にはG2を、HG3にはダミーを取り付けること。 f) 再集光鏡ホルダー(HM3)仕様(1) HM3はM3を水平反射できる構造であること。 (2) 数量は2式とする。 駆動機構は、第一光学素子(M0)、第二光学素子(M1)、偏角可変平面鏡(M2)、回折格子(G1、G2、G3)、再集光鏡(M3)の位置、入射角等を超高真空下で電動駆動により高精度に設定、調整し、波長掃引、回折格子等の切り替え等を行うための駆動制御機構で、第一光学素子多軸調整機構(TRM0)、第二光学素子多軸調整機構(TRM1)、偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)、偏角可変平面鏡並進機構(TM2)、回折格子回転走査機構(RG)、回折格子切替機構(TG)、再集光鏡多軸調整機構(TRM3)から構成される。 第一光学素子多軸調整機構(TRM0)、1式第二光学素子多軸調整機構(TRM1)、1式偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)、1式偏角可変平面鏡並進機構(TM2)、1式回折格子回転走査機構(RG)、1式回折格子切替機構(TG)、1式再集光鏡多軸調整機構(TRM3)、1式a) 真空度：UHV-OP級b) 温度：室温a) 共通事項超高真空対応仕様であること。 駆動軸の可動幅は、特記なき限り光学原点から測った値として定義される。 駆動軸は次世代放射光施設標準パルスモータードライバーで駆動できること。 駆動軸は自己保持能力を有すること。 ステッピングモーターの励磁等の駆動保持力を与えない場合でも、容易に変位しない構造であること。 59 / 142駆動軸は真空排気に伴う圧力負荷によって規定された調整軸の精度が確保できなくなるような倒れ、伸縮等が発生しないように工夫すること。 駆動軸の大気側に基準位置を設け、レーザートラッカーを使って駆動機構のベース位置を捕捉できるようにすること。 位置の詳細については別途協議の上決定する。 b) 第一光学素子多軸調整機構(TRM0)概要第一光学素子多軸調整機構(TRM0)は、第一光学素子(M0)を独立に並進及び回転駆動させ、所定の位置及び入射角に設定するための多軸調整機構である。 また、M0 を放射光の光路から退避させることができる。 仕様(1) TRM0 は、M0 が取り付けられた液体窒素冷却式第一光学素子ホルダー(HM0)を横振り配置で設置できる構造であること。 (2) TRM0は、可動軸を独立に駆動できるようにすること。 (3) TRM0の可動幅、最小可変量及び繰返精度を表 22に示す。 (4) TRM0は、精度等の性能が液体窒素冷却による影響を受けにくい構造であること。 c) 第二光学素子多軸調整機構(TRM1)概要第二光学素子多軸調整機構(TRM1)は、第二光学素子(M1)を独立に並進及び回転駆動させ、所定の位置及び入射角に設定するための多軸調整機構である。 また、M1 を放射光の光路から退避させることができる。 仕様(1) TRM1 は、M1 が取り付けられた水冷式第二光学素子ホルダー(HM1)を横振り配置で設置できる構造であること。 (2) TRM1は可動軸を独立に駆動できるようにすること。 (3) TRM1の可動幅、最小可変量及び繰返精度を表 23に示す。 d) 偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)概要偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)は、偏角可変平面鏡(M2)の偏角を設定するための回転走査機構である。 回転中心はM2の反射面上にはなく回折格子(G)近傍にある。 仕様(1) RM2 は、M2 が取り付けられた水冷式偏角可変平面鏡調整ホルダー(HM2)を縦振り上向き配置で設置できる構造であること。 (2) M2とG(1200本/mm)の配置関係を図 8に、M2とG(600本/mm)の配置関係を図9に示す。 M2とGはy方向にオフセットh = 20 mmとすること。 (3) M2回転軸はx軸方向に平行であること。 (4) RM2の可動幅、最小可変量及び繰返精度を表 24に示す。 (5) RM2は、Rx回転によってM2表面を水平にした際に真空容器やその他の機器等と干渉しない構造であること。 60 / 142(6) 回転走査の安定性の評価が可能なエンコーダーを真空容器内に設置こと。 エンコーダーシステム(本体、ケーブル、PCと通信可能な表示機等)を一式含むこと。 e) 偏角可変平面鏡並進機構(TM2)概要偏角可変平面鏡並進機構(TM2)は、偏角可変平面鏡(M2)を超高真空中で並進移動させるための一軸駆動機構である。 仕様(1) TM2の可動幅、最小可変量及び繰返精度を表 25に示す。 (2) 並進駆動軸はx軸と平行であること。 (3) M2を所定の位置にマウントできるような調整しろを設けること。 f) 回折格子回転走査機構(RG)概要回折格子回転走査機構(RG)は、回折格子(G1、G2、G3)の偏角を設定するための一軸回転機構である。 回転軸は回折格子中心の表面内のx軸で、格子溝に平行である。 仕様(1) RG は、回折格子が取り付けられた水冷式回折格子調整ホルダー(HG1、HG2、HG3)を縦振り下向き配置で設置できる構造であること。 (2) 回折格子とM2との配置関係は図 2に示すとおりである。 (3) 回折格子の回転中心軸はM2のそれと同様にx軸と平行とする。 (4) RGの可動幅、最小可変量及び繰返精度を表 26に示す。 偏角可変のためGの光学原点を一意に決めることができないことから、回折格子の法線が鉛直下向き(表面が水平面内)の時を基準位置としてRxの可動幅を定義する。 (5) RG は、その可動幅の全域で後述の回折格子切替機構(TG)の位置によらず真空容器やその他の機器等と干渉しない構造であること。 特に、M2 と干渉する配置が存在する場合、先述の偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)と RG の駆動順序を工夫して干渉しないようにすること。 (6) 他の軸の可動量によって可動幅に制限が加わる恐れがある場合は、あらかじめどの軸を優先するか、何が干渉するのか、原点・リミット設定位置などを量研担当者と協議の上確定し、確認図に明示すること。 (7) 走査回転軸を支持するベアリングの回転中心を直接的に真空容器の外から見込むことができる構造であること。 真空排気によって軸ぶれの影響がない構造であることを前提に、真空状態で確認できる必要はない。 (8) 回転走査の安定性の評価が可能なエンコーダーを真空容器内に設置こと。 エンコーダーシステム(本体、ケーブル、PCと通信可能な表示機等)を一式含むこと。 g) 回折格子切替機構(TG)概要(1) 回折格子切替機構(TG)は、最大 3 枚の回折格子を超高真空下で切り替えるための一軸並進駆動機構である。 仕様61 / 142(1) TGは、超高真空中で3枚の回折格子(G1、G2、G3)を一軸並進駆動で切り替えることができる構造であること。 (2) TG の可動幅、最小可変量、繰返し精度を表 27 に示す。 ただし、可動幅は、全ての回折格子の照射有効領域に定常的に放射光を導くことができること。 (3) TGはx軸と平行であること。 (4) TG は、その可動幅の全域で回折格子回転走査機構(RG)の角度によらず真空容器やその他の機器等と干渉しない構造であること。 特に、M2 と干渉する配置が存在する場合、偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)と TG の駆動順序を工夫して干渉しないようにすること。 (5) 切替操作でRGの性能が損なわれないように工夫すること。 特記事項(1) 可動幅は回折格子ホルダーのサイズに依存するため別途協議の上決定する。 h) 再集光鏡多軸調整機構(TRM3)概要再集光鏡多軸調整機構(TRM3)は、超高真空下で互いに向き合った2枚の再集光鏡(M3)を並進及び回転駆動させて所定の位置及び入射角に設定するための多軸調整機構である。 なお、このポートは、光路の出射軸フランジロ径を大きくすることで兼用しても良い。 4) 両ポートには、特記なき限り支給するゲートバルブを設けること。 (3) ビューポート1) 放射光が照射されている光学素子の表面及び上流側の端面を目視観察するための超高真空対応ビューポートを設けること。 2) 直接端面が見込めないか見込みにくい場合は、簡易の鏡を挿入するなどの方法で視野の代用や視野の確保を認める場合がある。 (4) 機器用ポート1) 真空計測定子、質量分析計、メタルバルブ等を設置するための機器用ポートを設けること。 2) フランジサイズは原則ICF70とする。 3) 機器用ポートの内少なくとも１か所は、メタルバルブ、バイトンバルブ、リークバルブを設けること。 (5) 測温抵抗体用ポート1) 温度計測のための測温抵抗体用ポートを設けること。 2) 電流導入端子付フランジサイズはICF70とする。 (6) 主排気用ポート1) 主排気ポンプのための排気用ポートを設けること。 この取付位置は光学素子表面を見込まないこと。 63 / 1422) 光学素子交換時に取り外し不要である位置に設置すること。 3) 主排気ポンプの保守・交換作業によって機器のアライメントを崩さないこと。 4) 主排気ポンプの取り外しにあたっては、ハッチ内天井チェーンプロックやクレーンを使用できる場合はこれを使っても良い。 (7) 粗引き用ポート1) 貸与する粗引き排気ポンプを設置するための粗引き用ポートを設けること。 2) 粗引き用ポートには、特記なき限り支給するゲートバルブを設けること。 3) ゲートバルブに取り付けるためのバイトンバルブ付変換ニップルを設けること。 (8) 冷却水循環用ポート1) 光学素子を冷却するための冷却水循環用ポートを設けること。 2) 仕様の詳細は次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に従うこと。 必要とされるブランクフランジ、ガスケット及び締結部品の全てを含むこと。 ベーキング処理に必要なシースヒーターを具備すること。 リボンヒーターを用いても良い。 光学素子や調整機構は精密位置決めされているため、真空容器はベーキング処理の影響を受けて位置変動しないような構造であること。 光学素子の設置に際し、真空容器外からトランシット等を用いて調整を行えるよう光学素子表面が観察できる構造であること。 光学ハッチ内においては天井チェーンプロックを使用できるが、実験ホール内のクレーンの可動範囲外であるため、真空容器等の重量物を移動することができる機器を用意すること。 特記事項(1) ポートの取付け位置、数量、サイズ等の詳細については別途協議の上決定する。 b) 第一光学素子真空容器(VM0)概要第一光学素子真空容器(VM0)は第一光学素子(M0)等を搭載するための真空容器で、光学ハッチ内に設置される。 仕様(1) VM0 は、第一光学素子多軸調整機構(TRM0)を取り付けることができる構造であること。 (2) VM0 は光学ハッチ内に設置される。 その周辺スペースは狭いことから、光学素子交換用ポートの位置、サイズ等が遮蔽壁や他の機器と干渉しないようにすること。 (3) M0で散乱されたX線やM0から放出された光電子などが真空容器に照射されるのを避けるためコンプトンシールド(CS)を設置すること。 特記事項(1) 光学ハッチは本仕様の範囲外とする。 c) 第二光学素子真空容器(VM1)概要第二光学素子真空容器(VM1)は第二光学素子(M1)等を搭載するための真空容器で、光学ハッチ内に設置される。 64 / 142仕様(1) VM1 は、第二光学素子多軸調整機構(TRM1)を取り付けることができる構造であること。 (2) VM1 は光学ハッチ内に設置される。 その周辺スペースは狭いことから、光学素子交換用ポートの位置、サイズ等が遮蔽壁や他の機器と干渉しないようにすること。 特記事項(1) 光学ハッチは本仕様の範囲外とする。 d) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)概要偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)は、偏角可変平面鏡(M2)、回折格子(G)等を搭載するための真空容器で、光学ハッチ外に設置される。 仕様(1) VM2Gは、次の駆動機構を取り付けることができる構造であること。 1) 偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)2) 偏角可変平面鏡並進機構(TM2)3) 回折格子回転走査機構(RG)4) 回折格子切替機構(TG)(2) VM2Gの出射軸ポートの鉛直方向に 1 次回折光以外の高次回折光及び 0 次光を受光するためのシリコンウエハを取り付けること。 なお、シリコンウエハは支給する。 (3) 共通事項で掲げたポートに加え、以下のポートを設けること(図 10参照)。 1) 高次光アライメントポートi. 入射光軸へ可視光レーザーを導入し、鉛直方向下向きに発出される回折格子からの回折光を観測するポートである。 ii. 共通事項に示した出射軸ポートと開口を共有するが、回折格子の０次光、1 次光だけでなく高次回折光を取り出せる開口径であること。 2) 入射軸・出射軸アライメントポートi. M2 が取り除かれた状態でM2 より上流側に設置したレーザートランシットからのレーザー光を回折格子に照射するための入射軸アライメントポートを設けること。 ii. M2 を光軸から退避させた時のダイレクト光を下流へ取り出すための出射軸アライメントポートを設けること。 iii. Gを光軸から退避させた時、M2からの反射光を下流へ取り出すための出射軸アライメントポートを設け、真空側窓に蛍光剤を塗布したビューポートを取り付けること。 iv. 入射軸・出射軸アライメントは、共通事項に記載した入射軸ポート及び出射軸ポートのフランジ開口径を大きくすることで代用することができる。 3) ガス導入ポートi. 鏡表面の洗浄のためのガス導入ポートを設けること。 特記事項(1) 次の詳細については別途協議の上決定する。 65 / 1421) ポートのフランジ径、設置位置等2) レーザー光の波長3) スクリーンe) 再集光鏡真空容器(VM3)、1式概要再集光鏡真空容器(VM3)は、最大2枚まで再集光鏡(M3)を搭載するための真空容器である。 2枚のM3は排他的に使用され、反射光を2つのブランチに導く。 さらに、いずれのM3にも照射させずに光軸から退避させ下流へダイレクト光を通すことができる。 仕様(1) VM3には再集光鏡多軸調整機構(TRM3)を取り付けることができる構造であること。 (2) VM3は、互いに向き合う2枚のM3を排他的に使用することで反射光を2ブランチに供給できる構造であること。 また、M3を光軸から退避させたとき、下流へ放射光を通過させることができる構造であること。 1) Aブランチi. M3をリング側(06W側)へ入射角88.5°で水平反射させたとき。 2) Bブランチi. もう一方のM3 をリングと反対側(05W側)へ入射角 88.5°で水平反射させたとき。 3) ストレートi. M3を光軸から退避させたとき。 特記事項(1) VM3は、VM2Gに近いため光学素子交換用ポートの位置、サイズ等が互いに干渉しないようにすること。 (2) ポートのフランジ径、設置位置等の詳細については別途協議の上決定する。 光学素子真空容器用架台は、光学素子真空容器を設置し、位置調整、固定するための支持架台である。 第一光学素子真空容器用架台(STM0)、第二光学素子真空容器用架台(STM1)、偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)、再集光鏡真空容器用架台(STM3)から構成される。 a) 第一光学素子真空容器用架台(STM0)、1式b) 第二光学素子真空容器用架台(STM1)、1式c) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)、1式d) 再集光鏡真空容器用架台(STM3)、1式a) 共通事項光学素子真空容器用架台(本節内では以下「架台」という。 )は、真空容器を支える部位と、調整機構を支える部位を分離でき、ベーキングによって真空容器に伸縮があった場合でも、調整機構が変形しない構造であること。 66 / 142光学素子の調整機構、切替機構及び走査機構の相互の位置が±0.05 mm 以下の精度で決められること。 b) 第一光学素子真空容器用架台(STM0)概要第一光学素子真空容器用架台(STM0)は、第一光学素子多軸調整機構(TRM0)と第一光学素子真空容器(VM0)を分離して支持し、位置調整するための架台である。 仕様(1) STM0は、TRM0とVM0を分離して支持できる構造であること。 (2) STM0は、VM0内のM0の中心位置が光源(ID中心)から20,000 mm下流となるように配置できる構造であること。 図 6に設置位置の概略図を示す。 c) 第二光学素子真空容器用架台(STM1)概要(1) 第二光学素子真空容器用架台(STM1)は、第二光学素子多軸調整機構(TRM1)と第二光学素子真空容器(VM1)を分離して支持し、位置調整するための架台である。 仕様(1) STM1は、TRM1とVM1を分離して支持できる構造であること。 (2) STM1 は、VM1 内のM1 の中心位置がM0の中心位置から2000 mm下流となるように配置できる構造であること。 図 6に設置位置の概略図を示す。 d) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)概要偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)は、駆動機構(偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)、偏角可変平面鏡並進機構(TM2)、回折格子回転走査機構(RG)、回折格子切替機構(TG))と偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)を分離して支持し、位置調整するための架台である。 仕様(1) STM2Gは、駆動機構のTRM2、TM2、RG、TG、TM2と真空容器のVM1 をそれぞれ分離して支持できる構造であること。 (2) STM2Gは、VM2G内のGの中心位置がM1の中心位置から4000 mm下流となるように配置できる構造であること。 図 6に設置位置の概略図を示す。 e) 再集光鏡真空容器用架台(STM3)概要(1) 再集光鏡真空容器用架台(STM3)は、再集光鏡多軸調整機構(TRM3)と再集光鏡真空容器(VM3)を分離して支持し、位置調整するための架台である。 仕様(1) STM3は、TRM3とVM3を分離して支持できる構造であること。 (2) STM3は、VM3内の所定の基準位置がGの中心位置から1000 mm下流となるように配置できる構造であること。 図 6に設置位置の概略図を示す。 f) 特記事項STM0、STM1、STM2G、STM3のサイズ等の詳細については別途協議の上決定する。 67 / 142遮蔽関連部品は、鉛ブロック等で放射線遮蔽するための光学ハッチ、ガンマストッパー(GS)、ギロチン(GU)等の構造物である。 本仕様書では、光学ハッチ及びGUは本仕様の範囲外である。 a) ガンマストッパー(GS)、1式a) ガンマストッパー(GS)概要ガンマストッパー(GS)は、散乱体である第一光学素子(M0)で発生する制動放射線を遮蔽するため機器である。 仕様(1) GS の遮蔽体の材質は鉛とする。 その化学成分及び見掛⽐重は JIS H4301:2009 標準品に準拠し、それらを保証する化学分析結果等の書類を確認図の使用部品の性能表として添付すること。 (2) 遮蔽体の寸法(x×y×z)は、幅400 mm×高さ400 mm×長さ(厚さ)300 mmとする。 熱負荷の高い位置で使用するモニターは水冷方式の冷却機能を有する。 モニターは、再現性良く光軸に挿入することができ、また光軸から退避できる。 a) 水冷式デュアルビームモニター(DM01、DM02)、各1式b) 水冷式光量モニター(FM01)、1式c) 光量モニター(FM02A、FM02B)、各1式d) スクリーンモニター(tSCM01、tSCM02A、tSCM02B、tSCM03B)、各１式a) 共通事項使用する材料、加工品の仕上げ、ソケット、ケーブル等は超高真空仕様であること。 モニターの光軸への挿入及び光軸からの退避のための駆動機構は、特記なき限り DC24Vの電磁弁操作による圧縮空気を用いること。 駆動電力は次世代放射光施設標準インターロックシステムより供給する。 モニターに関連する信号線は、表 3 に示されているように、別途指示する端子台に結線すること。 モニターを取り付けるポートのフランジ面と光軸間の距離は、特記なき限り表 2 に示すとおり全て共通とする。 モニターの挿入時における位置再現性は±0.1 mm以下であること。 モニターの設置位置、受光面サイズ等の詳細は別途協議の上決定する。 b) 水冷式デュアルビームモニター(DM01、DM02)スクリーンモニター部(1) DM01は、M0の反射光とM0を退避した際のダイレクト光が照射した位置を大気側から目視観察できる構造であること。 (2) DM02は、M1の反射光とM1を退避した際のダイレクト光が照射した位置を大気側から目視観察できる構造であること。 (3) 受光部の視野は鉛直(y)方向で 25 mm以上、少なくとも光軸基準から±10 mm以上とする。 水平(x)方向はモニターの設置距離に応じて決めるが、M0、M1 の入射角に応じてストレート軸からの変位が 50 mm以上にわたって連続的に計測できなければならない。 (4) 受光面中心に十字状のケガキ線を1 mmピッチで入れること。 十字中心が、光軸に対して水平方向は±0.5 mm以内、鉛直方向は±0.1 mm以内に設置すること。 なお、これらは、大気中でトランシット又はオートレベルによって据付調整する際に、モニターに搭載する十字をモニター用ホルダー上にこれらの精度でマウントすることで調整すれば良い。 光量モニター部(1) DM01は、M0の反射光とM0を退避した際のダイレクト光が照射したときのドレイン電流を計測できる構造であること。 (2) DM02は、M1の反射光とM1を退避した際のダイレクト光が照射したときのドレイン電流を計測できる構造であること。 70 / 142(3) ドレイン電流はBNC端子を介して計測できるようにすること。 その際、信号線が光路上にかからないように取り回しを工夫すること。 (4) 受光面の材料は金、サイズは25 mm角、0.1 mm厚以上とする。 (5) 受光面中心が、光軸に対して±1 mm以内に設置すること。 切替機構(1) スクリーンモニターと光量モニターは、2つのドライブ信号で適宜切り替えることができるようにすること。 (2) モニターの挿入、退避ステータスを無電位接点によって与えること。 (3) 切替機構には圧縮空気を用いること。 (4) モニターは、光路を遮る位置と退避する位置に切り替える必要がある。 ビームサイズを考慮した上で退避位置や可動幅を確定すること。 冷却方法(1) モニターの受光面は水冷すること。 (2) 冷却水配管については、次世代放射光施設ビームライン機器共通事項のとおり。 c) 水冷式光量モニター(FM01)FM01は、放射光が受光面に照射したときのドレイン電流を計測できる構造である。 ドレイン電流は BNC 端子を介して計測できるようにすること。 その際、信号線が光路上にかからないように取り回しを工夫すること。 受光面の材料は金、サイズは25 mm角、0.1 mm厚以上とする。 受光面中心が、光軸に対して±1 mm以内に設置すること。 切替機構(1) 光量モニターは、ドライブ信号で挿入及び退避ができること。 (2) モニターの挿入、退避ステータスを無電位接点によって与えること。 (3) 切替機構には圧縮空気を用いること。 (4) モニターは、光路を遮る位置と退避する位置に切り替える必要がある。 ビームサイズを考慮した上で退避位置や可動幅を確定すること。 冷却方法(1) モニターの受光面は水冷すること。 d) 光量モニター(FM02A、FM02B)FM02A及びFM02Bは、放射光が受光面に照射したときのドレイン電流を計測できる構造である。 ドレイン電流は BNC 端子を介して計測できるようにすること。 その際、信号線が光路上にかからないように取り回しを工夫すること。 受光面の材料は金、サイズは25 mm角、0.1 mm厚以上とする。 受光面中心が、光軸に対して±1 mm以内に設置すること。 切替機構(1) 光量モニターは、ドライブ信号で挿入及び退避ができること。 (2) モニターの挿入、退避ステータスを無電位接点によって与えること。 (3) 切替機構には圧縮空気を用いること。 71 / 142(4) モニターは、光路を遮る位置と退避する位置に切り替える必要がある。 ビームサイズを考慮した上で退避位置や可動幅を確定すること。 e) スクリーンモニター(tSCM01、tSCM02A、tSCM02B、tSCM03B)スクリーンモニターは、光が照射した位置を大気側から目視観察できる構造であること。 受光部の視野は鉛直(y)方向で25 mm以上、少なくとも光軸基準から±10 mm以上とする。 水平(x)方向はモニターの設置距離に応じて決めるが、ストレート軸からの変位が50 mm以上にわたって連続的に計測できる構造であること。 受光面中心に十字状のケガキ線を 1 mm ピッチで入れること。 十字中心が、光軸に対して水平方向は±0.5 mm以内、鉛直方向は±0.1 mm以内に設置すること。 なお、これらは、大気中でトランシット又はオートレベルによって据付調整する際に、モニターに搭載する十字をモニター用ホルダー上にこれらの精度でマウントすることで調整すれば良い。 アブソーバー類は、放射光を受け止める光学機器である。 熱負荷の高い位置で使用するため水冷方式の冷却機能を有する水冷式アブソーバー(tABS01)と冷却機能有さないアブソーバー(tABS02B)の2種類がある。 a) 水冷式アブソーバー(tABS01)、1式b) アブソーバー(tABS02B)、1式a) 共通事項使用する材料、加工品の仕上げ、ソケット、ケーブル等は超高真空仕様であること。 アブソーバー類の光軸への挿入及び光軸からの退避のための駆動機構は、特記なき限りDC24Vの電磁弁操作による圧縮空気を用いること。 駆動電力は次世代放射光施設標準インターロックシステムより供給する。 アブソーバー類はドライブ信号で挿入及び退避ができること。 挿入、退避ステータスを無電位接点によって与えること。 アブソーバー類に関連する信号線は、表 17、表 18、表 19に示されているように、別途指示する端子台に結線すること。 アブソーバー類を取り付けるポートのフランジ面と光軸間の距離は、特記なき限り表 2 に示すとおり全て共通とするビームサイズを考慮した上で退避位置や可動幅を確定すること。 アブソーバー類の挿入時における位置再現性は±0.1 mm以下であること。 アブソーバー類の設置位置、受光面サイズ等の詳細は別途協議の上決定する。 b) 水冷式アブソーバー(tABS01)tABS01は、水冷式銅ブロックで放射光を受け止められる構造であること。 tABS01 の受光面を水冷すること。 冷却水配管については、次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に従うこと。 c) アブソーバー(tABS02B)72 / 142tABS02Bは、光量モニター(FM02A、FM02B)と同一仕様とする。 四象限スリット・アパーチャー類は、ビームの鉛直方向及び水平方向を積極的に制限することによって、アライメント調整、焦点探し、光学素子に照射されないビームの制限、迷光除去等に用いられる。 a) 四象限スリット(4DS01、4DS02B)、１式b) アパーチャー水平方向(APH01A、APH01B)、各1式鉛直方向(APV01A、APV01B)、各1式a) 共通事項四象限スリット・アパーチャー類に関連する信号線は、表 17表 18、表 19に示されているように、別途指示する端子台に結線すること。 ブレードの材料はステンレスとする。 b) 四象限スリット(4DS01、4DS02B)四象限スリットのブレードは水平方向(x 方向)及び鉛直方向(y 方向)の計 4 枚からなり、各ブレードは独立に手動で可動できること各ブレードのドレイン電流を計測できるようにすること。 四象限スリットブレードの可動幅、繰返し精度、最小可変量を表 31に示す。 c) アパーチャー水平方向(APH01A、APH01B)鉛直方向(APV01A、APV01B)(1) アパーチャーのブレードは水平方向(x 方向)及び鉛直方向(y 方向)で独立に電動で可動できること。 (2) ブレードの材料はステンレスとする。 (3) アパーチャーブレードの可動幅、繰返し精度、最小可変量を表 32に示す。 (4) アパーチャーを取り付けるポートのフランジ面と光軸間の距離は、特記なき限り表 2 に示すとおり全て共通とするa) 四象限スリット及びアパーチャーのサイズ等の詳細については別途協議の上決定する。 真空接続要素類は、真空機器取り合い点間を超高真空排気して放射光を下流に導くために必要な機器・部品で、真空ダクト・ベローズ類、真空容器、架台、真空ゲージ、真空排気ポンプ等で構成される。 また、構成機器・部品に使用されるメタルガスケット、ボルト、ナット等も含む。 取り合い点間は複数の真空セクションに区分される。 真空セクションの一部は、ダクトとベローズ以外の真73 / 142空接続要素類を取り外すことなく光学素子等のアライメント調整に必要なトランシット、鉛直器などの測量機器を設置できる構造である。 a) 真空ダクト・ベローズ類b) ゲートバルブc) 真空排気容器d) モニター用真空容器e) 架台f) 真空計g) 主排気ポンプh) 粗引き排気ポンプa) 共通事項真空セクション(1) 真空セクションは、表 17、表 18、表 19 に示すように、超高真空排気された真空機器取り合い点間をゲートバルブで適宜真空仕切りすることで定義する。 真空機器取り合い点(1) 真空機器取り合い点上流1) 真空機器取り合い点上流は、遮蔽壁ラチェット面から下流の 0.6 m地点に設置されるフロントエンド終端ゲートバルブ(GV4)のフランジ面とする。 2) GV4は本仕様の範囲外とする。 (2) 真空機器取り合い点下流1) A ブランチの場合、出口スリット(S2)の下流に設置されるゲートバルブ(tGV09A)のフランジ面とする。 2) Bブランチの場合、S2の下流に設置される後置鏡真空容器(仕様の範囲外)の上流側ゲートバルブ(tGV12B)のフランジ面とする。 b) 真空ダクト・ベローズ類概要真空ダクト・ベローズ類は、真空セクション間を接続し下流へビーム輸送するための真空機器である。 仕様(1) 真空ダクト・ベローズは、特記なき限り超高真空仕様であること。 (2) 真空ダクトは、特記なき限り ICF70とし、ダクト内径はφ30 mm以上であること。 ただし、ガンマストッパー(GS)に使用する真空ダクトは、この限りではないが、GS の遮蔽物の貰通部を最大限利用できる内径の真空ダクトを用いること。 (3) 各真空セクション間には原則ICF70の真空ベローズを設けること。 (4) 接続部に過度な荷重負荷がかかる場合には、適宜支持架台を設けること。 特記事項(1) 真空ダクト・ベローズの長さ、設置位置等の詳細については別途協議の上決定する。 74 / 142c) ゲートバルブ概要ゲートバルブは、圧縮空気駆動方式ゲートバルブ及び手動方式ゲートバルブの 2 種類で構成される。 圧縮空気駆動方式ゲートバルブは、真空機器間に適宜設置し真空仕切りすることで真空セクションを定義し、その開閉状態はインターロックシステムに組み込まれる。 一方、手動方式ゲートバルブは、粗引き排気ポンプ等に接続するために用いられ、インターロックシステムには原則組み込まれない。 なお、ゲートバルブは支給する。 構成(1) 圧縮空気駆動式ゲートバルブ(2) 手動方式ゲートバルブ仕様(1) 表 17、表 18、表 19 に示すように、真空セクション間には圧縮空気駆動式ゲートバルブを設置し、真空仕切りする。 (2) 圧縮空気駆動式ゲートバルブは支給する。 必要な配線・配管作業は本仕様に含まれる。 (3) 手動式ゲートバルブは、光学素子真空容器の粗引き排気用ポートに設置すること。 d) 真空排気容器概要真空排気容器は、輸送ダクト内の超高真空を維持するために主排気ポンプ等を取付けた真空容器である。 仕様(1) 次のポートを設けること。 1) 入射軸ポート2) 出射軸ポート3) 主排気ポンプ用ポート4) 粗引き排気ポンプ用ポート5) 真空計測定子用ポート6) 別途協議の上指示するポート(2) 入射軸ポート及び出射軸ポートには、特記なき限り支給する圧縮空気駆動式ゲートバルブを設置すること。 (3) 粗引き排気ポンプ用ポートには、オールメタルバルブ、バイトンバルブ、リークバルブを設けること。 e) モニター用真空容器概要モニター用真空容器は、モニター、四象限スリット、アパーチャー等の光学素子以外の真空機器を取り付けるための超高真空容器である。 仕様(1) モニター用真空容器には、次の機器を取り付けることが可能な構造であること。 1) 水冷式デュアルビームモニター(DM01、DM02)、各1式2) 水冷式光量モニター(FM01)、1式75 / 1423) 光量モニター(FM02A、FM02B)、各1式4) スクリーンモニター(tSCM01、tSCM02A、tSCM02B、tSCM03B)、各１式5) 水冷式アブソーバー(tABS01)、1式6) アブソーバー(tABS02B)、1式7) 四象限スリット(4DS01、4DS02B)、各１式8) アパーチャーi. 水平方向(APH01A、APH01B)、各1式ii. 鉛直方向(APV01A、APV01B)、各1式(2) モニター用真空容器には、次のポートを設けること。 1) モニター用ポート2) 入射軸ポート3) 出射軸ポート4) 主排気ポンプ用ポート5) 粗引き排気ポンプ用ポート6) 真空計測定子用ポート7) 別途協議の上指示するポート(3) モニター用ポートのフランジ面から光軸までの距離が表 2 を満足すること。 ただし、四象限スリットを取り付ける場合を除く。 (4) 入射軸ポート及び出射軸ポートには、特記なき限り支給する圧縮空気駆動式ゲートバルブを設置すること。 (5) 粗引き排気ポンプ用ポートには、オールメタルバルブ、バイトンバルブ、リークバルブを設けること。 特記事項(1) モニター用真空容器は、他の真空容器と一体型とすることが合理的である場合には、別途協議した上で一体型とすることを妨げない。 (2) 真空容器のサイズ等、各ポートの設置場所、サイズ等の詳細については別途協議の上決定する。 f) 架台概要架台は、真空排気容器、モニター用真空容器等を設置し固定するための機器である。 仕様(1) 共通事項のとおり。 特記事項(1) ハッチ後面パネル貫通部ダクトを支える支持架台の固定方法等は協議の上決定する。 g) 真空計概要真空計は、ホット型真空計とコールド型真空計の 2 種類とする。 次世代放射光施設標準インターロックシステムに組み込まれる機器である。 なお、真空計は支給する。 仕様76 / 142(1) 真空セクションごとにいずれかのタイプの真空計を1台以上設置すること。 (2) 第一光学素子真空容器(VM0)、第二光学素子真空容器(VM1)にはホット型真空計を 2台以上設置すること。 (3) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)には、ホット型真空計を 2 台以上、コールド型真空計を1台以上設置すること。 (4) コントローラーの設置場所1) コントローラーは原則制御ラックに収納すること。 2) VM2Gに設置するコールド型真空計用コントローラーはこの限りでない。 3) コントローラーとラック内のPLC中継端子台間の配線を行うこと。 h) 主排気ポンプ概要主排気ポンプは、真空セクションにおける光学素子真空容器、真空排気容器、モニター用真空容器、真空ダクト等を超高真空に保つためのゲッター(NEG)ポンプ、及び NEG とイオンポンプ(IP)の複合機(以下「複合機」という。 )である。 構成(1) NEG、NEGとIPの複合機仕様(1) 表 17、表 18、表 19 において、複合機が主排気ポンプとして指定されている真空セクションについては、ポンプ本体、ケーブル及び制御電源を含む。 (2) 容量等、所定の到達圧力の達成・維持が可能なサイズとする。 (3) ポンプのメンテナンスを考慮し、取り外し容易な位置に設置し、それが困難な場合には必要に応じて冶具を具備すること。 (4) 主排気ポンプのコントローラーは制御ラックに収納すること。 なお、ポンプとコントローラー間の配線までを含む。 i) 粗引き排気ポンプ概要粗引き排気ポンプは、光学素子真空容器、真空排気容器及びモニター用真空容器等に接続され粗排気に用いられる。 なお、粗引き排気ポンプは貸与する。 仕様(1) 共通事項のとおり。 j) 計装機器内配線、制御ラック内配線及び制御ラックヘの配線の全てを本仕様の範囲とする。 次世代放射光施設標準インターロックシステムヘの結線は別途指示する端子台とする。 ユーティリティー配管・配線は、ビームラインが動作するために必要な電力、圧縮空気、冷却水等のユーティリティーの配管及び配線に関するもので、駆動機器等の制御系に関わる次世代放射光施設標準モータードライバー及びコントローラーの配線に加え、次世代放射光施設標準インターロックシステムへの配線等が本仕様に含まれる。 77 / 142a) 制御ラック、1式b) 次世代放射光施設標準モータードライバー、1式c) 次世代放射光施設標準モーターコントローラー、1式d) 電力、1式e) 圧縮空気、1式f) 冷却水、1式g) 液体窒素、1式h) 次世代放射光施設標準インターロック(PLC)用ケーブル、1式i) モーター駆動ケーブル、1式j) 測温抵抗体用ケーブル、1式a) 共通事項全てのユーティリティー配管・配線は、ラダーの各所に設けられたユーティリティーステーションを供給点とすること。 ラダーは本仕様の範囲外である。 b) 制御ラック概要制御ラックは、真空計、排気ポンプ等のコントローラー、モータードライバー、モーターコントローラー等の機器を設置するための19インチラックで構成される。 仕様(1) 次世代放射光施設ビームライン共通事項のとおり。 (2) 制御用ラックは、図 6 に示すように、指定の場所に設置すること。 なお、上流側からBL#1、BL#2、BL#3と呼ぶ。 (3) 制御ラック内に設置する全てのコントローラー機器は個別のコネクターで電力供給ラインに接続すること。 (4) 制御ラック内の電力供給ラインごとに受電ブレーカー、ランプを設けること。 なお、コンセント盤が最寄りにあり、かつ、コンセント盤との取り合いが明示的な場合はこの限りではない。 (5) 受電ブレーカーが不用意に操作されないようにカバーを設けること。 c) 次世代放射光施設標準モータードライバー概要次世代放射光施設標準モータードライバーは、駆動機構のステッピングモーターにパルス数に応じた電力を供給し駆動させるためのステッピングモータードライバーで、各駆動軸に１台のモータードライバーが対応する。 次世代放射光施設標準モーターコントローラーとリミットスイッチ信号を送受信することができる。 ステッピングモーター及びモーターコントローラーへの接続ケーブルの製作、結線までを本仕様に含む。 仕様78 / 142(1) ステッピングモーターを駆動させるために必要な員数の次世代放射光施設標準ステッピングモータードライバーを用いること。 設置場所は、図 6のとおりとする。 d) 次世代放射光施設標準モーターコントローラー概要次世代放射光施設標準モーターコントローラーは、駆動機構のステッピングモーターを駆動させるために必要なパルス信号を発生し最大16台の次世代放射光施設標準モータードライバーを同時に制御する機器で、Ethernetを介してリモート制御することができる。 仕様(1) ステッピングモーターを駆動させるために必要な員数の次世代放射光施設標準モーターコントローラーを用いること。 設置場所は、図 6のとおりとする。 e) 電力概要電力は、所定の分電盤から本仕様における全ての機器(支給及び貸与物品を含む)へ電源を供給する。 適宜、制御盤、端子盤を設け電気工事配線作業を行う。 仕様(1) 電力は、図 6の分電盤を主たる取り合い点とする。 (2) ケーブルは、ケーブルラックの最寄点までをまとめ、ラダー、カッティングダクト等を用いて保護すること。 (3) 設置予定のラダーを使用して良い。 (4) 真空ダクトは取り外してアライメント調整を行う場合があるためケーブル経路はダクトを渡すことを避けること。 (5) ベーキングヒーター類の結線を含む。 軟 X 線用輸送チャンネル真空仕様(UHV-TC 級)に従うこと。 なお、この結線は機器別に端子台で受け、ビームライン・ベーキング要領に記載の次世代放射光施設標準型コネクター取り合いとすること。 f) 圧縮空気概要(1) 圧縮空気は、建屋施設から供給され、ゲートバルブの開閉、モニター類の挿入及び退避駆動の動力源として用いる。 圧縮空気駆動機器へ圧縮空気の配管作業を行う。 仕様(1) 圧搾空気で動作する機器への配管を行い、機器が正常に動作すること。 (2) 配管等は次世代放射光施設ビームライン共通事項に従うこと。 g) 冷却水概要冷却水は、建屋施設からチラー装置へ供給される 1 次冷却水、チラー装置から光学素子及びモニター類へ供給される 2 次冷却水として用い、冷却水配管に掛かる全ての配管作業及び次世代放射光施設インターロックシステムへの接続を行う。 仕様(1) 水冷配管について、所定の冷却水供給・排水部からの配管工事を含む。 (2) チラー装置79 / 1421) チラー装置は支給する。 2) 次の光学素子を冷却できるようにすること。 i. 第二光学素子(M1)ii. 偏角可変平面鏡(M2)iii. 回折格子(G)(3) 流量計1) 流量計は支給する。 2) 流量計は本仕様書で必要な機器の復路に設けること(図 6参照)。 3) 次世代放射光施設インターロックシステムへの配線を含む。 4) 電源が必要な場合にはこれの配線を含む。 (4) 圧力計1) M2 とGへの冷却水配管には、偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)の入口と出口のそれぞれに圧力計を設置すること。 特記事項(1) インターロック信号は直列配管による場合は、端子台上にて渡しが必要になる場合がある。 h) 液体窒素概要液体窒素は、建屋施設から液体窒素冷却装置へ供給される一次冷却、液体窒素冷却装置から光学素子へ供給される二次冷却に用いられる。 液体窒素冷却装置の二次側配管と第一光学素子(M0)用真空容器への接続までを本仕様の範囲とする。 仕様(1) 液体窒素冷却装置は、二次側冷却配管までを含め、支給する。 (2) 第一光学素子(M0)を液体窒素冷却できるように、第一光学素子用真空容器(VM0)に必要な配管を行い、液体窒素冷却装置の二次側配管と接続すること。 取り合いはバヨネット継手とする。 (3) 設置場所等の詳細については別途協議の上決定する。 i) 次世代放射光施設標準インターロック(PLC)用ケーブル概要次世代放射光施設標準インターロックシステムへの接続に必要な各制御機器からのケーブルを所定の信号取り合い点まで接続する配線作業を行う。 仕様(1) 次世代放射光施設標準インターロックシステムにつなぎ込む機器及び信号の一覧を表 17、表 18、表 19に示す。 (2) インターロック(PLC)信号取り合い点は、図 6 に示すようにハッチ外に設けるラック内及び架台脚部のPLC中継端子台とする。 (3) 制御機器と、ラック内及び架台脚部のPLC中継端子台間の配線を行うこと。 特記事項(1) PLC中継端子台での端子台番号は量研担当者の指示に従うこと。 80 / 142j) 測温抵抗体用ケーブル概要光学素子の温度計測のために測温抵抗体用ケーブルを光学素子真空容器近辺に設置した多点計測モジュールまでの配線作業を行う。 仕様(1) 配線に必要なケーブル、コネクター等を含むこと。 (2) 多点計測モジュールは支給する。 製作した真空容器等を現地の指定場所へ搬入し据付調整、真空排気、光学素子の設置、アライメント調整、駆動機構の動作確認等を行う。 所望のビームライン性能を得るために機器を指定の位置に高精度に設置する。 a) 基準マーク、1式b) 真空容器の設置、1式c) 調整機構の精密設置、1式d) 機械原点、駆動範囲確認、1式e) 光学素子の取付け、1式f) レーザーアライメント、1式g) 真空立ち上げ、1式a) 共通事項据付調整に関する手順書を作成すること。 手順書は図面を用いて簡潔かつ具体的に記すこと。 支給及び貸与物品においても、現地での据付、結線、真空排気を行うこと。 b) 基準マーク概要据付調整等に必要な基準点を示す基準マークを貼付する。 仕様(1) 光軸上(床面及び水平レベル)には基準マークを5 mよりも細かい間隔で打つこと。 (2) 基準マークは、0.2 mm以下の線幅で十字が切られたシールとする。 マークには個別の識別番号を付し、マークを貼った箇所を図面で記すこと。 (3) マークを貼る際には、本施設側から渡される基準点を親とし、何次転写であるかを現場マーク及び図面上で明示すること。 (4) シールが容易に剥がれないように保護カバーをつけること。 (5) 光学素子調整機構、出口スリット、四象限スリット、アパーチャー及びモニター類については、光軸上及び光軸直角方向に対して 2 点以上のマークを貼ること。 機器設置後にも機器中心点が光軸上及び光軸直角方向から望むことにより、機器中心位置を確認できること。 81 / 142c) 真空容器の設置概要真空容器をビームライン上の指定する位置に高精度に設置する。 仕様(1) 真空容器用架台は光軸に沿って所定位置に±2 mmの精度で設置し、アンカーボルトで固定すること。 (2) 真空容器の入射出射フランジ中心は±0.2 mmの精度で設置し、固定すること。 (3) 真空容器のフランジセンターを示す冶具については、ICF70、114、152 サイズについてこれを含むこと。 その他特殊サイズについても、使用する場合はこれを含むこと。 (4) NEG ポンプ等を含む真空容器においては、ポンプの性能を劣化させないために真空による封じ切りが速やかに行えるような荷姿とする。 このために、ポンプの組み付けをあえて避けるように指示する場合がある。 このとき、ポンプ単体封じ切り状態での動作試験によってポンプのリークチェックの代替とする場合がある。 (5) ガンマストパー、真空ダクトについてはこれに準拠すること。 特記事項(1) 精密機器を設置する床面にコールドジョイント対策を施す場合があるが、これは本仕様の範囲外とする。 d) 光学素子ホルダー及び駆動機構の精密設置概要光学素子ホルダー及び駆動機構(以下「調整機構」という。 )を所定の精度で各光学素子真空容器に精密に設置する。 仕様(1) 調整機構は±0.1 mmの精度で設置すること。 (2) 調整機構は所定の偏角、高さへ調整し設置すること。 この位置を機械原点と定める。 (3) 据付調整は、ダミーの鏡(アルミニウム製ブロック、中心線にケガキあり)を用いること。 (4) スリット、アパーチャー、モニター等の精密設置も調整機構のそれに準ずること。 その場合、機器の中心位置(高さ、方向)のケガキ線を基準として機械原点を定めるものとする。 (5) 真空排気、フランジ締結による変動を考慮し、これが極力低減されるように工夫すること。 なお、真空排気、フランジ締結に掛かる作業を進める中で協議の上、手順を確定させる。 e) 機械原点、駆動範囲確認概要光学素子を取り付けた状態でレーザーアライメントを行う際の目安とすることを目的に、手動・電動の全ての軸の機械原点及び駆動範囲限界を与える位置等を記録した一覧表及び図面を作成する。 仕様82 / 142(1) 機械原点を与える位置を記録し、一覧表及び図面に付与して提出すること。 なお、この数値は、後に光学素子を取り付けた状態でレーザーアライメントを行う際の目安とするものである。 1) 手動の全ての軸について、機械原点を与えた寸法等を表に軸名とともに明記し、提出すること。 2) 電動の全ての軸について、機械原点を与えたパルス数に加え、メカのおおよその位置をノギス、マイクロメーター等で計測した数値を表に軸名とともに明記し、提出すること。 3) 当該調整機構の確認図に、寸法を計測した位置を明示すること。 (2) 範囲限界を与える位置を記録し、一覧表及び図面に付与して提出すること。 1) 手動の全ての軸について、範囲限界を与えた寸法等を表に軸名とともに明記し、提出すること。 2) 電動の全ての軸について、範囲限界を与えたパルス数に加え、メカのおおよその位置をノギス、マイクロメーター等で計測した数値を表に軸名とともに明記し、提出すること。 3) 当該調整機構の確認図に、寸法を計測した位置を明示すること。 (3) 作成した一覧表及び図面は試験検査成績書の別添として提出すること。 f) 光学素子の取付け概要調整機構の精密設置に準じ、光学素子を光学素子ホルダーに取り付けた後、駆動機構に設置する。 仕様(1) 次の光学素子を取付対象とする。 1) 第一光学素子(M0)2) 第二光学素子(M1)3) 偏角可変平面鏡(M2)4) 回折格子(G1、G2、G3(ダミー))5) 再集光鏡(M3(２枚))(2) 光学素子の側面と冷却板に挟み込む金属性シールは必要員数を用意すること。 (3) 光学素子の取付作業は量研担当者が行うが、その支援をすること。 (1) 光学素子の取付作業時には、マスク、帽子、手袋、無塵衣を装着し、光学素子の表面に埃、油分等が極力付着しないように配慮すること。 g) レーザーアライメント概要ダミーミラーや光学素子を光学素子真空容器に設置した状態でレーザー光を用いて精密にアライメントを行う。 仕様(1) レーザーアライメントは光学素子を取り付けた状態で行うこと。 83 / 142(2) 光学ハッチ内の第一光学素子上流基準点から導入されたレーザー光を下流の光学素子、出口スリットまでを通すこと。 状況によっては、真空セクションごとにレーザー光でのアライメントを行うこと。 また、この時の各機器の位置を光学原点とする。 また、この時の各機器の位置を光学原点とする。 (3) 光学原点の位置は、機械原点及び駆動範囲限界を与える位置等を記録した一覧表及び図面に明記すること。 その際、計測条件も併せて付記すること。 (4) レーザーの屈折の影響が無視できる範囲でビューポートを介して良いが、極力真空状態での計測が望ましい。 (5) 偏角可変平面鏡(M2)と回折格子の駆動範囲においてアライメントされていることを確認すること。 (6) レーザートランシット、鉛直器等の測長器を固定するレーザーアライメント用固定式台を製作し所定の位置にアンカー止めすること。 (7) 固定式台は、レーザートランシットを固定式台から取り外した際、容易に真空ダクト等を通すことができる構造であること。 なお、真空ダクト用ポストと兼用することを妨げない。 特記事項(1) 固定式台のサイズ、固定方法、設置場所等の詳細については別途協議の上で決定する。 h) 真空立ち上げ概要真空立ち上げは、光学素子の設置、真空容器及び真空ダクトの接続、冷却水配管、ベーク機器、排気ポンプ等の取付け、電気配線等が完了した後、真空引きとベーキングの準備行為までを行う。 仕様(1) 光学素子装着前1) ベーキングは駆動機構等へ影響を及ぼすような温度とならないようにすること。 (2) 光学素子装着後1) ベーキングを実施する前に、駆動機構の動作確認を完了すること。 2) ベーキングを実施中、光学素子自体の温度が100℃以下を厳守すること。 3) ベーキング終了後、各真空容器の真空度が次の目標値を達成していることが望ましい。 i. 第一光学素子真空容器(VM0)：5E-8 Pa以下ii. 第二光学素子真空容器(VM1)：5E-8 Pa以下iii. 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)：5E-8 Pa以下iv. 再集光鏡真空容器(VM3)：5E-8 Pa以下v. 上記以外の真空容器、真空ダクト：5E-7 Pa以下特記事項(1) ベーキング後の真空度が目標値から大きく乖離している場合、リークテスターによるリークチェック、追加のベーキング等を要求する場合がある。 (2) 残留ガス分析を要求する場合がある。 84 / 142受注者は、別途定める試験検査要領書に従って試験を行い、その結果について試験検査成績書等にまとめて提出する。 a) 員数試験b) 外観試験c) 寸法試験d) 調整機構駆動試験第一光学素子多軸調整機構(TRM0)駆動試験第二光学素子多軸調整機構(TRM1)駆動試験偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)駆動試験偏角可変平面鏡並進機構(TM2)駆動試験回折格子回転走査機構(RG)駆動試験回折格子切替機構(TG)駆動試験再集光鏡多軸調整機構(TRM3)駆動試験出口スリット駆動試験e) リークチェック、1式f) ベーキングヒーター通電・絶縁試験、1式g) 据付精度試験、1式a) 共通事項試験検査成績票には次の項目を明記すること。 (1) 試験内容(2) 試験機材名(3) 試験時の条件等(4) 試験結果(5) 合格基準(6) 合否判定(7) 記録者の氏名(8) 承認者の氏名試験にあたり、出荷前試験、現地試験の場所に関わらず必要に応じて現場写真を求める場合がある。 試験風景をデジタルカメラ等で撮影し提出すること。 b) 員数試験員数が揃っていることを目視により確認すること。 組付調整済み又は真空・窒素封入されている箇所に関しては、調整、封入前の確認で代用する場合がある。 c) 外観試験外観に打こん、損傷等の異常がないことを目視確認すること。 員数試験に準ずる。 85 / 142d) 寸法検査対象項目については別途協議の上、決定する。 a) 共通項目次世代放射光施設標準コントローラーと実際に当該機器を運転するために使用するモータードライバーによって動作確認を行うこと。 全軸の駆動範囲は協議の上詳細を決定する手順に則って試験すること。 出来る限り現地試験とするが、やむをえず出荷試験とする場合でも、現地においても確認を求める場合がある。 通電時異常がないこと、動作方向の確認、変位量等、設計どおりの動きが実現されていることは、予め工場にて検査の上、記録に留め、出荷すること。 パルスあたりの送り設計量又はエンコーダー値を予め以下の位置に対する数値として表にまとめ、実際の送りパルス数を確認すること。 (1) 実使用状態に近い負荷をかけた状態とする。 (2) 3往復駆動し、方向に規定がある場合には、順方向及び逆方向について分けて記録をとること。 b) 第一光学素子多軸調整機構(TRM0)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 仕様(1) 光学原点位置(2) ハードウェアリミット位置(両端)c) 第二光学素子多軸調整機構(TRM1)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 仕様(1) 光学原点位置(2) ハードウェアリミット位置(両端)d) 偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数、エンコーダー値をあわせて記す。 仕様(1) 鏡面水平保持位置(2) 最低エネルギー偏角位置(3) ハードウェアリミット位置(両端)e) 偏角可変平面鏡並進機構(TM2)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 仕様86 / 142(1) 光学原点位置(2) ハードウェアリミット位置(両端)f) 回折格子回転走査機構(RG)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数、エンコーダー値をあわせて記す。 仕様(1) 鏡面水平保持位置(2) 最低エネルギー偏角位置(3) ハードウェアリミット位置(両端)g) 回折格子切替機構(TG)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 仕様(1) 退避位置(2) 各挿入位置(3) ハードウェアリミット位置(両端)h) 再集光鏡多軸調整機構(TRM3)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 仕様(1) 光学原点位置(2) ハードウェアリミット位置(両端)i) 出口スリット駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 仕様(1) 原点センサー位置(2) ハードウェアリミット位置(両端)(3) 全閉位置(4) 開口幅再現性1) パルスを横軸、縦軸に光量を記し、10往復駆動に対して再現性を確認すること。 j) リークチェック概要指定するリークテスターを用いて真空容器、真空ダクト等の溶接個所、接続箇所が所定のリーク量以下であることを試験する。 仕様(1) プローブ：ヘリウム(支給品)(2) 試験方法：ヘリウム真空吹き付け法(3) 試験機器：次世代放射光施設標準型リークテスター(支給品)87 / 142(4) リーク量：5×10−11 Pa·m3/s以下k) ベーキングヒーター通電・絶縁試験対象項目については別途協議の上、決定する。 l) 据付精度試験環境計測を含めた対象項目については別途協議の上、決定する。 88 / 142図 6 ビームライン06Uの全景の概略図(参考図)89 / 142図 7 06Uの光源から出口スリットまでの光学素子の配置図(参考図)源 距離 m10 20 30 40 50 0 22 262745.74図側 図S0源M0円筒M1円筒M2GM3円筒S2出口スリ1.41.420FESン エンドスリS2源 距離 m50 55 60 45 46.85 54.6 60.8 45.74図側 図M4AAブランチM5A4DSA四象限スリM6A作 こみウォ タSSA試料S2源 距離 m50 55 60 45 55.856.345.74図側 図BブランチM4B作 こみウォ タSSB試料1.4201.42090 / 142図 8 06Uの回折格子G(1200本/mm)を用いた高分解能モード(cff = 4.309)における偏角可変平面鏡(M2)との配置関係(参考図)図 9 06Uの回折格子G(600本/mm)を用いた高フラックスモード(cff = 1.335)における偏角可変平面鏡(M2)との配置関係(参考図)91 / 142図 10 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)に設置するポート(一部)の概略図(参考図)・回折格子真空容器(VM2G)Gzxy退避0次次M2出射軸アライメントポート高次光アライメント用ポート(兼出射軸ポート)入射軸ポート入射軸アライメントポートスクリ ン1次視レ ザガス導入ポート92 / 142表 15 06Uで使用する光学素子(反射鏡)の仕様一覧(参考)名称第一光学素子 第二光学素子 偏角可変平面鏡 再集光鏡記号 M0 M1 M2 M3形状 円筒鏡 円筒鏡 平面鏡 円筒鏡曲率半径Tan mm644,999(±1%)6E+07以上 1E+08以上 6E+07以上Sag mm 6E+07以上1151.79(±1%)1E+08以上981.15(±1%)IDからの距離 mm 20,000 22,000 - 27,000入射角※1 °88 88.5G1:KR = 81.145～88.02KF = 79～87.535G2:KR = 83.125～88.095KF = 77.005～87.08588.5基板物質 Si(100) Si(100) Si(100) Si(100)有効領域 長さ mm 140以上 170以上 270以上 140以上幅 mm 25以上7×3ラインマージン各28以上 20以上 24以上外形寸法 長さ mm 350(±0.1) 230(±0.1) 290(±0.1) 160(±0.1)幅 mm 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1)厚さ mm 80(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1)員数 1 1 1 2反射面の向き 水平 水平 鉛直上向き 水平冷却 液体窒素冷却 水冷 水冷 –側面研磨 あり あり あり あり側面の溝加工 なし なし あり あり※1 添え字Rは高分解能モードの場合の、Fは高フラックスモードの場合の偏角K※2 複数種類の溝深さを同一基板上に刻線93 / 142表 16 06Uで使用する光学素子(回折格子)の仕様一覧(参考)名称 回折格子 回折格子記号 G1 G2形状 平面回折格子 平面回折格子曲率半径 Tan mm 1E+08以上 1E+08以上Sag mm 1E+08以上 1E+08以上IDからの距離 mm 26,000 26,000偏角※1 ° 2K_R = 162.29～176.042K_F = 158～175.072K_R = 166.25～176.192K_F = 154.01～174.17基板物質 Si(100) Si(100)刻線密度※2 N0 1/mm 1200 600有効領域 長さ mm 95以上 95以上幅 mm 22以上 22以上外形寸法 長さ mm 105(±0.1) 105(±0.1)幅 mm 50(±0.1) 50(±0.1)厚さ mm 50(±0.1) 50(±0.1)員数 1 1反射面の向き 鉛直下向き 鉛直下向き冷却 水冷 水冷側面研磨 あり あり側面の溝加工 あり あり※1 添え字Rは高分解能モードの場合の、Fは高フラックスモードの場合の偏角※2 等間隔刻線溝※3 複数種類の溝深さを同一基板上に刻線94 / 142表 17 06Uにおける真空セクション一覧(上流側取り合い点から再集光鏡(M3)まで)(参考)流量計出力 入力接点信号開 閉SetPointGaugeError真空ゲ ジ 既設 VG4ゲ バ ブ 既設 GV4前置集 製作 M0 ― ― ― LN ― ― ―LN(MBS閉)# モ タ架台脚部 流量計X 、X 、Y 、Y 、Y3コンプ ンシ ド 製作 CS ― ― ― WTR ― ― ―CS冷却水(MBS閉)架台脚部 ―真空ゲ ジ 支給 tVG01 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1 ―ゲ バ ブ 支給 tGV01 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(MBS閉)B 架台脚部 ―デュア モニタ 製作 DM01DRV1DRV2OPUpperLowerWTR温度計― ― ―DM 冷却水(MBS閉)D 架台脚部 ―真空ゲ ジ 支給 tVG02 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1 ―ガンマス パ 製作 GSゲ バ ブ 支給 tGV02 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(MBS閉)B 架台脚部 ―前置集 製作 M1 ― ― ―WTR温度計― ― ―M 冷却水(MBS閉)# モ タ架台脚部 流量計X 、X 、Y 、Y 、Y3真空ゲ ジ 支給 tVG03 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1 ―ゲ バ ブ 支給 tGV03 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(MBS閉)B 架台脚部 ―デュア モニタ 製作 DM02DRV1DRV2OPUpperLowerWTR温度計― ― ―DM 冷却水(MBS閉)D 架台脚部 ―アブソ バ 製作 tABS01 DRV OP CLWTR温度計― ― ―tABS 冷却水MBS閉C 架台脚部 ―ギ ン 範囲外 GU真空ゲ ジ 支給 tVG04 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1 ―ゲ バ ブ 支給 tGV04 DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉B 架台脚部 ―四象限スリ 製作 4DS01 ― ― ― ― ― ― ― ―量モニタ 製作 FM01 DRV OP CL WTR ― ― ―FM 冷却水tABS 閉C 架台脚部 ―真空ゲ ジ 支給 tVG05 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1 ―ゲ バ ブ 支給 tGV05 DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉D 架台脚部 ―製作 M2 ― ― ― WTR ― ― ―M 冷却水tABS 閉# モ タ架台脚部 流量計X, Pitch製作 G ― ―G1G2G3WTR ― ― ―G冷却水tABS 閉D# モ タ架台脚部 流量計、 G 3接点X, Pitch真空ゲ ジ 支給 tVG06 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1 ―ゲ バ ブ 支給 tGV06 DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉D 架台脚部 ―再集 製作 M3ANTRBD# モ タ架台脚部 A/B接点X1, X2, Y1,Y2, Y3スクリ ンモニタ 製作 tSCM01 DRV OP CL ― ― ― ― ― C 架台脚部真空ゲ ジ 支給 tVG07 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1ゲ バ ブA 支給 tGV07A DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉D 架台脚部ゲ バ ブB 支給 tGV07B DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉D 架台脚部搬10 OP IP&NEG× 常設IP&NEG 常設8 TC NEG 搬11 OP9 TC NEG7 OP IP&NEG 常設6 TC NEG 搬5 OP IP&NEG 常設主排気 粗引き4 仕様外真空クション機器名称製作または支給区分個別機器記号インタ ク信号パ スモ タ真空度クラス真空ポンプ 駆動機構 真空ゲ ジ端 盤入力 入力DC24V接点信号 接点信号真空度負荷保護属性有無有 保護機器駆動接点機器保護タイプ95 / 142表 18 06Uにおける真空セクション一覧(再集光鏡(M3)からAブランチの出口スリット(S2A)まで)(参考)表 19 06Uにおける真空セクション一覧(再集光鏡(M3)からBブランチの試料位置まで)(参考)流量計出力 入力接点信号開 閉SetPointGaugeError水 アパ ャ 製作 APH01A ― ― ― ― ― ― ― ― #1 X1, X2垂直アパ ャ 製作 APV01A ― ― ― ― ― ― ― ― #1 Y1, Y2真空ゲ ジ 支給 tVG08A ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1ゲ バ ブ 支給 tGV08A DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉D 架台脚部スクリ ンモニタ 製作 tSCM02A DRV OP CL ― ― ― ― ― C 架台脚部真空ゲ ジ 支給 tVG09A ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1ゲ バ ブ 支給 tGV09A DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉D 架台脚部垂直出 スリ 製作 S2VA ― ― ― ― ― ― ― ― #1 Width水 スリ 製作 S2HA ― ― ― ― ― ― ― ― #1 Width, X量モニタ 製作 FM02A DRV OP CL ― ― ― ― ― C 架台脚部真空ゲ ジ 支給 tVG0910A ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC #1ゲ バ ブ 支給 tGV10A DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉D 架台脚部14A TC NEG 搬13A TC NEG× 搬粗引き12A TC NEG 搬パ スモ タ真空度クラス真空ポンプ 駆動機構 真空ゲ ジ端 盤入力 入力DC24V真空クション機器名称主排気負荷保護属性有無有 保護機器駆動接点機器保護タイプ製作または支給区分個別機器記号インタ ク信号接点信号 接点信号真空度流量計出力 入力接点信号開 閉SetPointGaugeError水 アパ ャ 製作 APH01B ― ― ― ― ― ― ― ― #1 X1, X2垂直アパ ャ 製作 APV01B ― ― ― ― ― ― ― ― #1 Y1, Y2真空ゲ ジ 支給 tVG08B ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1ゲ バ ブ 支給 tGV08B DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉D 架台脚部スクリ ンモニタ 製作 tSCM02B DRV OP CL ― ― ― ― ― C 架台脚部真空ゲ ジ 支給 tVG09B ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC #1ゲ バ ブ 支給 tGV09B DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉D 架台脚部垂直出 スリ 製作 S2VB ― ― ― ― ― ― ― ― #1 Width水 スリ 製作 S2HB ― ― ― ― ― ― ― ― #1 Width, X量モニタ 製作 FM02B DRV OP CL ― ― ― ― ― C 架台脚部真空ゲ ジ 支給 tVG10B ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1ゲ バ ブ 支給 tGV10B DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉D 架台脚部スクリ ンモニタ 製作 tSCM03B DRV OP CL ― ― ― ― ― C 架台脚部真空ゲ ジ 支給 tVG11B ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #3ゲ バ ブ 支給 tGV11B DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉D 架台脚部四象限スリ 製作 4DS02B ― ― ― ― ― ― ― ―アブソ バ 製作 tABS02B DRV OP CL ― ― ― ― ― C 架台脚部真空ゲ ジ 支給 tVG12B ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #3ゲ バ ブ 支給 tGV12B DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS B閉D 架台脚部16B TC NEG 搬15B TC NEG 搬14B TC NEG 搬13B TC NEG× 搬12B TC NEG 搬パ スモ タ真空度クラス真空ポンプ 駆動機構 真空ゲ ジ端 盤入力 入力DC24V真空クション機器名称製作または支給区分個別機器記号インタ ク信号接点信号 接点信号真空度負荷保護属性有無有 保護機器駆動接点機器保護タイプ主排気 粗引き96 / 142表 20 06Uにおける水冷式偏角可変平面鏡調整ホルダー(HM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ― ― ― ―y 鉛直移動 ±2 mm以上 0.07 mm以下 0.2 mm以下 手動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ヨー ― ― ― ―Rz ロール ±0.5°以上 75μrad以下 150μrad以下 手動表 21 06Uにおける水冷式回折格子調整ホルダー(HG1、HG2、HG3)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ― ― ― ―y 鉛直移動 ±2 mm以上 0.07 mm以下 0.2 mm以下 手動z 前後移動 ― ― - ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ヨー ±0.5°以上 0.3 mrad以下 1.5 mrad以下 手動Rz ロール ±0.5°以上 75μrad以下 150μrad以下 手動表 22 06Uにおける第一光学素子多軸調整機構(TRM0)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 －7～+3 mm以上 0.5μm以内 5μm以内 電動y 鉛直移動 ±10 mm以上 0.5μm以内 10μm以内 電動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ヨー ±0.5°以上 20μrad以内 50μrad以内 電動Ry ピッチ ±0.5°以上 2.5μrad以内 20μrad以内 電動Rz ロール ±0.5°以上 20μrad以内 50μrad以内 電動97 / 142表 23 06Uにおける第二光学素子多軸調整機構(TRM1)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 －7～+3 mm以上 0.5μm以内 5μm以内 電動y 鉛直移動 ±5 mm以上 0.5μm以内 5μm以内 電動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ヨー ±0.5°以上 20μrad以内 50μrad以内 電動Ry ピッチ ±0.5°以上 2.5μrad以内 20μrad以内 電動Rz ロール ±0.5°以上 20μrad以内 50μrad以内 電動表 24 06Uにおける偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ― ― ― ―y 鉛直移動 ― ― ― ―z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ －1°～+15°以上※ 0.1μrad以内 5μrad以内 電動Ry ヨー ― ― ― ―Rz ロール ― ― ― ―※ Rxの可動幅は、M2における法線が鉛直上向き(+y)の時を原点として測った角度。 表 25 06Uにおける偏角可変平面鏡並進機構(TM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ±15 mm以上 10μm以内 20μm以内 電動y 鉛直移動 ― ― ― ―z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ヨー ― ― ― ―Rz ロール ― ― ― ―98 / 142表 26 06Uにおける回折格子回転走査機構(RG)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ― ― ― ―y 鉛直移動 ― ― ― ―z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ －1°～+15°以上 0.05μrad以内 2.5μrad以内 電動Ry ヨー ― ― ― ―Rz ロール ― ― ― ―※ Rxの可動幅は、回折格子の法線が鉛直下向き(－y)の時を原点として測った角度。 表 27 06Uにおける回折格子切替機構(TG)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ※ 10μm以内 20μm以内 電動y 鉛直移動 ― ― ― ―z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ヨー ― ― ― ―Rz ロール ― ― ― ―※ 可動幅は、全ての回折格子の照射有効領域に定常的に放射光を導くことができる範囲とし、別途協議の上決定する。 表 28 06Uにおける再集光鏡多軸調整機構(TRM3)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ±7 mm以上 0.5μm以内 5μm以内 電動y 鉛直移動 ±1 mm以上 0.5μm以内 10μm以内 電動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ヨー ±0.5°以上 20μrad以内 50μrad以内 電動Ry ピッチ ±0.5°以上 2.5μrad以内 20μrad以内 電動Rz ロール ±0.5°以上 20μrad以内 50μrad以内 電動99 / 142表 29 06Uにおけるスリットブレードの開口幅の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 1 mm以上※ 0.05μm以内 0.5μm以内 電動y 鉛直移動 1 mm以上※ 0.05μm以内 0.5μm以内 電動z 前後移動 - - - -Rx ピッチ - - - -Ry ロール - - - -Rz ヨー - - - -※ 可動幅は全閉できること。 表 30 スリット開口中心位置の位置調整機構の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ±1 mm以上 0.5μm以内 0.5μm以内 電動y 鉛直移動 ±1 mm以上 0.07 mm以下 0.2 mm以下 手動z 前後移動 ±100 mm以上 0.1 mm以内 0.2 mm以内 電動Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ロール ― ― ― ―Rz ヨー ±1°以上 75μrad以下 150μrad以下 手動表 31 四象限スリットブレードの可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 －5/+10 mm※ 10μm以内 20μm以内 手動y 鉛直移動 －5/+10 mm※ 10μm以内 20μm以内 手動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ロール ― ― ― ―Rz ヨー ― ― ― ―※ 可動幅は光軸から最も退避させた時を原点とし、中心を超えて5 mm、最大開口30mmとする。 100 / 142表 32 アパーチャーブレードの可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 20 mm以上※ 0.05μm以内 5μm以内 電動y 鉛直移動 20 mm以上※ 0.05μm以内 5μm以内 電動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ロール ― ― ― ―Rz ヨー ― ― ― ―※ 可動幅は光軸から最も退避させた時を原点とする。 101 / 142本章で記述される技術仕様書は、軟 X 線吸収分光法に基づく X 線磁気円二色性(XMCD)等を用いた磁性・スピントロニクス材料研究等に供することを目的とした軟X線ナノ吸収分光ビームライン(13U)における軟X線回折格子分光器の製作に関するものである。 本分光器は、挿入光源から放出される放射光を反射鏡及び回折格子を用いて単色化して出口スリットまで導くための装置である。 本技術仕様書の範囲は、フロントエンド終端ゲートバルブからビームライン出口スリットまでの光学機器、真空機器等の設計、製作、検査、調整、据付に加え、光学素子(支給品)の据付調整、本施設における放射線安全及び機器保護のための次世代放射光施設標準インターロックシステム(仕様範囲外)に組み込むために必要な結線等を含む。 a) 図 11にビームラインの全景の概略図を示す。 b) 表 33に光学素子(反射鏡)の仕様一覧を示す。 c) 表 34に光学素子(回折格子)の仕様一覧を示す。 d) 表 35に真空セクションの一覧を示す。 a) 水冷式第一光学素子ホルダー(HM0)、1式b) 水冷式第二光学素子ホルダー(HM1)、1式c) 水冷式偏角可変平面鏡調整ホルダー(HM2)(表 36参照)d) 水冷式回折格子調整ホルダー(HG1、HG2、HG3)、各1式(表 37参照)a) 第一光学素子多軸調整機構(TRM0)、1式(表 38参照)b) 第二光学素子多軸調整機構(TRM1)、1式(表 39参照)c) 偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)、1式(表 40参照)d) 偏角可変平面鏡並進機構(TM2)、1式(表 41参照)e) 回折格子回転走査機構(RG)、1式(表 42参照)f) 回折格子切替機構(TG)、1式(表 43参照)a) 第一光学素子真空容器(VM0)、1式b) 第二光学素子真空容器(VM1)、1式c) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)、1式a) 第一光学素子真空容器用架台(STM0)、1式b) 第二光学素子真空容器用架台(STM1)、1式c) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)、1式102 / 142a) ガンマストッパー(GS)、1式a) 出口スリット(S2)、1式a) 水冷式デュアルビームモニター(DM01、DM02)、各1式b) 水冷式光量モニター(FM01)、1式c) 光量モニター(FM02)、1式a) 水冷式アブソーバー(tABS01)、1式a) 四象限スリット(4DS01、4DS02A)、各1式b) アパーチャー水平方向(APH01)、1式鉛直方向(APV01)、1式a) 真空ダクト・真空ベローズ類b) ゲートバルブc) 真空排気容器d) モニター用真空容器e) 架台f) 主排気ポンプg) 粗引き排気ポンプh) 計装a) 制御ラックb) 次世代放射光施設標準モータードライバーc) 次世代放射光施設標準モーターコントローラーd) 電力e) 圧縮空気f) 冷却水g) 次世代放射光施設標準インターロック(PLC)用ケーブルh) モーター駆動ケーブルi) 測温抵抗体用ケーブルa) 基準マークb) 真空容器の設置c) 調整機構の精密設置d) 機械原点、駆動範囲確認e) 光学素子の取付け103 / 142f) レーザーアライメントg) 真空立ち上げa) 員数試験b) 外観試験c) 寸法試験d) 調整機構駆動試験e) リークチェックf) ベーキングヒーター通電・絶縁試験g) 据付精度試験a) 以下の物品は支給する。 光学素子(M0、M1、M2、G1)真空計(コントローラー、ケーブル含む)粗引き排気ポンプゲートバルブチラー装置流量計測温抵抗体用多点計測モジュール(ケーブルは含まない)次世代放射光施設標準型リークテスター(ヘリウムガスを含む)ラダー蛍光剤シリコンウエハb) 以下の物品は貸与する。 粗引き排気ポンプc) 特記事項支給及び支給物品であっても結線及び動作確認を行うこと。 光学素子ホルダーは、第一光学素子(M0)、第二光学素子(M1)、偏角可変平面鏡(M2)、回折格子(G1、G2、G3)を超高真空中で保持するためのホルダーで、水冷式第一光学素子ホルダー(HM0)、水冷式第二光学素子ホルダー(HM1)、水冷式偏角可変平面鏡調整ホルダー(HM2)、水冷式回折格子調整ホルダー(HG1、HG2、HG3)から構成される。 光学素子ホルダーは冷却するための水冷機能を備える。 また、HM2、HG1、HG2 及び HG3 には、大気中及び真空中において所定の位置、角度に微調整できる高精度調整機構を有する。 a) 水冷式第一光学素子ホルダー(HM0)、1式104 / 142b) 水冷式第二光学素子ホルダー(HM1)、1式c) 水冷式偏角可変平面鏡調整ホルダー(HM2)、1式d) 水冷式回折格子調整ホルダー(HG1、HG2、HG3)、各1式a) 真空度：UHV-OP級b) 温度：室温a) 共通事項光学素子ホルダーに適用する光学素子(反射鏡及び回折格子)の仕様一覧を表 33 及び表34 にそれぞれ示す。 記載数値は設計最適化の過程で都合により変更する場合がある。 ただし、光学素子自体の製作は本仕様の範囲外である。 コーティングの有効領域全部を使える構造とすること。 光学素子ホルダーは、光学素子を不用意に歪ませずに保持でき、かつ、光学素子表面の有効領域に触れない構造であること。 光学素子ホルダーは、次の要件を満足する冷却に対応した構造であること。 (1) 冷却方式は水冷とし、光学素子の長手方向両側面に密着させた金属板等を介した間接冷却できる構造とし、これに必要な配管を行うこと。 (2) 光学素子や金属板に InGaを塗布する場合は、反応しない材料又は無電解ニッケルメッキと金メッキ処理など所定の処理を施すこと。 (3) 冷却水配管については、次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に従うこと。 逸脱する場合には、量研担当者と別途協議の上決定する。 (4) 真空中の冷却水配管は、ステンレス又は焼きなまし銅とする。 これら以外の材料を使用する場合には、量研担当者と別途協議の上決定する。 (5) 真空容器への冷却水導入フランジを取り外す際に、パイプ切断不要とすること。 必要に応じて食い込み継ぎ手にテフロン製のフロント・バックフェルールセットを用いること。 (6) 配管からの振動が光学素子や他の調整機構の精度に影響を与えにくいように工夫すること。 b) 水冷式第一光学素子ホルダー(HM0)仕様(1) HM0 はM0 を水平反射できる構造であり、M0 の上流側端面には、水冷された銅ブロックによるマスクを設け、不必要な放射パワーを鏡に入射させない構造とする。 この場合、ビューポートで観測する端面は、この銅ブロック端面位置とする。 c) 水冷式第二光学素子ホルダー(HM1)仕様(1) 共通事項のとおり。 d) 水冷式偏角可変平面鏡調整ホルダー(HM2)仕様(1) HM2 は、M2 を縦振り上向きで使用できる構造とし、M2 に対して重力の影響によるたわみが軽減されるように保持すること。 105 / 142(2) HM2 における調整軸は独立に制御できる構造であること。 HM2 の可動幅、最小可変量、繰返精度を表 36示す。 (3) 調整軸を駆動する際に他の調整軸に意図しない変位が生じることがないような構造であること。 (4) 調整軸は、真空排気前後でたわみによる変位が極力生じないような構造であること。 又は、変位を避けられない場合には、変位量を計測した上で位置決めを再現できるような構造とすること。 (5) 指定の軸に対して稼動状態(水冷機構を取り付けた上で全てのホルダーがセットされた状態)で位置に影響を与えることなく、調整可能な構造であること。 e) 水冷式回折格子調整ホルダー(HG1、HG2、HG3)仕様(1) 回折格子は鉛直方向下面が反射面であるため重力の影響によるたわみが軽減される位置で保持すること。 (2) HG1、HG2、HG3の調整軸は大気及び超高真空中でそれぞれ独立に制御できるようにすること。 HG1、HG2、HG3の可動幅、最小可変量、繰返精度を表 37に示す。 (3) 調整軸を駆動する際に他の調整軸に意図しない変位が生じることがないような構造であること。 (4) 調整軸は、真空排気前後でたわみによる変位が極力生じないような構造であること。 又は、変位を避けられない場合には、変位量を計測した上で位置決めを再現できるような構造とすること。 (5) 指定の軸に対して大気及び真空環境において、稼動状態(水冷機構を取り付けた上で全てのホルダーがセットされた状態)で位置に影響を与えることなく、調整可能な構造であること。 (6) アライメント用として本ホルダーに取り付け可能な回折格子のダミーを製作すること。 なお、このポートは、光路の出射軸フランジロ径を大きくすることで兼用しても良い。 4) 両ポートには、特記なき限り支給するゲートバルブを設けること。 (3) ビューポート1) 放射光が照射されている光学素子の表面及び上流側の端面を目視観察するための超高真空対応ビューポートを設けること。 2) 直接端面が見込めないか見込みにくい場合は、簡易の鏡を挿入するなどの方法で視野の代用や視野の確保を認める場合がある。 (4) 機器用ポート1) 真空計測定子、質量分析計、メタルバルブ等を設置するための機器用ポートを設けること。 2) フランジサイズは原則ICF70とする。 3) 機器用ポートの内少なくとも１か所は、メタルバルブ、バイトンバルブ、リークバルブを設けること。 (5) 測温抵抗体用ポート1) 温度計測のための測温抵抗体用ポートを設けること。 2) 電流導入端子付フランジサイズはICF70とする。 (6) 主排気用ポート1) 主排気ポンプのための排気用ポートを設けること。 この取付け位置は光学素子表面を見込まないこと。 2) 光学素子交換時に取り外し不要である位置に設置すること。 3) 主排気ポンプの保守・交換作業によって機器のアライメントを崩さないこと。 110 / 1424) 主排気ポンプの取り外しにあたっては、ハッチ内天井チェーンプロックやクレーンを使用できる場合はこれを使っても良い。 (7) 粗引き用ポート1) 貸与する粗引き排気ポンプを設置するための粗引き用ポートを設けること。 2) 粗引き用ポートには、特記なき限り支給するゲートバルブを設けること。 3) ゲートバルブに取り付けるためのバイトンバルブ付変換ニップルを設けること。 (8) 冷却水循環用ポート1) 光学素子を冷却するための冷却水循環用ポートを設けること。 2) 仕様の詳細は次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に従うこと。 必要とされるブランクフランジ、ガスケット及び締結部品の全てを含むこと。 ベーキング処理に必要なシースヒーターを具備すること。 リボンヒーターを用いても良い。 光学素子や調整機構は精密位置決めされているため、真空容器はベーキング処理の影響を受けて位置変動しないような構造であること。 光学素子の設置に際し、真空容器外からトランシット等を用いて調整を行えるよう光学素子表面が観察できる構造であること。 光学ハッチ内においては天井チェーンプロックを使用できるが、実験ホール内のクレーンの可動範囲外であるため、真空容器等の重量物を移動することができる機器を用意すること。 特記事項(1) ポートの取付位置、数量、サイズ等の詳細については別途協議の上決定する。 b) 第一光学素子真空容器(VM0)概要第一光学素子真空容器(VM0)は第一光学素子(M0)等を搭載するための真空容器で、光学ハッチ内に設置される。 仕様(1) VM0 は、第一光学素子多軸調整機構(TRM0)を取り付けることができる構造であること。 (2) VM0 は光学ハッチ内に設置される。 その周辺スペースは狭いことから、光学素子交換用ポートの位置、サイズ等が遮蔽壁や他の機器と干渉しないようにすること。 (3) M0で散乱されたX線やM0から放出された光電子などが真空容器に照射されるのを避けるためコンプトンシールド(CS)を設置すること。 特記事項(1) 光学ハッチは本仕様の範囲外とする。 c) 第二光学素子真空容器(VM1)概要第二光学素子真空容器(VM1)は第二光学素子(M1)等を搭載するための真空容器で、光学ハッチ内に設置される。 仕様111 / 142(1) VM1 は、第二光学素子多軸調整機構(TRM1)を取り付けることができる構造であること。 (2) VM1 は光学ハッチ内に設置される。 その周辺スペースは狭いことから、光学素子交換用ポートの位置、サイズ等が遮蔽壁や他の機器と干渉しないようにすること。 特記事項(1) 光学ハッチは本仕様の範囲外とする。 d) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)概要偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)は、偏角可変平面鏡(M2)、回折格子(G)等を搭載するための真空容器で、光学ハッチ外に設置される。 仕様(1) VM2Gは、次の駆動機構を取り付けることができる構造であること。 1) 偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)2) 偏角可変平面鏡並進機構(TM2)3) 回折格子回転走査機構(RG)4) 回折格子切替機構(TG)(2) VM2Gの出射軸ポートの鉛直方向に 1 次回折光以外の高次回折光及び 0 次光を受光するためのシリコンウエハを取り付けること。 なお、シリコンウエハは支給する。 (3) 共通事項で掲げたポートに加え、以下のポートを設けること(図 14参照)。 1) 高次光アライメントポートi. 入射光軸へ可視光レーザーを導入し、鉛直方向下向きに発出される回折格子からの回折光を観測するポートである。 ii. 共通事項に示した出射軸ポートと開口を共有するが、回折格子の０次光、1 次光だけでなく高次回折光を取り出せる開口径であること。 2) 入射軸・出射軸アライメントポートi. M2 が取り除かれた状態でM2 より上流側に設置したレーザートランシットからのレーザー光を回折格子に照射するための入射軸アライメントポートを設けること。 ii. M2 を光軸から退避させた時のダイレクト光を下流へ取り出すための出射軸アライメントポートを設けること。 iii. Gを光軸から退避させた時、M2からの反射光を下流へ取り出すための出射軸アライメントポートを設け、真空側窓に蛍光剤を塗布したビューポートを取り付けること。 iv. 入射軸・出射軸アライメントは、共通事項に記載した入射軸ポート及び出射軸ポートのフランジ開口径を大きくすることで代用することができる。 3) ガス導入ポートi. 鏡表面の洗浄のためのガス導入ポートを設けること。 特記事項(1) 次の詳細については別途協議の上決定する。 1) ポートのフランジ径、設置位置等112 / 1422) レーザー光の波長3) スクリーン光学素子真空容器用架台は、光学素子真空容器を設置し、位置調整、固定するための支持架台である。 第一光学素子真空容器用架台(STM0)、第二光学素子真空容器用架台(STM1)、偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)から構成される。 a) 第一光学素子真空容器用架台(STM0)、1式b) 第二光学素子真空容器用架台(STM1)、1式c) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)、1式a) 共通事項光学素子真空容器用架台(本節内では以下「架台」という。 )は、真空容器を支える部位と、調整機構を支える部位を分離でき、ベーキングによって真空容器に伸縮があった場合でも、調整機構が変形しない構造であること。 光学素子の調整機構、切替機構及び走査機構の相互の位置が±0.05 mm 以下の精度で決められること。 b) 第一光学素子真空容器用架台(STM0)概要第一光学素子真空容器用架台(STM0)は、第一光学素子多軸調整機構(TRM0)と第一光学素子真空容器(VM0)を分離して支持し、位置調整するための架台である。 仕様(1) STM0は、TRM0とVM0を分離して支持できる構造であること。 (2) STM0は、VM0内のM0の中心位置が光源(ID中心)から20,000 mm下流となるように配置できる構造であること。 図 12に設置位置の概略図を示す。 c) 第二光学素子真空容器用架台(STM1)概要第二光学素子真空容器用架台(STM1)は、第二光学素子多軸調整機構(TRM1)と第二光学素子真空容器(VM1)を分離して支持し、位置調整するための架台である。 仕様(1) STM1は、TRM1とVM1を分離して支持できる構造であること。 (2) STM1 は、VM1 内のM1 の中心位置がM0の中心位置から2000 mm下流となるように配置できる構造である。 図 12に設置位置の概略図を示す。 d) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)概要偏角可変平面鏡・回折格子真空容器用架台(STM2G)は、駆動機構(偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)、偏角可変平面鏡並進機構(TM2)、回折格子回転走査機構(RG)、回折格113 / 142子切替機構(TG))と偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)を分離して支持し、位置調整するための架台である。 仕様(1) STM2Gは、駆動機構のTRM2、TM2、RG、TG、TM2と真空容器のVM1 をそれぞれ分離して支持できる構造であること。 (2) STM2Gは、VM2G内のGの中心位置がM1の中心位置から4000 mm下流となるように配置できる構造であること。 図 12に設置位置の概略図を示す。 遮蔽関連部品は、鉛ブロック等で放射線遮蔽するための光学ハッチ、ガンマストッパー(GS)、ギロチン(GU)等の構造物である。 本仕様書では、光学ハッチ及びGUは本仕様の範囲外である。 a) ガンマストッパー(GS)、1式a) ガンマストッパー(GS)概要ガンマストッパー(GS)は、散乱体である第一光学素子(M0)で発生する制動放射線を遮蔽するため機器である。 仕様(1) GS の遮蔽体の材質は鉛とする。 その化学成分及び見掛⽐重は JIS H4301:2009 標準品に準拠し、それらを保証する化学分析結果等の書類を確認図の使用部品の性能表として添付すること。 (2) 遮蔽体の寸法(x×y×z)は、幅400 mm×高さ400 mm×長さ(厚さ)300 mmとする。 熱負荷の高い位置で使用するモニターは水冷方式の冷却機能を有する。 モニターは、再現性良く光軸に挿入することができ、また光軸から退避できる。 a) 水冷式デュアルビームモニター(DM01、DM02)、各1式b) 水冷式光量モニター(FM01)、1式c) 光量モニター(FM02)、1式a) 共通事項使用する材料、加工品の仕上げ、ソケット、ケーブル等は超高真空仕様であること。 モニターの光軸への挿入及び光軸からの退避のための駆動機構は、特記なき限り DC24Vの電磁弁操作による圧縮空気を用いること。 駆動電力は次世代放射光施設標準インターロックシステムより供給する。 モニターに関連する信号線は、表 35に示されているように、別途指示する端子台に結線すること。 モニターを取り付けるポートのフランジ面と光軸間の距離は、特記なき限り表 2 に示すとおり全て共通とする。 モニターの挿入時における位置再現性は±0.1 mm以下であること。 モニターの設置位置、受光面サイズ等の詳細は別途協議の上決定する。 b) 水冷式デュアルビームモニター(DM01、DM02)スクリーンモニター部(1) DM01は、M0の反射光とM0を退避した際のダイレクト光が照射した位置を大気側から目視観察できる構造であること。 (2) DM02は、M1の反射光とM1を退避した際のダイレクト光が照射した位置を大気側から目視観察できる構造であること。 (3) 受光部の視野は鉛直(y)方向で 25 mm以上、少なくとも光軸基準から±10 mm以上とする。 水平(x)方向はモニターの設置距離に応じて決めるが、M0、M1 の入射角に応じてストレート軸からの変位が 50 mm以上にわたって連続的に計測できなければならない。 (4) 受光面中心に十字状のケガキ線を1 mmピッチで入れること。 十字中心が、光軸に対して水平方向は±0.5 mm以内、鉛直方向は±0.1 mm以内に設置すること。 なお、これらは、大気中でトランシット又はオートレベルによって据付調整する際に、モニターに搭載する十字をモニター用ホルダー上にこれらの精度でマウントすることで調整すれば良い。 光量モニター部116 / 142(1) DM01は、M0の反射光とM0を退避した際のダイレクト光が照射したときのドレイン電流を計測できる構造であること。 (2) DM02は、M1の反射光とM1を退避した際のダイレクト光が照射したときのドレイン電流を計測できる構造であること。 (3) ドレイン電流はBNC端子を介して計測できるようにすること。 その際、信号線が光路上にかからないように取り回しを工夫すること。 (4) 受光面の材料は金、サイズは25 mm角、0.1 mm厚以上とする。 (5) 受光面中心が、光軸に対して±1 mm以内に設置すること。 切替機構(1) スクリーンモニターと光量モニターは、2つのドライブ信号で適宜切り替えることができるようにすること。 (2) モニターの挿入、退避ステータスを無電位接点によって与えること。 (3) 切替機構には圧縮空気を用いること。 (4) モニターは、光路を遮る位置と退避する位置に切り替える必要がある。 ビームサイズを考慮した上で退避位置や可動幅を確定すること。 冷却方法(1) モニターの受光面は水冷すること。 (2) 冷却水配管については、次世代放射光施設ビームライン機器共通事項のとおり。 c) 水冷式光量モニター(FM01)FM01は、放射光が受光面に照射したときのドレイン電流を計測できる構造である。 ドレイン電流は BNC 端子を介して計測できるようにすること。 その際、信号線が光路上にかからないように取り回しを工夫すること。 受光面の材料は金、サイズは25 mm角、0.1 mm厚以上とする。 受光面中心が、光軸に対して±1 mm以内に設置すること。 切替機構(1) 光量モニターは、ドライブ信号で挿入及び退避ができること。 (2) モニターの挿入、退避ステータスを無電位接点によって与えること。 (3) 切替機構には圧縮空気を用いること。 (4) モニターは、光路を遮る位置と退避する位置に切り替える必要がある。 ビームサイズを考慮した上で退避位置や可動幅を確定すること。 冷却方法(1) モニターの受光面は水冷すること。 d) 光量モニター(FM02)FM02は、放射光が受光面に照射したときのドレイン電流を計測できる構造である。 ドレイン電流は BNC 端子を介して計測できるようにすること。 その際、信号線が光路上にかからないように取り回しを工夫すること。 受光面の材料は金、サイズは25 mm角、0.1 mm厚以上とする。 受光面中心が、光軸に対して±1 mm以内に設置すること。 切替機構117 / 142(1) 光量モニターは、ドライブ信号で挿入及び退避ができること。 (2) モニターの挿入、退避ステータスを無電位接点によって与えること。 (3) 切替機構には圧縮空気を用いること。 (4) モニターは、光路を遮る位置と退避する位置に切り替える必要がある。 ビームサイズを考慮した上で退避位置や可動幅を確定すること。 アブソーバー類は、放射光を受け止める光学機器である。 熱負荷の高い位置で使用するため水冷方式の冷却機能を有する水冷式アブソーバー(tABS01)で構成される。 a) 水冷式アブソーバー(tABS01)、1式a) 共通事項使用する材料、加工品の仕上げ、ソケット、ケーブル等は超高真空仕様であること。 アブソーバー類の光軸への挿入及び光軸からの退避のための駆動機構は、特記なき限りDC24Vの電磁弁操作による圧縮空気を用いること。 駆動電力は次世代放射光施設標準インターロックシステムより供給する。 アブソーバー類はドライブ信号で挿入及び退避ができること。 挿入、退避ステータスを無電位接点によって与えること。 アブソーバー類に関連する信号線は、表 35に示されているように、別途指示する端子台に結線すること。 アブソーバー類を取り付けるポートのフランジ面と光軸間の距離は、特記なき限り表 2 に示すとおり全て共通とするビームサイズを考慮した上で退避位置や可動幅を確定すること。 アブソーバー類の挿入時における位置再現性は±0.1 mm以下であること。 アブソーバー類の設置位置、受光面サイズ等の詳細は別途協議の上決定する。 b) 水冷式アブソーバー(tABS01)tABS01は、水冷式銅ブロックで放射光を受け止められる構造であること。 tABS01 の受光面を水冷すること。 冷却水配管については、次世代放射光施設ビームライン機器共通事項に従うこと。 四象限スリット・アパーチャー類は、ビームの鉛直方向及び水平方向を積極的に制限することによって、アライメント調整、焦点探し、光学素子に照射されないビームの制限、迷光除去等に用いられる。 a) 四象限スリット(4DS01)、1式b) アパーチャー水平方向(APH01)、1式118 / 142鉛直方向(APV01、1式a) 共通事項四象限スリット・アパーチャー類に関連する信号線は、表 35に示されているように、別途指示する端子台に結線すること。 ブレードの材料はステンレスとする。 b) 四象限スリット(4DS01)四象限スリットのブレードは水平方向(x 方向)及び鉛直方向(y 方向)の計 4 枚からなり、各ブレードは独立に手動で可動できること。 四象限スリットブレードの可動幅、繰返し精度、最小可変量を表 46に示す。 c) アパーチャー(APH01、APV01)アパーチャーのブレードは水平方向(x方向)及び鉛直方向(y方向)で独立に電動で可動できること。 アパーチャーブレードの可動幅、繰返し精度、最小可変量を表 47に示す。 アパーチャーを取り付けるポートのフランジ面と光軸間の距離は、特記なき限り表 2 に示すとおり全て共通とするa) 四象限スリット及びアパーチャーのサイズ等の詳細については別途協議の上決定する。 真空接続要素類は、真空機器取り合い点間を超高真空排気して放射光を下流に導くために必要な機器・部品で、真空ダクト・ベローズ類、真空容器、架台、真空ゲージ、真空排気ポンプ等で構成される。 また、構成機器・部品に使用されるメタルガスケット、ボルト、ナット等も含む。 取り合い点間は複数の真空セクションに区分される。 真空セクションの一部は、ダクトとベローズ以外の真空接続要素類を取り外すことなく光学素子等のアライメント調整に必要なトランシット、鉛直器などの測量機器を設置できる構造である。 a) 真空ダクト・ベローズ類b) ゲートバルブc) 真空排気容器d) モニター用真空容器e) 架台f) 真空計g) 主排気ポンプh) 粗引き排気ポンプa) 共通事項真空セクション119 / 142(1) 真空セクションは、表 35 に示すように、超高真空排気された真空機器取り合い点間をゲートバルブで適宜真空仕切りすることで定義する。 真空機器取り合い点(1) 真空機器取り合い点上流1) 真空機器取り合い点上流は、遮蔽壁ラチェット面から下流の 0.6 m地点に設置されるフロントエンド終端ゲートバルブ(GV4)のフランジ面とする。 2) GV4は本仕様の範囲外とする。 (2) 真空機器取り合い点下流1) 出口スリット(S2)の下流に設置されるゲートバルブ(tGV07)のフランジ面とする。 b) 真空ダクト・ベローズ類概要真空ダクト・ベローズ類は、真空セクション間を接続し下流へビーム輸送するための真空機器である。 仕様(1) 真空ダクト・ベローズは、特記なき限り超高真空仕様であること。 (2) 真空ダクトは、特記なき限り ICF70とし、ダクト内径はφ30 mm以上であること。 ただし、ガンマストッパー(GS)に使用する真空ダクトは、この限りではないが、GS の遮蔽物の貰通部を最大限利用できる内径の真空ダクトを用いること。 (3) 各真空セクション間には原則ICF70の真空ベローズを設けること。 (4) 接続部に過度な荷重負荷がかかる場合には、適宜支持架台を設けること。 特記事項(1) 真空ダクト・ベローズの長さ、設置位置等の詳細については別途協議の上決定する。 c) ゲートバルブ概要ゲートバルブは、圧縮空気駆動方式ゲートバルブ及び手動方式ゲートバルブの 2 種類で構成される。 圧縮空気駆動方式ゲートバルブは、真空機器間に適宜設置し真空仕切りすることで真空セクションを定義し、その開閉状態はインターロックシステムに組み込まれる。 一方、手動方式ゲートバルブは、粗引き排気ポンプ等に接続するために用いられ、その開閉状態はインターロックシステムに原則組み込まれない。 なお、ゲートバルブは支給する。 構成(1) 圧縮空気駆動式ゲートバルブ(2) 手動方式ゲートバルブ仕様(1) 表 35 に示すように、真空セクション間には圧縮空気駆動式ゲートバルブを設置し、真空仕切りする。 (2) 圧縮空気駆動式ゲートバルブは支給する。 必要な配線・配管作業は本仕様に含まれる。 (3) 手動式ゲートバルブは、光学素子真空容器の粗引き排気用ポートに設置すること。 d) 真空排気容器概要120 / 142真空排気容器は、輸送ダクト内の超高真空を維持するために主排気ポンプ等を取付けた真空容器である。 仕様(1) 次のポートを設けること。 1) 入射軸ポート2) 出射軸ポート3) 主排気ポンプ用ポート4) 粗引き排気ポンプ用ポート5) 真空計測定子用ポート6) 別途協議の上指示するポート(2) 入射軸ポート及び出射軸ポートには、特記なき限り支給する圧縮空気駆動式ゲートバルブを設置すること。 (3) 粗引き排気ポンプ用ポートには、オールメタルバルブ、バイトンバルブ、リークバルブを設けること。 e) モニター用真空容器概要モニター用真空容器は、モニター、四象限スリット、アパーチャー等の光学素子以外の真空機器を取り付けるための超高真空容器である。 仕様(1) モニター用真空容器には、次の機器を取り付けることが可能な構造であること。 1) 水冷式デュアルビームモニター(DM01、DM02)、各1式2) 水冷式光量モニター(FM01)、1式3) 光量モニター(FM02)、1式4) 水冷式アブソーバー(tABS01)、1式5) 四象限スリット(4DS01)、１式6) アパーチャー(APH01、APV01)、各1式(2) モニター用真空容器には、次のポートを設けること。 1) モニター用ポート2) 入射軸ポート3) 出射軸ポート4) 主排気ポンプ用ポート5) 粗引き排気ポンプ用ポート6) 真空計測定子用ポート7) 別途協議の上指示するポート(3) モニター用ポートのフランジ面から光軸までの距離が表 2 を満足すること。 ただし、四象限スリットを取り付ける場合を除く。 (4) 入射軸ポート及び出射軸ポートには、特記なき限り支給する圧縮空気駆動式ゲートバルブを設置すること。 121 / 142(5) 粗引き排気ポンプ用ポートには、オールメタルバルブ、バイトンバルブ、リークバルブを設けること。 特記事項(1) モニター用真空容器は、他の真空容器と一体型とすることが合理的である場合には、別途協議した上で一体型とすることを妨げない。 (2) 真空容器のサイズ等、各ポートの設置場所、サイズ等の詳細については別途協議の上決定する。 f) 架台概要架台は、真空排気容器、モニター用真空容器等を設置し固定するための機器である。 仕様(1) 共通事項のとおり。 特記事項(1) ハッチ後面パネル貫通部ダクトを支える支持架台の固定方法等は協議の上決定する。 g) 真空計概要(1) 真空計は、ホット型真空計とコールド型真空計の 2 種類とする。 次世代放射光施設標準インターロックシステムに組み込まれる機器である。 なお、真空計は支給する。 仕様(1) 真空セクションごとにいずれかのタイプの真空計を1台以上設置すること。 (2) 第一光学素子真空容器(VM0)、第二光学素子真空容器(VM1)にはホット型真空計を 2台以上設置すること。 (3) 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)には、ホット型真空計を 2 台以上、コールド型真空計を1台以上設置すること。 (4) コントローラーの設置場所1) コントローラーは原則制御ラックに収納すること。 2) VM2Gに設置するコールド型真空計用コントローラーはこの限りでない。 3) コントローラーとラック内のPLC中継端子台間の配線を行うこと。 h) 主排気ポンプ概要主排気ポンプは、真空セクションにおける光学素子真空容器、真空排気容器、モニター用真空容器、真空ダクト等を超高真空に保つためのゲッター(NEG)ポンプ、及び NEG とイオンポンプ(IP)の複合機(以下「複合機」という。 )である。 構成(1) NEG、NEGとIPの複合機仕様(1) 主排気ポンプとして、表 35 において複合機が指定されている真空セクションについては、ポンプ本体、ケーブル及び制御電源を含む。 (2) 容量等、所定の到達圧力の達成・維持が可能なサイズとする。 122 / 142(3) ポンプのメンテナンスを考慮し、取り外し容易な位置に設置し、それが困難な場合には必要に応じて冶具を具備すること。 (4) 主排気ポンプのコントローラーは制御ラックに収納すること。 なお、ポンプとコントローラー間の配線までを含む。 i) 粗引き排気ポンプ概要粗引き排気ポンプは、光学素子真空容器、真空排気容器及びモニター用真空容器等に接続され粗排気に用いられる。 なお、粗引き排気ポンプは貸与する。 仕様(1) 共通事項のとおり。 j) 計装機器内配線、制御ラック内配線及び制御ラックヘの配線の全てを本仕様の範囲とする。 次世代放射光施設標準インターロックシステムヘの結線は別途指示する端子台とする。 ユーティリティー配管・配線は、ビームラインが動作するために必要な電力、圧縮空気、冷却水等のユーティリティーの配管及び配線に関するもので、駆動機器等の制御系に関わる次世代放射光施設標準モータードライバー及びコントローラーの配線に加え、次世代放射光施設標準インターロックシステムへの配線等が本仕様に含まれる。 a) 制御ラック、1式b) 次世代放射光施設標準モータードライバー、1式c) 次世代放射光施設標準モーターコントローラー、1式d) 電力、1式e) 圧縮空気、1式f) 冷却水、1式g) 次世代放射光施設標準インターロック(PLC)用ケーブル、1式h) モーター駆動ケーブル、1式i) 測温抵抗体用ケーブル、1式a) 共通事項全てのユーティリティー配管・配線は、ラダーの各所に設けられたユーティリティーステーションを供給点とすること。 ラダーは本仕様の範囲外である。 b) 制御ラック概要制御ラックは、真空計、排気ポンプ等のコントローラー、モータードライバー、モーターコントローラー等の機器を設置するための19インチラックで構成される。 仕様123 / 142(1) 次世代放射光施設ビームライン共通事項のとおり。 (2) 制御用ラックは、図 11 に示すように、指定の場所に設置すること。 なお、上流側からBL#1、BL#2、BL#3と呼ぶ。 (3) 制御ラック内に設置する全てのコントローラー機器は個別のコネクターで電力供給ラインに接続すること。 (4) 制御ラック内の電力供給ラインごとに受電ブレーカー、ランプを設けること。 なお、コンセント盤が最寄りにあり、かつ、コンセント盤との取り合いが明示的な場合はこの限りではない。 (5) 受電ブレーカーが不用意に操作されないようにカバーを設けること。 c) 次世代放射光施設標準モータードライバー概要次世代放射光施設標準モータードライバーは、駆動機構のステッピングモーターにパルス数に応じた電力を供給し駆動させるためのステッピングモータードライバーで、各駆動軸に１台のモータードライバーが対応する。 次世代放射光施設標準モーターコントローラーとリミットスイッチ信号を送受信することができる。 ステッピングモーター及びモーターコントローラーへの接続ケーブルの製作、結線までを本仕様に含む。 仕様(1) ステッピングモーターを駆動させるために必要な員数の次世代放射光施設標準ステッピングモータードライバーを用いること。 (2) 設置場所は、図 11のとおりとする。 d) 次世代放射光施設標準モーターコントローラー概要次世代放射光施設標準モーターコントローラーは、駆動機構のステッピングモーターを駆動させるために必要なパルス信号を発生し最大16台の次世代放射光施設標準モータードライバーを同時に制御する機器で、Ethernetを介してリモート制御することができる。 仕様(1) ステッピングモーターを駆動させるために必要な員数の次世代放射光施設標準モーターコントローラーを用いること。 (2) 設置場所は、図 11のとおりとする。 e) 電力概要電力は、所定の分電盤から本仕様における全ての機器(支給及び貸与物品を含む)へ電源を供給する。 適宜、制御盤、端子盤を設け電気工事配線作業を行う。 仕様(1) 電力は、図 11の分電盤を主たる取り合い点とする。 (2) ケーブルは、ケーブルラックの最寄点までをまとめ、ラダー、カッティングダクト等を用いて保護すること。 (3) 設置予定のラダーを使用して良い。 124 / 142(4) 真空ダクトは取り外してアライメント調整を行う場合があるためケーブル経路はダクトを渡すことを避けること。 (5) ベーキングヒーター類の結線を含む。 軟 X 線用輸送チャンネル真空仕様(UHV-TC 級)に従うこと。 なお、この結線は機器別に端子台で受け、ビームライン・ベーキング要領に記載の次世代放射光施設標準型コネクター取り合いとすること。 f) 圧縮空気概要(1) 圧縮空気は、建屋施設から供給され、ゲートバルブの開閉、モニター類の挿入及び退避駆動の動力源として用いる。 圧縮空気駆動機器へ圧縮空気の配管作業を行う。 仕様(1) 圧搾空気で動作する機器への配管を行い、機器が正常に動作すること。 (2) 配管等は次世代放射光施設ビームライン共通事項に従うこと。 g) 冷却水概要冷却水は、建屋施設からチラー装置へ供給される 1 次冷却水、チラー装置から光学素子及びモニター類へ供給される 2 次冷却水として用い、冷却水配管に掛かる全ての配管作業及び次世代放射光施設インターロックシステムへの接続を行う。 仕様(1) 水冷配管について、所定の冷却水供給・排水部からの配管工事を含む。 (2) チラー装置1) チラー装置は支給する。 2) 次の光学素子を冷却できるようにすること。 i. 第一光学素子(M0)ii. 第二光学素子(M1)iii. 偏角可変平面鏡(M2)iv. 回折格子(G)(3) 流量計1) 流量計は支給する。 2) 流量計は本仕様書で必要な機器の復路に設けること(図 11参照)。 3) 次世代放射光施設インターロックシステムへの配線を含む。 4) 電源が必要な場合にはこれの配線を含む。 (4) 圧力計1) M2 とGへの冷却水配管には、偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)の入口と出口のそれぞれに圧力計を設置すること。 特記事項(1) インターロック信号は直列配管による場合は、端子台上にて渡しが必要になる場合がある。 h) 次世代放射光施設標準インターロック(PLC)用ケーブル概要125 / 142次世代放射光施設標準インターロックシステムへの接続に必要な各制御機器からのケーブルを所定の信号取り合い点まで接続する配線作業を行う。 仕様(1) 次世代放射光施設標準インターロックシステムにつなぎ込む機器及び信号の一覧を表 35に示す。 (2) インターロック(PLC)信号取り合い点は、図 11に示すようにハッチ外に設けるラック内及び架台脚部のPLC中継端子台とする。 (3) 制御機器と、ラック内及び架台脚部のPLC中継端子台間の配線を行うこと。 特記事項(1) PLC中継端子台での端子台番号は量研担当者の指示に従うこと。 i) 測温抵抗体用ケーブル概要光学素子の温度計測のために測温抵抗体用ケーブルを光学素子真空容器近辺に設置した多点計測モジュールまでの配線作業を行う。 仕様(1) 配線に必要なケーブル、コネクター等を含むこと。 (2) 多点計測モジュールは支給する。 製作した真空容器等を現地の指定場所へ搬入し据付調整、真空排気、光学素子の設置、アライメント調整、駆動機構の動作確認等を行う。 所望のビームライン性能を得るために機器を指定の位置に高精度に設置する。 a) 基準マーク、1式b) 真空容器の設置、1式c) 調整機構の精密設置、1式d) 機械原点、駆動範囲確認、1式e) 光学素子の取付け、1式f) レーザーアライメント、1式g) 真空立ち上げ、1式a) 共通事項据付調整に関する手順書を作成すること。 手順書は図面を用いて簡潔かつ具体的に記すこと。 支給及び貸与物品においても、現地での据付、結線、真空排気を行うこと。 b) 基準マーク概要据付調整等に必要な基準点を示す基準マークを貼付する。 仕様126 / 142(1) 光軸上(床面及び水平レベル)には基準マークを5 mよりも細かい間隔で打つこと。 (2) 基準マークは、0.2 mm以下の線幅で十字が切られたシールとする。 マークには個別の識別番号を付し、マークを貼った箇所を図面で記すこと。 (3) マークを貼る際には、本施設側から渡される基準点を親とし、何次転写であるかを現場マーク及び図面上で明示すること。 (4) シールが容易に剥がれないように保護カバーをつけること。 (5) 光学素子調整機構、出口スリット、四象限スリット、アパーチャー及びモニター類については、光軸上及び光軸直角方向に対して 2 点以上のマークを貼ること。 機器設置後にも機器中心点が光軸上及び光軸直角方向から望むことにより、機器中心位置を確認できること。 c) 真空容器の設置概要真空容器をビームライン上の指定する位置に高精度に設置する。 仕様(1) 真空容器用架台は光軸に沿って所定位置に±2 mmの精度で設置し、アンカーボルトで固定すること。 (2) 真空容器の入射出射フランジ中心は±0.2 mmの精度で設置し、固定すること。 (3) 真空容器のフランジセンターを示す冶具については、ICF70、114、152 サイズについてこれを含むこと。 その他特殊サイズについても、使用する場合はこれを含むこと。 (4) NEG ポンプ等を含む真空容器においては、ポンプの性能を劣化させないために真空による封じ切りが速やかに行えるような荷姿とする。 このために、ポンプの組み付けをあえて避けるように指示する場合がある。 このとき、ポンプ単体封じ切り状態での動作試験によってポンプのリークチェックの代替とする場合がある。 (5) ガンマストパー、真空ダクトについてはこれに準拠すること。 特記事項(1) 精密機器を設置する床面にコールドジョイント対策を施す場合があるが、これは本仕様の範囲外とする。 d) 光学素子ホルダー及び駆動機構の精密設置概要光学素子ホルダー及び駆動機構(以下「調整機構」という。 )を所定の精度で各光学素子真空容器に精密に設置する。 仕様(1) 調整機構は±0.1 mmの精度で設置すること。 (2) 調整機構は所定の偏角、高さへ調整し設置すること。 この位置を機械原点と定める。 (3) 据付調整は、ダミーの鏡(アルミニウム製ブロック、中心線にケガキあり)を用いること。 (4) スリット、アパーチャー、モニター等の精密設置も調整機構のそれに準ずること。 その場合、機器の中心位置(高さ、方向)のケガキ線を基準として機械原点を定めるものとする。 127 / 142(5) 真空排気、フランジ締結による変動を考慮し、これが極力低減されるように工夫すること。 なお、真空排気、フランジ締結に掛かる作業を進める中で協議の上、手順を確定させる。 e) 機械原点、駆動範囲確認概要光学素子を取り付けた状態でレーザーアライメントを行う際の目安とすることを目的に、手動・電動の全ての軸の機械原点及び駆動範囲限界を与える位置等を記録した一覧表及び図面を作成する。 仕様(1) 機械原点を与える位置を記録し、一覧表及び図面に付与して提出すること。 なお、この数値は、後に光学素子を取り付けた状態でレーザーアライメントを行う際の目安とするものである。 1) 手動の全ての軸について、機械原点を与えた寸法等を表に軸名とともに明記し、提出すること。 2) 電動の全ての軸について、機械原点を与えたパルス数に加え、メカのおおよその位置をノギス、マイクロメーター等で計測した数値を表に軸名とともに明記し、提出すること。 3) 当該調整機構の確認図に、寸法を計測した位置を明示すること。 (2) 範囲限界を与える位置を記録し、一覧表及び図面に付与して提出すること。 1) 手動の全ての軸について、範囲限界を与えた寸法等を表に軸名とともに明記し、提出すること。 2) 電動の全ての軸について、範囲限界を与えたパルス数に加え、メカのおおよその位置をノギス、マイクロメーター等で計測した数値を表に軸名とともに明記し、提出すること。 3) 当該調整機構の確認図に、寸法を計測した位置を明示すること。 (3) 作成した一覧表及び図面は試験検査成績書の別添として提出すること。 f) 光学素子の取付け概要調整機構の精密設置に準じ、光学素子を光学素子ホルダーに取り付けた後、駆動機構に設置する。 仕様(1) 次の光学素子を取付対象とする。 1) 第一光学素子(M0)2) 第二光学素子(M1)3) 偏角可変平面鏡(M2)4) 回折格子(G1、G2(ダミー)、G3(ダミー))(2) 光学素子の側面と冷却板に挟み込む金属性シールは必要員数を用意すること。 (3) 光学素子の取付作業は量研担当者が行うが、その支援をすること。 128 / 142(1) 光学素子の取付作業時には、マスク、帽子、手袋、無塵衣を装着し、光学素子の表面に埃、油分等が極力付着しないように配慮すること。 g) レーザーアライメント概要ダミーミラーや光学素子を光学素子真空容器に設置した状態でレーザー光を用いて精密にアライメントを行う。 仕様(1) レーザーアライメントは光学素子を取り付けた状態で行うこと。 (2) 光学ハッチ内の第一光学素子上流基準点から導入されたレーザー光を下流の光学素子、モニター類、出口スリットまでを通すこと。 状況によっては、真空セクションごとにレーザー光でのアライメントを行うこと。 また、この時の各機器の位置を光学原点とする。 また、この時の各機器の位置を光学原点とする。 (3) 光学原点の位置は、機械原点及び駆動範囲限界を与える位置等を記録した一覧表及び図面に明記すること。 その際、計測条件も併せて付記すること。 (4) レーザーの屈折の影響が無視できる範囲でビューポートを介して良いが、極力真空状態での計測が望ましい。 (5) 偏角可変平面鏡(M2)と回折格子の駆動範囲においてアライメントされていることを確認すること。 (6) レーザートランシット、鉛直器等の測長器を固定するレーザーアライメント用固定式台を製作し所定の位置にアンカー止めすること。 (7) 固定式台は、レーザートランシットを固定式台から取り外した際、容易に真空ダクト等を通すことができる構造であること。 なお、真空ダクト用ポストと兼用することを妨げない。 特記事項(1) 固定式台のサイズ、固定方法、設置場所等の詳細については別途協議の上で決定する。 h) 真空立ち上げ概要真空立ち上げは、光学素子の設置、真空容器及び真空ダクトの接続、冷却水配管、ベーク機器、排気ポンプ等の取付け、電気配線等が完了した後、真空引きとベーキングの準備行為までを行う。 仕様(1) 光学素子装着前1) ベーキングは駆動機構等へ影響を及ぼすような温度とならないようにすること。 (2) 光学素子装着後1) ベーキングを実施する前に、駆動機構の動作確認を完了すること。 2) ベーキングを実施中、光学素子自体の温度が100℃以下を厳守すること。 3) ベーキング終了後、各真空容器の真空度が次の目標値を達成していることが望ましい。 i. 第一光学素子真空容器(VM0)：5E-8 Pa以下ii. 第二光学素子真空容器(VM1)：5E-8 Pa以下129 / 142iii. 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)：5E-8 Pa以下iv. 上記以外の真空容器、真空ダクト：5E-7 Pa以下特記事項(1) ベーキング後の真空度が目標値から大きく乖離している場合、リークテスターによるリークチェック、追加のベーキング等を要求する場合がある。 (2) 残留ガス分析を要求する場合がある。 受注者は、別途定める試験検査要領書に従って試験検査を行い、その結果について試験検査成績書等にまとめて提出する。 a) 員数試験b) 外観試験c) 寸法試験d) 調整機構駆動試験第一光学素子多軸調整機構(TRM0)駆動試験第二光学素子多軸調整機構(TRM1)駆動試験偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)駆動試験偏角可変平面鏡並進機構(TM2)駆動試験回折格子回転走査機構(RG)駆動試験回折格子切替機構(TG)駆動試験出口スリット駆動試験e) リークチェック、1式f) ベーキングヒーター通電・絶縁試験、1式g) 据付精度試験、1式a) 共通事項試験検査成績書には次の項目を明記すること。 (1) 試験内容(2) 試験機材名(3) 試験時の条件等(4) 試験結果(5) 合格基準(6) 合否判定(7) 記録者の氏名(8) 承認者の氏名試験にあたり、出荷前試験、現地試験の場所に関わらず必要に応じて現場写真を求める場合がある。 試験風景をデジタルカメラ等で撮影し提出すること。 130 / 142b) 員数試験員数が揃っていることを目視により確認すること。 組付調整済み又は真空・窒素封入されている箇所に関しては、調整、封入前の確認で代用する場合がある。 c) 外観試験外観に打こん、損傷等の異常がないことを目視確認すること。 員数試験に準ずる。 d) 寸法試験対象項目については別途協議の上、決定する。 a) 共通項目次世代放射光施設標準コントローラーと実際に当該機器を運転するために使用するモータードライバーによって動作確認を行うこと。 全軸の駆動範囲は協議の上詳細を決定する手順に則って試験すること。 出来る限り現地試験とするが、やむをえず出荷試験とする場合でも、現地においても確認を求める場合がある。 通電時異常がないこと、動作方向の確認、変位量等、設計どおりの動きが実現されていることは、予め工場にて試験の上、記録に留め、出荷すること。 パルスあたりの送り設計量又はエンコーダー値を予め以下の位置に対する数値として表にまとめ、実際の送りパルス数を確認すること。 (1) 実使用状態に近い負荷をかけた状態とする。 (2) 3往復駆動し、方向に規定がある場合には、順方向及び逆方向について分けて記録をとること。 b) 第一光学素子多軸調整機構(TRM0)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 仕様(1) 光学原点位置(2) ハードウェアリミット位置(両端)c) 第二光学素子多軸調整機構(TRM1)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 仕様(1) 光学原点位置(2) ハードウェアリミット位置(両端)d) 偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数、エンコーダー値をあわせて記す。 仕様(1) 鏡面水平保持位置131 / 142(2) 最低エネルギー偏角位置(3) ハードウェアリミット位置(両端)e) 偏角可変平面鏡並進機構(TM2)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 仕様(1) 光学原点位置(2) ハードウェアリミット位置(両端)f) 回折格子回転走査機構(RG)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数、エンコーダー値をあわせて記す。 仕様(1) 鏡面水平保持位置(2) 最低エネルギー偏角位置(3) ハードウェアリミット位置(両端)g) 回折格子切替機構(TG)駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 仕様(1) 退避位置(2) 各挿入位置(3)(4) ハードウェアリミット位置(両端)h) 出口スリット駆動試験概要以下の位置まで3往復駆動し、各パルス数を確認する。 仕様(1) 原点センサー位置(2) ハードウェアリミット位置(両端)(3) 全閉位置(4) 開口幅再現性1) パルスを横軸、縦軸に光量を記し、10往復駆動に対して再現性を確認すること。 i) リークチェック概要指定するリークテスターを用いて真空容器、真空ダクト等の溶接個所、接続箇所が所定のリーク量以下であることを検査する。 仕様(1) プローブ：ヘリウム(支給品)(2) 試験方法：ヘリウム真空吹き付け法132 / 142(3) 試験機器：次世代放射光施設標準型リークテスター(支給品)(4) リーク量：5×10−11 Pa·m3/s以下j) ベーキングヒーター通電・絶縁試験対象項目については別途協議の上、決定する。 k) 据付精度試験環境計測を含めた対象項目については別途協議の上、決定する。 133 / 142図 11 ビームライン13Uの全景の概略図(参考図)134 / 142図 12 13Uの光源から出口スリットまでの光学素子の配置図(参考図)33真空 クション135 / 142図 13 13Uの回折格子G(600本/mm)と偏角可変平面鏡(M2)の配置関係(参考図)図 14 偏角可変平面鏡・回折格子真空容器(VM2G)に設置するポート(一部)の概略図(参考図)・回折格子真空容器(VM2G)Gzxy退避0次次M2出射軸アライメントポート高次光アライメント用ポート(兼出射軸ポート)入射軸ポート入射軸アライメントポートスクリ ン1次視レ ザガス導入ポート136 / 142表 33 13Uで使用する光学素子(反射鏡)の仕様一覧(参考)名称第一光学素子 第二光学素子 偏角可変平面鏡記号 M0 M1 M2形状 円筒鏡 円筒鏡 平面鏡曲率半径 Tan mm 5E+07以上 1,030,160(±1%) 1E+08以上Sag mm 322.8(±1%) 5E+07以上 1E+08以上IDからの距離 mm 20,000 22,000 -入射角 ° 89 89 G1: K=85.865～88.98G2: K=87.46～89.085基板物質 Si(100) Si(100) Si(100)有効領域 長さ mm 190以上 210以上 340以上幅 mm 6以上 19以上 28以上外形寸法 長さ mm 230(±0.1) 230(±0.1) 360(±0.1)幅 mm 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1)厚さ mm 50(±0.1) 50(±0.1) 50(±0.1)員数 1 1 1反射面の向き 水平 水平 鉛直方向上向き冷却 水冷 水冷 水冷側面研磨 あり あり あり側面の溝加工 なし なし あり137 / 142表 34 13Uで使用する光学素子(回折格子)の仕様一覧(参考)名称 回折格子 回折格子記号 G1 G2形状 平面回折格子 平面回折格子曲率半径 mm 1E+08以上 1E+08以上mm 1E+08以上 1E+08以上IDからの距離 mm 26,000 26,000偏角 ° 2K=171.73～177.96 2K=174.92～178.17基板物質 Si(100) Si(100)刻線密度 N0 1/mm 600 150有効領域 長さ mm 65以上 65以上幅 mm 19 19外形寸法 長さ mm 75(±0.1) 75(±0.1)幅 mm 50(±0.1) 50(±0.1)厚さ mm 50(±0.1) 50(±0.1)員数 1 1反射面の向き 鉛直下向き 鉛直下向き冷却 水冷 水冷側面研磨 あり あり側面の溝加工 あり あり138 / 142表 35 13Uにおける真空セクション一覧(参考)流量計出力 入力DC24V 接点信号 真空度開 閉SetPointGaugeError既設 VG4 仕様外ゲ バ ブ 支給 GV4前置集 製作 M0 ― ― ―WTR(温度計)― ― ―M 冷却水(MBS閉)―#1(モーター)架台脚部(流量計)X 、X 、Y 、Y 、Y3コンプ ンシ ド 製作 CS ― ― ― WTR ― ― ―CS冷却水MBS閉― 架台脚部真空ゲージ 支給 tVG01 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1 ―ゲ バ ブ 支給 tGV01 DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValveMBS閉B 架台脚部 ―デュア モニタ 製作 DM01DRV1DRV2OPUpperLowerWTR(温度計)― ― ―DM01(MBS閉)D 架台脚部 ―真空ゲージ 支給 tVG02 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #1 ―ガンマス パ 製作 GS ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―ゲ バ ブ 支給 tGV02 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(MBS閉)B 架台脚部 ―前置集 製作 M1 ― ― ―WTR(温度計)― ― ―M 冷却水(MBS閉)―#1(モーター)架台脚部(流量計)X 、X 、Y 、Y 、Y3真空ゲージ 支給 tVG03 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― #1 ―ゲ バ ブ 支給 tGV03 DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValveMBS閉B 架台脚部 ―デュア モニタ 製作 DM02DRV1DRV2OPUpperLowerWTR(温度計)― ― ―DM02(MBS閉)D 架台脚部 ―アブソ バ 製作 tABS01 DRV OP CLWTR(温度計)― ― ―tABS 冷却水MBS閉C 架台脚部 ―ギ ン 範囲外 GU ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―真空ゲージ 支給 tVG04 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #1ゲ バ ブ 支給 tGV04 DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉B 架台脚部 ―四象限スリ 製作 4DS01 ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―量モニタ 製作 FM01 DRV OP CL WTR ― ― ―FM 冷却水(tABS 閉)C 架台脚部 ―真空ゲージ 支給 tVG05 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC #1 ―ゲ バ ブ 支給 tGV05 DRV OP CL ― ― ― ―Gate ValvetABS 閉B 架台脚部 ―製作 M2 ― ― ― WTR ― ― ―M 冷却水(tABS 閉)―#1(モーター)架台脚部(流量計)X, Ptich製作 G ― ―１ ２ ３WTR ― ― ―G冷却水(tABS 閉)―#1(モーター)架台脚部(流量計)X, Ptich真空ゲージ 支給 tVG06 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC #1 ―ゲ バ ブ 支給 tGV06 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)D 架台脚部 ―真空ゲージ 支給 tVG07 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC ― ― #2 ―アパーチャー 製作 APH01 ― ― ― ― ― ― ― ― ― #2 Xアパーチャー 製作 APV01 ― ― ― ― ― ― ― ― ― #2 Yゲ バ ブ 支給 tGV07 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)D 架台脚部垂直出口スリ 製作 S2V ― ― ― ― ― ― ― ― ― #2 Width水 出口スリ 製作 S2H ― ― ― ― ― ― ― ― ― #2 Width, X量モニタ 製作 FM02 DRV OP CL ― ― ― ― ― C 架台脚部 ―真空ゲージ 支給 tVG08 ― ― ― ― S1,S2 ERR VAC #2 ―ゲ バ ブ 支給 tGV08 DRV OP CL ― ― ― ―Gate Valve(tABS 閉)D 架台脚部 ―主排気 粗引き4真空クション機器名称製作または支給区分個別機器記号6 TC NEG 搬5 OP IP&NEG 常設パ スモ タ真空度クラス真空ポンプ 駆動機構 真空ゲ ジ端 盤入力 入力インタ ク信号接点信号 接点信号光負荷保護属性有無(有の場合の保護機器)駆動接点機器保護のタイプ8 TC NEG 搬7 OP IP&NEG 常設11 TCIP&NEGorIP搬9 TC NEG 搬IP&NEG OP 常設 1012 OP IP&NEG 搬139 / 142表 36 13Uにおける水冷式偏角可変平面鏡調整ホルダー(HM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ― ― ― ―y 鉛直移動 ±2 mm以上 0.07 mm以下 0.2 mm以下 手動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ヨー ― ― ― ―Rz ロール ±0.5°以上 75μrad以下 150μrad以下 手動表 37 13Uにおける水冷式回折格子調整ホルダー(HG1、HG2、HG3)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ― ― ― ―y 鉛直移動 ±2 mm以上 0.07 mm以下 0.2 mm以下 手動z 前後移動 ― ― - ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ヨー ±0.5°以上 0.3 mrad以下 1.5 mrad以下 手動Rz ロール ±0.5°以上 75μrad以下 150μrad以下 手動表 38 13Uにおける第一光学素子多軸調整機構(TRM0)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 －7～+3 mm以上 0.5μm以内 5μm以内 電動y 鉛直移動 ±5 mm以上 0.5μm以内 5μm以内 電動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ヨー ±0.5°以上 20μrad以内 50μrad以内 電動Ry ピッチ ±0.5°以上 2.5μrad以内 20μrad以内 電動Rz ロール ±0.5°以上 20μrad以内 50μrad以内 電動140 / 142表 39 13Uにおける第二光学素子多軸調整機構(TRM1)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 －7～+3 mm以上 0.5μm以内 5μm以内 電動y 鉛直移動 ±10 mm以上 0.5μm以内 10μm以内 電動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ヨー ±0.5°以上 20μrad以内 50μrad以内 電動Ry ピッチ ±0.5°以上 2.5μrad以内 20μrad以内 電動Rz ロール ±0.5°以上 20μrad以内 50μrad以内 電動表 40 13Uにおける偏角可変平面鏡回転走査機構(RM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ― ― ― ―y 鉛直移動 ― ― ― ―z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ －1°～+8°以上※ 0.1μrad以内 5μrad以内 電動Ry ヨー ― ― ― ―Rz ロール ― ― ― ―※ Rxの可動幅は、M2における法線が鉛直上向き(+y)の時を原点として測った角度。 表 41 13Uにおける偏角可変平面鏡並進機構(TM2)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ±15 mm以上 10μm以内 20μm以内 電動y 鉛直移動 ― ― ― ―z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ヨー ― ― ― ―Rz ロール ― ― ― ―141 / 142表 42 13Uにおける13Uにおける回折格子回転走査機構(RG)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ― ― ― ―y 鉛直移動 ― ― ― ―z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ －1°～+8°以上 0.05μrad以内 2.5μrad以内 電動Ry ヨー ― ― ― ―Rz ロール ― ― ― ―※ Rxの可動幅は、回折格子の法線が鉛直下向き(－y)の時を原点として測った角度。 表 43 13Uにおける回折格子切替機構(TG)の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ※ 10μm以内 20μm以内 電動y 鉛直移動 ― ― ― ―z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ヨー ― ― ― ―Rz ロール ― ― ― ―※ 可動幅は、全ての回折格子の照射有効領域に定常的に放射光を導くことができる範囲とし、別途協議の上決定する。 表 44 13Uにおけるスリットブレードの開口幅の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 1 mm以上※ 0.05μm以内 0.5μm以内 電動y 鉛直移動 1 mm以上※ 0.05μm以内 0.5μm以内 電動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ロール ― ― ― ―Rz ヨー ― ― ― ―※ 可動幅は全閉できること。 142 / 142表 45 スリット開口中心位置の位置調整機構の可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 ±1 mm以上 0.5μm以内 0.5μm以内 電動y 鉛直移動 ±1 mm以上 0.07 mm以下 0.2 mm以下 手動z 前後移動 ±100 mm以上 0.1 mm以内 0.2 mm以内 電動Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ロール ― ― ― ―Rz ヨー ±1°以上 75μrad以下 150μrad以下 手動表 46 四象限スリットブレードの可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 －5/+10 mm※ 10μm以内 20μm以内 手動y 鉛直移動 －5/+10 mm※ 10μm以内 20μm以内 手動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ロール ― ― ― ―Rz ヨー ― ― ― ―※ 可動幅は光軸から最も退避させた時を原点とし、中心を超えて5 mm、最大開口30mmとする。 表 47 アパーチャーブレードの可動幅、最小可変量及び繰返精度軸名 機能 可動幅 最小可変量 繰返精度 駆動方法x 水平移動 20 mm以上※ 0.05μm以内 5μm以内 電動y 鉛直移動 20 mm以上※ 0.05μm以内 5μm以内 電動z 前後移動 ― ― ― ―Rx ピッチ ― ― ― ―Ry ロール ― ― ― ―Rz ヨー ― ― ― ―※ 可動幅は光軸から最も退避させた時を原点とする。 以上(要求者)部課(室)名 ： 次世代放射光施設整備開発センター高輝度放射光研究開発部 ビームライングループ氏名 ： 今園孝志